一種均勻性的多弧離子鍍膜設(shè)備的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種均勻性的多弧離子鍍膜設(shè)備，包括多弧靶、真空室、設(shè)置在真空室內(nèi)的路軌和架體；所述的架體上設(shè)有支撐件、中心軸、回轉(zhuǎn)盤；用于支撐架體的支撐件移動式地安裝在路軌上，回轉(zhuǎn)盤套裝在中心軸上，回轉(zhuǎn)盤上設(shè)有相對回轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動的自轉(zhuǎn)軸，自轉(zhuǎn)軸上設(shè)有夾具，安裝在真空室上的多弧靶朝向夾具。鍍膜設(shè)備還包括直線驅(qū)動機構(gòu)，真空室上設(shè)有第二密封裝置，所述的直線驅(qū)動機構(gòu)穿過第二密封裝置與架體相接。所述的液壓缸穿過第二密封裝置連接在伸出臂上，液壓缸的活塞桿的端部設(shè)有用于抓緊伸出臂的抓爪。本發(fā)明能實現(xiàn)工件鍍膜均勻度的修正，提高了產(chǎn)品整體的品質(zhì)，屬于真空鍍膜的技術(shù)領(lǐng)域。
【專利說明】
一種均勻性的多弧離子鍍膜設(shè)備
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及鍍膜的技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種均勻性的多弧離子鍍膜設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有技術(shù)的鍍膜方法和設(shè)備，采用多個多弧靶為分組排列，多弧靶的靶材與靶材之間錯位安裝，有一定距離，導(dǎo)致多弧靶的靶材正對工件的位置比旁邊位置的工件膜層的厚度不一致，且厚度差距較大，即使采用工件偏壓來增強厚度的均勻性，但實際效果不理想，只能采用由多弧靶鍍膜打底的方式，再采用磁控濺射靶來鍍膜，從而確保均勻度，但這樣導(dǎo)致生產(chǎn)效率低，生產(chǎn)成本高，產(chǎn)品市場的競爭力不強。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題，本發(fā)明的目的是:提供一種均勻性的多弧離子鍍膜設(shè)備，能實現(xiàn)工件鍍膜均勻度的修正，提高了產(chǎn)品整體的品質(zhì)。
[0004]為了達到上述目的，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:
[0005]—種均勻性的多弧離子鍍膜設(shè)備，包括多弧靶、真空室、設(shè)置在真空室內(nèi)的路軌和架體;所述的架體上設(shè)有支撐件、中心軸、回轉(zhuǎn)盤;用于支撐架體的支撐件移動式地安裝在路軌上，回轉(zhuǎn)盤套裝在中心軸上，回轉(zhuǎn)盤上設(shè)有相對回轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動的自轉(zhuǎn)軸，自轉(zhuǎn)軸上設(shè)有夾具，安裝在真空室上的多弧靶朝向夾具。在回轉(zhuǎn)盤的轉(zhuǎn)動、自轉(zhuǎn)軸相對回轉(zhuǎn)盤的轉(zhuǎn)動、架體的前后移動，這三種運動使得多弧靶能對夾具上的工件進行均勻地鍍膜，且工件上鍍的膜層均勻性好。
[0006]進一步的是:鍍膜設(shè)備還包括直線驅(qū)動機構(gòu)，真空室上設(shè)有第二密封裝置，所述的直線驅(qū)動機構(gòu)穿過第二密封裝置與架體相接?？勺尲荏w沿著路軌前后移動。
[0007]進一步的是:所述的直線驅(qū)動機構(gòu)為液壓缸，所述的架體上設(shè)有伸出臂，所述的液壓缸穿過第二密封裝置連接在伸出臂上，液壓缸的活塞桿的端部設(shè)有用于抓緊伸出臂的抓爪。液壓缸通過伸出臂推動架體前后移動。
[0008]進一步的是:鍍膜設(shè)備還包括回轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)，所述的回轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)通過公轉(zhuǎn)組件驅(qū)動回轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動，回轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)通過自轉(zhuǎn)組件驅(qū)動自轉(zhuǎn)軸相對回轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動?；剞D(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)通過公轉(zhuǎn)組件和自轉(zhuǎn)組件實現(xiàn)回轉(zhuǎn)盤的轉(zhuǎn)動和自轉(zhuǎn)軸相對回轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動。
