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      一種長(zhǎng)余輝材料還原氣氛保護(hù)燒結(jié)裝置及工藝的制作方法

      文檔序號(hào):4693544閱讀:596來(lái)源:國(guó)知局
      專利名稱:一種長(zhǎng)余輝材料還原氣氛保護(hù)燒結(jié)裝置及工藝的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及一種材料的燒結(jié)裝置及工藝,具體地講,是一種用于實(shí)驗(yàn)制備長(zhǎng)余輝材料的長(zhǎng)余輝材料還原氣氛保護(hù)燒結(jié)裝置及工藝。
      背景技術(shù)
      長(zhǎng)余輝發(fā)光材料是指在光源激發(fā)停止后,能夠存儲(chǔ)外界光輻照的能量,然后緩慢地以可見光的形式釋放出這些存儲(chǔ)能量的材料。隨著長(zhǎng)余輝發(fā)光材料在安全、軍事、玩具、 信息存儲(chǔ)、高能射線探測(cè)等領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用,長(zhǎng)余輝發(fā)光材料的研究逐漸引起人們的重視。 目前,長(zhǎng)余輝發(fā)光材料的制備方法常采用高溫固相反應(yīng)法。高溫固相反應(yīng)法就是將達(dá)到要求純度、粒度的原料按特定的摩爾比均勻混合后在一定的溫度、氣氛、加熱時(shí)間等條件下進(jìn)行灼燒的制備方法。灼燒的最佳溫度、時(shí)間由具體實(shí)驗(yàn)確定;灼燒的氣氛由具體材料確定, 一般的長(zhǎng)余輝材料是在還原性氣氛下進(jìn)行的。還原性氣氛下進(jìn)行的燒結(jié)要求一定特殊結(jié)構(gòu)和要求的爐型,并且,還需要保護(hù)氣體和還原氣體,增加了制備成本。所以需要一種簡(jiǎn)單、僅利用添加還原劑來(lái)實(shí)現(xiàn)還原氣氛保護(hù)燒結(jié)的裝置及其使用工藝。

      發(fā)明內(nèi)容
      本發(fā)明的目的在于提供一種還原氣氛保護(hù)燒結(jié)裝置及工藝。該還原氣氛保護(hù)燒結(jié)裝置僅利用還原劑,不需保護(hù)氣體和還原氣體就可實(shí)現(xiàn)還原氣氛保護(hù)燒結(jié),并且具有可重復(fù)使用的特點(diǎn)。為了解決上述問題,本發(fā)明的技術(shù)方案為一種長(zhǎng)余輝材料還原氣氛保護(hù)燒結(jié)裝置及工藝,由箱體和支板兩部分組成,其特征在于箱體呈正方或長(zhǎng)方體,無(wú)蓋;箱體里面在距離底部15-25mm處安裝有支板;支板上加工有整齊排列的固定坩堝的坩堝孔;每個(gè)坩堝孔都配備有尺寸大且不與坩堝相接觸的上蓋。作為上述技術(shù)方案的優(yōu)選實(shí)施例,上蓋扣在坩堝上面,被支板支撐,頂部有上蓋透氣小口 ;上蓋透氣小口上扣有小蓋。這樣設(shè)計(jì)的目的是可以將坩堝、上蓋、和小蓋都可以被還原劑埋住。還原劑可選化學(xué)還原試劑、或活性炭粉。作為上述技術(shù)方案的優(yōu)選實(shí)施例,上蓋上的小蓋下邊緣有凹口,或被上蓋透氣小口頂起,不與上蓋壁緊密接觸。上蓋透氣小口和小蓋的特殊設(shè)計(jì),目的是讓在燒結(jié)過程中產(chǎn)生的氣體逃逸出去,以免影響長(zhǎng)余輝材料的燒制。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明具有下列有益效果(1)本發(fā)明小巧方便、操作簡(jiǎn)單。(2)本發(fā)明適用不同尺寸的箱式馬弗爐、工業(yè)燒結(jié)爐;更換簡(jiǎn)單,快捷,可重復(fù)使用,效率高。(3)本發(fā)明,可選擇多種還原劑,實(shí)用、成本相對(duì)低廉。(4)本發(fā)明適用于不同的實(shí)驗(yàn)要求;可批量燒結(jié),既適合一般長(zhǎng)余輝材料的常規(guī)實(shí)驗(yàn)制備,也適合長(zhǎng)余輝材料的工業(yè)化生產(chǎn)。


