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      一種還原爐底座的制作方法

      文檔序號(hào):3449043閱讀:203來(lái)源:國(guó)知局
      專利名稱:一種還原爐底座的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本實(shí)用新型涉及冶金、化工設(shè)備領(lǐng)域,具體涉及一種用于制取五氧化二釩的還原爐的底座。
      背景技術(shù)
      為了解決還原爐在制取五氧化二釩過(guò)程中底座內(nèi)的電熱管受掉落的粉末狀偏釩酸銨物料影響引起電熱管的電阻絲短路等問(wèn)題,本案申請(qǐng)人提交了名為一種還原爐的底座的專利申請(qǐng)(201120297386. 9),該專利提供的技術(shù)方案將電熱管的電阻絲設(shè)置在耐高溫管中,使得電阻絲受到耐高溫管的保護(hù)從而避免了上述的電阻絲短路等問(wèn)題,然而該技術(shù)方案使得電阻絲與外部的物料架之間隔有耐高溫管以及熱傳導(dǎo)性較差的空氣層,使得電熱管的熱能使用效率較低,且該電熱管不利于維護(hù)。
      發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型目的在于解決上述問(wèn)題,提供了一種還原爐底座,具體由以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)。一種還原爐底座,所述還原爐底座包括座體、二次加熱塊、電熱管,所述座體中部設(shè)有盆腔,所述二次加熱塊設(shè)置在所述盆腔中,所述二次加熱塊內(nèi)設(shè)有多個(gè)槽道,所述電熱管設(shè)置在所述槽道中,所述座體的一側(cè)壁設(shè)有與所述槽道相對(duì)應(yīng)的開(kāi)孔。所述的一種還原爐底座進(jìn)一步設(shè)計(jì)在于,所述二次加熱塊包括絕熱層以及設(shè)置在絕熱層上端的導(dǎo)熱層,所述槽道設(shè)置在絕熱層和導(dǎo)熱層之間,所述電熱管與導(dǎo)熱層接觸連接。本實(shí)用新型將電熱管設(shè)置在導(dǎo)熱層下部,既保證了電阻絲不被物料干擾引發(fā)短路,又避免了由于電阻絲受耐高溫管以及還原爐底座與物料架之間的空氣層的阻隔導(dǎo)致的熱利用效率較低的問(wèn)題。

      圖I為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為本實(shí)用新型內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖。圖3為本實(shí)用新型座體以及絕熱層結(jié)構(gòu)示意圖。
      具體實(shí)施方式
      以下結(jié)合說(shuō)明書(shū)附圖以及具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步說(shuō)明。該還原爐底座包括座體I、二次加熱塊2、電熱管3,座體I中部設(shè)有盆腔11,二次加熱塊2設(shè)置在盆腔11中,二次加熱塊2內(nèi)設(shè)有多個(gè)槽道21,電熱管3設(shè)置在槽道21中,座體I的一側(cè)壁設(shè)有與槽道21相對(duì)應(yīng)的開(kāi)孔12。二次加熱塊2包括絕熱層22以及設(shè)置在絕熱層上端的導(dǎo)熱層23,槽道21設(shè)置在絕熱層22和導(dǎo)熱層23之間,電熱管3與導(dǎo)熱層23接觸連接。在作業(yè)時(shí),二次加熱塊2下方為絕熱層,使得熱量不會(huì)向座體擴(kuò)散引起熱能浪費(fèi)也能保護(hù)設(shè)置在座體的相應(yīng)供電線路,加熱塊上部與導(dǎo)熱層23接觸連接,克服了原先由于加熱塊與上部待加熱物料之間存在的空氣層隔熱作用引起的熱能利用率較低的問(wèn)題。二次加熱塊2可以通過(guò)開(kāi)孔12自槽道中直接抽取出,便于檢查維護(hù)以及更換。
      本實(shí)用新型將電熱管設(shè)置在導(dǎo)熱層下部,既保證了電阻絲不被物料干擾引發(fā)短路,又避免了由于電阻絲受耐高溫管以及還原爐底座與物料架之間的空氣層的阻隔導(dǎo)致的熱利用效率較低的問(wèn)題。
      權(quán)利要求1.一種還原爐底座,其特征在于,所述還原爐底座包括座體、二次加熱塊、電熱管,所述座體中部設(shè)有盆腔,所述二次加熱塊設(shè)置在所述盆腔中,所述二次加熱塊內(nèi)設(shè)有多個(gè)槽道,所述電熱管設(shè)置在所述槽道中,所述座體的一側(cè)壁設(shè)有與所述槽道相對(duì)應(yīng)的開(kāi)孔。
      2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種還原爐底座,其特征在于,所述二次加熱塊包括絕熱層以及設(shè)置在絕熱層上端的導(dǎo)熱層,所述槽道設(shè)置在絕熱層和導(dǎo)熱層之間,所述電熱管與導(dǎo)熱層接觸連接。
      專利摘要本實(shí)用新型涉及冶金、化工設(shè)備領(lǐng)域,具體涉及一種用于制取五氧化二釩的還原爐的底座,包括座體、二次加熱塊、電熱管,所述座體中部設(shè)有盆腔,所述二次加熱塊設(shè)置在所述盆腔中,所述二次加熱塊內(nèi)設(shè)有多個(gè)槽道,所述電熱管設(shè)置在所述槽道中,所述座體的一側(cè)壁設(shè)有與所述槽道相對(duì)應(yīng)的開(kāi)孔。本實(shí)用新型將電熱管設(shè)置在導(dǎo)熱層下部,既保證了電阻絲不被物料干擾引發(fā)短路,又避免了由于電阻絲受耐高溫管以及還原爐底座與物料架之間的空氣層的阻隔導(dǎo)致的熱利用效率較低的問(wèn)題。
      文檔編號(hào)C01G31/02GK202609962SQ20122026218
      公開(kāi)日2012年12月19日 申請(qǐng)日期2012年6月6日 優(yōu)先權(quán)日2012年6月6日
      發(fā)明者喻華 申請(qǐng)人:南通漢瑞實(shí)業(yè)有限公司
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