[0009]進一步的是:所述的回轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)包括傳動軸、用于驅(qū)動傳動軸轉(zhuǎn)動的電機、轉(zhuǎn)動軸;所述的傳動軸上設(shè)有咬合凹盤，隨架體移動的轉(zhuǎn)動軸上設(shè)有與咬合凹盤相適應(yīng)的咬合凸盤，所述的轉(zhuǎn)動軸通過公轉(zhuǎn)組件驅(qū)動回轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動，所述的轉(zhuǎn)動軸通過自轉(zhuǎn)組件驅(qū)動自轉(zhuǎn)軸相對回轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動。
[0010]進一步的是:所述的傳動軸上設(shè)有彈簧，套裝在傳動軸上的彈簧的一端固定在咬合凹盤上，另一端固定在傳動軸上;所述的咬合凹盤滑動式地安裝在傳動軸上?？杀ＷC咬合凸盤和咬合凹盤始終相互咬合。
[0011]進一步的是:所述的傳動軸上設(shè)有鍵槽，咬合凹盤通過鍵滑動式安裝在傳動軸上。咬合凹盤可在傳動軸上滑動。
[0012]進一步的是:所述的真空室內(nèi)設(shè)有用于支撐轉(zhuǎn)動軸的定位板。定位板可以使轉(zhuǎn)動軸保持在應(yīng)有位置，使轉(zhuǎn)動軸的軸線保持不變，轉(zhuǎn)動軸不會上下晃動。
[0013]進一步的是:所述的電機和傳動軸之間設(shè)有第一密封裝置。由于回轉(zhuǎn)盤等為帶電體，設(shè)置了第一密封裝置后，可以使得真空室不帶電。
[0014]進一步的是:所述的自轉(zhuǎn)軸設(shè)有多個，多個自轉(zhuǎn)軸沿著回轉(zhuǎn)盤的圓周方向均勻布置。
[0015]總的說來，本發(fā)明具有如下優(yōu)點:
[0016]1.本發(fā)明的多弧離子鍍膜設(shè)備，因能大幅度提升多弧離子鍍膜的均勻性，減少了膜層斑馬條紋等缺陷。
[0017]2.本發(fā)明不需要采用多弧靶鍍膜打底，再用磁控濺射靶來鍍膜，能大幅節(jié)省鍍膜時間，提高生產(chǎn)效率。
[0018]3.本發(fā)明鍍膜設(shè)備簡單，不用多弧靶與磁控靶合并使用，生產(chǎn)周期短，節(jié)約生產(chǎn)成本，提尚廣品性價比。
[0019]4.本發(fā)明設(shè)置的直線驅(qū)動機構(gòu)，能實現(xiàn)架體的前后移動。
[0020]5.本發(fā)明設(shè)置的回轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)，能實現(xiàn)回轉(zhuǎn)盤的轉(zhuǎn)動和自轉(zhuǎn)軸相對回轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動。
【附圖說明】
[0021]圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0022]圖2是圖1A處的放大圖。
[0023]圖3是圖1B處的放大圖。
[0024]其中，I為抽真空機組，2為多弧靶，3為真空室，4為電機，5為第一密封裝置，6為傳動軸，7為轉(zhuǎn)動軸，8為定位板，9為液壓缸，10為第二密封裝置，11為液壓缸的活塞桿，12為抓爪，13為伸出臂，14為行走輪，15為絕緣支撐裝置，16為路軌，17為支撐件，18為中心軸，19為回轉(zhuǎn)盤，20為自轉(zhuǎn)軸，21為夾具，22為自轉(zhuǎn)主動齒輪，23為自轉(zhuǎn)被動齒輪，24公轉(zhuǎn)主動齒輪，25為彈簧，26為咬合凹盤上的孔，27為咬合凹盤，28為咬合凸盤，29為咬合凸盤上的桿，30為傳動軸上的鍵槽。
【具體實施方式】
[0025]下面將結(jié)合附圖和【具體實施方式】來對本發(fā)明做進一步詳細的說明。
[0026]圖1為從前視方向(這里說的前視方向為投影時的方位)投影得到的圖，為敘述方便，下文所說的上下前后方向與圖1本身的上下右左方向一致，下文所說的左右方向與圖1投影關(guān)系的后前方向一致，。