      圖1是本發(fā)明的整體組合的主視示意圖。圖2是本發(fā)明的箱體的俯視示意圖。圖中1.箱體;2.支板;3.坩堝;4.上蓋;5.上蓋透氣小口 ;6.小蓋;7.還原劑; 8.坩堝孔;9.支板下腔。
      具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖和實(shí)施例進(jìn)一步對(duì)本發(fā)明加以說明。參見圖1 2,一種長(zhǎng)余輝材料還原氣氛保護(hù)燒結(jié)裝置及工藝,由箱體1和支板2 兩部分組成,其特征在于箱體1呈正方或長(zhǎng)方體,無(wú)蓋;箱體1里面在距離底部15-25mm處安裝有支板2 ;支板2上加工有整齊排列的固定坩堝3的坩堝孔8 ;每個(gè)坩堝孔8都配備有尺寸大且不與坩堝3相接觸的上蓋4。上蓋4扣在坩堝3上面,被支板2支撐,頂部有上蓋透氣小口 5 ;上蓋透氣小口 5上扣有小蓋6。上蓋4上的小蓋6下邊緣有凹口,或被上蓋透氣小口 5頂起,不與上蓋4壁緊密接觸。具體使用例將支板下腔9裝滿還原劑7活性炭粉,把裝有不同配比的先驅(qū)體樣品的26個(gè)坩堝3,扒開坩堝孔8中的還原劑7活性炭粉安放在開坩堝孔8中。將上蓋4蓋上, 再蓋上小蓋6。然后加還原劑7活性炭粉,高度至小蓋6的1/2處將坩堝3和上蓋4全部埋住。將箱體1放入馬弗爐中,按燒結(jié)工藝升溫?zé)Y(jié),冷卻出爐后,將未燒完的還原劑7活性炭粉取出,取出坩堝3,刮出燒制好的長(zhǎng)余輝材料。
      權(quán)利要求
      1.一種長(zhǎng)余輝材料還原氣氛保護(hù)燒結(jié)裝置及工藝,由箱體(1)和支板( 兩部分組成, 其特征在于箱體(1)呈正方或長(zhǎng)方體,無(wú)蓋;箱體(1)里面在距離底部15-25mm處安裝有支板O);支板(2)上加工有整齊排列的固定坩堝(3)的坩堝孔(8);每個(gè)坩堝孔(8)都配備有尺寸大且不與坩堝(3)相接觸的上蓋0)。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種長(zhǎng)余輝材料還原氣氛保護(hù)燒結(jié)裝置及工藝,其特征在于上蓋(4)扣在坩堝C3)上面,被支板( 支撐,頂部有上蓋透氣小口( ;上蓋透氣小口 (5)上扣有小蓋(6)。
      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種長(zhǎng)余輝材料還原氣氛保護(hù)燒結(jié)裝置及工藝,其特征在于上蓋(4)上的小蓋(6)下邊緣有凹口,或被上蓋透氣小口( 頂起,不與上蓋(4)壁緊密接觸。
      4.一種長(zhǎng)余輝材料還原氣氛保護(hù)燒結(jié)裝置及工藝,其工藝操作是將支板下腔(9)裝滿還原劑(7),把裝有不同配比的先驅(qū)體樣品的坩堝(3),扒開坩堝孔⑶中的還原劑(7) 安放在開坩堝孔(8)中;將上蓋(4)蓋上,再蓋上小蓋(6),加還原劑(7)高度至小蓋(6)的 1/2處,將坩堝(3)和上蓋(4)全部埋住;然后將箱體(1)送入燒結(jié)爐中。
      全文摘要
      本發(fā)明公開了一種長(zhǎng)余輝材料還原氣氛保護(hù)燒結(jié)裝置及工藝,由箱體和支板兩部分組成,箱體呈正方或長(zhǎng)方體,無(wú)蓋,里面在距離底部15-25mm處安裝有支板;支板上加工有整齊排列的固定坩堝的坩堝孔;每個(gè)坩堝孔都配備有尺寸大且不與坩堝相接觸的上蓋。上蓋頂部有扣有小蓋的上蓋透氣小口。本發(fā)明適用不同尺寸的箱式馬弗爐、工業(yè)燒結(jié)爐;更換簡(jiǎn)單,快捷,可重復(fù)使用;可選擇多種還原劑,經(jīng)濟(jì)實(shí)用,既適合一般長(zhǎng)余輝材料的常規(guī)實(shí)驗(yàn)制備,也適合長(zhǎng)余輝材料的工業(yè)化生產(chǎn)。
      文檔編號(hào)F27B5/06GK102183140SQ201010622170
      公開日2011年9月14日 申請(qǐng)日期2010年12月29日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月29日
      發(fā)明者廖曉玲, 徐文峰 申請(qǐng)人:重慶文理學(xué)院
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