[0027]結(jié)合圖1所示，一種均勻性的多弧離子鍍膜設(shè)備，包括多弧靶、真空室、抽真空機組、設(shè)置在真空室內(nèi)的路軌和架體;抽真空機組安裝在真空室的上端，多弧靶有多個，多弧靶安裝在真空室的上端。所述的架體(圖中未示出)上設(shè)有支撐件、中心軸、回轉(zhuǎn)盤;支撐件、中心軸、回轉(zhuǎn)盤均安裝在架體上，中心軸設(shè)置在架體的中心位置。用于支撐架體的支撐件移動式地安裝在路軌上，支撐件有4個，兩個支撐件安裝在架體后部的左右兩側(cè)，其余兩個支撐件安裝在架體前部的左右兩側(cè);支撐件的下端設(shè)有行走輪，行走輪在路軌上前后移動;行走輪的上方安裝有絕緣支撐裝置，絕緣支撐裝置可以將回轉(zhuǎn)盤等帶電體和行走輪絕緣起來，回轉(zhuǎn)盤、中心軸、自轉(zhuǎn)軸等為帶電體，行走輪和路軌不帶電?；剞D(zhuǎn)盤套裝在中心軸上，回轉(zhuǎn)盤有兩個，一個回轉(zhuǎn)盤套裝在中心軸的前部，另一個回轉(zhuǎn)盤套裝在中心軸的后部?；剞D(zhuǎn)盤上設(shè)有相對回轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動的自轉(zhuǎn)軸，自轉(zhuǎn)軸的前端連接在前邊的回轉(zhuǎn)盤上，自轉(zhuǎn)軸的后部連接在后邊的回轉(zhuǎn)盤上。自轉(zhuǎn)軸上設(shè)有夾具，工件安裝在夾具的圓周表面上，安裝在真空室上的多弧靶的靶材朝向夾具，工件安裝在夾具上。
[0028]鍍膜設(shè)備還包括直線驅(qū)動機構(gòu)，真空室上設(shè)有第二密封裝置，第二密封裝置安裝在真空室后部的下方，第二密封裝置的一部分位于真空室內(nèi)，一部分位于真空室外，所述的直線驅(qū)動機構(gòu)穿過第二密封裝置與架體相接。
[0029]所述的直線驅(qū)動機構(gòu)為液壓缸，所述的架體上設(shè)有伸出臂，伸出臂設(shè)置在架體后部的中間位置，且伸出臂設(shè)置在架體的下部，所述的液壓缸穿過第二密封裝置連接在伸出臂上，即液壓缸的一部分位于第二密封裝置的內(nèi)部，結(jié)合圖3所示，液壓缸的活塞桿的端部設(shè)有用于抓緊伸出臂的抓爪，即液壓缸的活塞桿的前端設(shè)有抓爪。由于伸出臂位于架體后部左右居中的位置，液壓缸通過伸出臂推動架體前后運動時，架體能平穩(wěn)移動。當(dāng)伸出臂向后運動，伸出臂碰觸到抓爪時，抓爪能抓緊伸出臂，從而液壓缸的活塞桿可以推動架體前后運動。直線驅(qū)動機構(gòu)也可以為氣動缸，相應(yīng)的，活塞桿應(yīng)為氣動桿。
[0030]鍍膜設(shè)備還包括回轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)，所述的回轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)通過公轉(zhuǎn)組件驅(qū)動回轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動，回轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)通過自轉(zhuǎn)組件驅(qū)動自轉(zhuǎn)軸相對回轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動。
[0031 ]所述的回轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)包括傳動軸、用于驅(qū)動傳動軸轉(zhuǎn)動的電機、轉(zhuǎn)動軸;所述的傳動軸上設(shè)有咬合凹盤，隨架體移動的轉(zhuǎn)動軸上設(shè)有與咬合凹盤相適應(yīng)的咬合凸盤，咬合凸盤設(shè)置在轉(zhuǎn)動軸的后端，轉(zhuǎn)動軸可以轉(zhuǎn)動式安裝在架體上，咬合凹盤和咬合凸盤相互咬合時，傳動軸的轉(zhuǎn)動可以帶動轉(zhuǎn)動軸的轉(zhuǎn)動，咬合凹盤上設(shè)有多個孔，咬合凸盤上設(shè)有多根桿，咬合凸盤上的桿可以插入咬合凹盤上的孔內(nèi)。所述的轉(zhuǎn)動軸通過公轉(zhuǎn)組件驅(qū)動回轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動，所述的轉(zhuǎn)動軸通過自轉(zhuǎn)組件驅(qū)動自轉(zhuǎn)軸相對回轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動。一種公轉(zhuǎn)組件和自轉(zhuǎn)組件的實現(xiàn)方式是:公轉(zhuǎn)組件包括公轉(zhuǎn)主動齒輪和公轉(zhuǎn)被動齒輪，公轉(zhuǎn)主動齒輪設(shè)置在轉(zhuǎn)動軸的前端，公轉(zhuǎn)被動齒輪(圖中未標(biāo)出)設(shè)置在回轉(zhuǎn)盤上，公轉(zhuǎn)主動齒輪和公轉(zhuǎn)被動齒輪的相互嚙合可以驅(qū)動回轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動。自轉(zhuǎn)組件包括自轉(zhuǎn)主動齒輪和自轉(zhuǎn)被動齒輪，自轉(zhuǎn)主動齒輪設(shè)置在轉(zhuǎn)動軸上，自轉(zhuǎn)主動齒輪位于公轉(zhuǎn)主動齒輪的后面，自轉(zhuǎn)被動齒輪設(shè)置在自轉(zhuǎn)軸的后端，自轉(zhuǎn)主動齒輪和自轉(zhuǎn)被動齒輪的相互嚙合可以驅(qū)動自轉(zhuǎn)軸相對回轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動。當(dāng)然也可以通過其他方式實現(xiàn)回轉(zhuǎn)盤的轉(zhuǎn)動和自轉(zhuǎn)軸相對回轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動。轉(zhuǎn)動軸作為動力源，用于驅(qū)動回轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動(公轉(zhuǎn))和自轉(zhuǎn)軸相對回轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動(自轉(zhuǎn))，自轉(zhuǎn)組件和公轉(zhuǎn)組件可以是其他相應(yīng)的鏈傳動機構(gòu)或者皮帶輪轉(zhuǎn)動機構(gòu)等。
[0032]所述的傳動軸上設(shè)有彈簧，套裝在傳動軸上的彈簧的一端固定在咬合凹盤上，另一端固定在傳動軸上;所述的咬合凹盤滑動式地安裝在傳動軸上。
[0033]結(jié)合圖2所示，所述的傳動軸上設(shè)有鍵槽，咬合凹盤通過鍵滑動式安裝在傳動軸上。傳動軸上的鍵槽的長度應(yīng)合理設(shè)置，咬合凹盤通過鍵安裝在傳動軸上，咬合凹盤可沿著鍵槽滑動。
[0034]所述的真空室內(nèi)設(shè)有用于支撐轉(zhuǎn)動軸的定位板。由于轉(zhuǎn)動軸比較長，定位板可以使轉(zhuǎn)動軸保持在應(yīng)有位置，使轉(zhuǎn)動軸的軸線保持不變，轉(zhuǎn)動軸不會上下晃動。
[0035]所述的電機和傳動軸之間設(shè)有第一密封裝置。第一密封裝置為絕緣密封裝置，第一密封裝置和電機均位于真空室的外部，由于回轉(zhuǎn)盤等為帶電體，設(shè)置了第一密封裝置后，可以使得真空室不帶電。
[0036]所述的自轉(zhuǎn)軸設(shè)有多個，多個自轉(zhuǎn)軸沿著回轉(zhuǎn)盤的圓周方向均勻布置。同時，每個自轉(zhuǎn)軸上均設(shè)有夾具。為方便起見，圖1中只繪制出一個自轉(zhuǎn)軸。當(dāng)有多個自轉(zhuǎn)軸時，自轉(zhuǎn)主動齒輪應(yīng)能與每個自轉(zhuǎn)被動齒輪很好的相互嚙合。
[0037]使用該多弧離子鍍膜設(shè)備的方法是:架體沿著路軌向后運動，當(dāng)架體上的伸出臂碰觸到液壓缸的活塞桿上的抓爪后，抓爪將伸出臂抓緊，此時，液壓缸通過伸出臂推動架體前后運動。當(dāng)架體向后運動時，當(dāng)咬合凸盤和咬合凹盤相互咬合后，電機通過傳動軸帶動轉(zhuǎn)動軸轉(zhuǎn)動，轉(zhuǎn)動軸的轉(zhuǎn)動實現(xiàn)回轉(zhuǎn)盤的轉(zhuǎn)動和自轉(zhuǎn)軸相對回轉(zhuǎn)盤的轉(zhuǎn)動；當(dāng)架體向前運動時，由于此時，彈簧處于壓縮狀態(tài)，彈簧推動咬合凹盤向前滑動，從而使咬合凹盤和咬合凸盤始終處于相互咬合狀態(tài)，從而保證轉(zhuǎn)動軸轉(zhuǎn)動。在回轉(zhuǎn)盤的轉(zhuǎn)動、自轉(zhuǎn)軸相對回轉(zhuǎn)盤的轉(zhuǎn)動、架體的前后移動，這三種運動使得多弧靶能對夾具上的工件進行均勻地鍍膜，且工件上鍍的膜層均勻性好，能實現(xiàn)工件鍍膜均勻度的修正。
[0038]本發(fā)明的鍍膜設(shè)備適用于鍍制高級裝飾膜、合金膜或功能膜，廣泛用于建筑五金材料、手機或數(shù)碼產(chǎn)品、刀具或工具、陶瓷等行業(yè)。
[0039]上述實施例為本發(fā)明較佳的實施方式，但本發(fā)明的實施方式并不受上述實施例的限制，其他的任何未背離本發(fā)明的精神實質(zhì)與原理下所作的改變、修飾、替代、組合、簡化，均應(yīng)為等效的置換方式，都包含在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種均勻性的多弧離子鍍膜設(shè)備，其特征在于:包括多弧靶、真空室、設(shè)置在真空室內(nèi)的路軌和架體;所述的架體上設(shè)有支撐件、中心軸、回轉(zhuǎn)盤；用于支撐架體的支撐件移動式地安裝在路軌上，回轉(zhuǎn)盤套裝在中心軸上，回轉(zhuǎn)盤上設(shè)有相對回轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動的自轉(zhuǎn)軸，自轉(zhuǎn)軸上設(shè)有夾具，安裝在真空室上的多弧靶朝向夾具。2.按照權(quán)利要求1所述的一種均勻性的多弧離子鍍膜設(shè)備，其特征在于:鍍膜設(shè)備還包括直線驅(qū)動機構(gòu)，真空室上設(shè)有第二密封裝置，所述的直線驅(qū)動機構(gòu)穿過第二密封裝置與架體相接。3.按照權(quán)利要求2所述的一種均勻性的多弧離子鍍膜設(shè)備，其特征在于:所述的直線驅(qū)動機構(gòu)為液壓缸，所述的架體上設(shè)有伸出臂，所述的液壓缸穿過第二密封裝置連接在伸出臂上，液壓缸的活塞桿的端部設(shè)有用于抓緊伸出臂的抓爪。4.按照權(quán)利要求1所述的一種均勻性的多弧離子鍍膜設(shè)備，其特征在于:鍍膜設(shè)備還包括回轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)，所述的回轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)通過公轉(zhuǎn)組件驅(qū)動回轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動，回轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)通過自轉(zhuǎn)組件驅(qū)動自轉(zhuǎn)軸相對回轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動。5.按照權(quán)利要求4所述的一種均勻性的多弧離子鍍膜設(shè)備，其特征在于:所述的回轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)包括傳動軸、用于驅(qū)動傳動軸轉(zhuǎn)動的電機、轉(zhuǎn)動軸;所述的傳動軸上設(shè)有咬合凹盤，隨架體移動的轉(zhuǎn)動軸上設(shè)有與咬合凹盤相適應(yīng)的咬合凸盤，所述的轉(zhuǎn)動軸通過公轉(zhuǎn)組件驅(qū)動回轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動，所述的轉(zhuǎn)動軸通過自轉(zhuǎn)組件驅(qū)動自轉(zhuǎn)軸相對回轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動。6.按照權(quán)利要求5所述的一種均勻性的多弧離子鍍膜設(shè)備，其特征在于:所述的傳動軸上設(shè)有彈簧，套裝在傳動軸上的彈簧的一端固定在咬合凹盤上，另一端固定在傳動軸上;所述的咬合凹盤滑動式地安裝在傳動軸上。7.按照權(quán)利要求6所述的一種均勻性的多弧離子鍍膜設(shè)備，其特征在于:所述的傳動軸上設(shè)有鍵槽，咬合凹盤通過鍵滑動式安裝在傳動軸上。8.按照權(quán)利要求5所述的一種均勻性的多弧離子鍍膜設(shè)備，其特征在于:所述的真空室內(nèi)設(shè)有用于支撐轉(zhuǎn)動軸的定位板。9.按照權(quán)利要求5所述的一種均勻性的多弧離子鍍膜設(shè)備，其特征在于:所述的電機和傳動軸之間設(shè)有第一密封裝置。10.按照權(quán)利要求1所述的一種均勻性的多弧離子鍍膜設(shè)備，其特征在于:所述的自轉(zhuǎn)軸設(shè)有多個，多個自轉(zhuǎn)軸沿著回轉(zhuǎn)盤的圓周方向均勻布置。
【文檔編號】C23C14/50GK105986229SQ201610495743
【公開日】2016年10月5日
【申請日】2016年6月27日
【發(fā)明人】朱文廓, 朱剛勁, 朱剛毅
【申請人】廣東騰勝真空技術(shù)工程有限公司