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      一種電熔鎂砂的排氣方法

      文檔序號:3455040閱讀:369來源:國知局
      一種電熔鎂砂的排氣方法
      【專利摘要】本發(fā)明涉及礦物冶煉【技術(shù)領(lǐng)域】,提供一種冶煉電熔鎂砂的排氣方法,所述冶煉電熔鎂砂的排氣方法包括:將通入電熔鎂砂冶煉爐中的電極制成上下貫通的中空結(jié)構(gòu),所述中空結(jié)構(gòu)的內(nèi)徑為1cm至10cm,所述中空結(jié)構(gòu)的下端為喇叭形結(jié)構(gòu),所述喇叭形結(jié)構(gòu)內(nèi)徑大的端口朝下,喇叭形結(jié)構(gòu)的高為10至20cm。所述喇叭形結(jié)構(gòu)的下端口內(nèi)徑為5至15cm,喇叭形結(jié)構(gòu)的上端口內(nèi)徑與所述中空結(jié)構(gòu)的內(nèi)徑相同。所述中空結(jié)構(gòu)的上端通過絕緣導(dǎo)氣管與冶煉爐的風(fēng)道連通。本發(fā)明能夠提高冶煉電熔鎂砂的成品質(zhì)量,增大冶煉過程的安全性。
      【專利說明】一種電熔鎂砂的排氣方法

      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001] 本發(fā)明涉及礦物冶煉【技術(shù)領(lǐng)域】,尤其涉及一種冶煉電熔鎂砂的排氣方法。

      【背景技術(shù)】
      [0002] 電烙鎂砂是以優(yōu)質(zhì)鎂砂為原料經(jīng)過烙化而制成,英文名稱fused magnesite。電烙 鎂砂通常是由菱鎂礦、水鎂礦或從海水中提取的氫氧化鎂經(jīng)高溫煅燒而成,抗水化能力強(qiáng)。 現(xiàn)有菱鎂礦冶煉技術(shù)是采用分層布料分層冶煉的工藝,在下層物料在被冶煉的同時(shí)對上層 物料進(jìn)行預(yù)熱,由于下層物料(冶煉層)在冶煉的過程會(huì)產(chǎn)生大量的二氧化碳,而由于上層 物料的掩蓋,導(dǎo)致冶煉爐內(nèi)物料的通氣性差,冶煉層產(chǎn)生的二氧化碳排放就存在問題,大量 的二氧化碳?xì)怏w很難從冶煉層排出,這樣的情況很容易產(chǎn)生安全隱患,且很能會(huì)使冶煉的 成品出現(xiàn)空心或帶孔隙等品質(zhì)問題。


      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0003] 本發(fā)明的目的在于提出一種冶煉電熔鎂砂的排氣方法,以提高冶煉電熔鎂砂的成 品質(zhì)量,增大冶煉過程的安全性。
      [0004] 本發(fā)明提供了一種冶煉電熔鎂砂的排氣方法,所述冶煉電熔鎂砂的排氣方法包 括:
      [0005] 將通入電熔鎂砂冶煉爐中的電極制成上下貫通的中空結(jié)構(gòu),所述中空結(jié)構(gòu)的內(nèi)徑 為lcm至15cm,所述中空結(jié)構(gòu)的下端為喇叭形結(jié)構(gòu),所述喇叭形結(jié)構(gòu)內(nèi)徑大的端口朝下,喇 口八形結(jié)構(gòu)的高為10至20cm。
      [0006] 可選的,所述喇叭形結(jié)構(gòu)的下端口內(nèi)徑為5至15cm,喇叭形結(jié)構(gòu)的上端口內(nèi)徑與 所述中空結(jié)構(gòu)的內(nèi)徑相同。
      [0007] 可選的,所述中空結(jié)構(gòu)的上端通過絕緣導(dǎo)氣管與冶煉爐的風(fēng)道連通。
      [0008] 可選的,所述冶煉電熔鎂砂的排氣方法,還包括:
      [0009] 將粉末狀的原料裝入布袋之后,投入冶煉爐。
      [0010] 本發(fā)明提供的一種冶煉電熔鎂砂的排氣方法,通過將冶煉電熔鎂砂的電極制成中 空結(jié)構(gòu),并將中空結(jié)構(gòu)的下端設(shè)置成喇叭形結(jié)構(gòu),可以增加冶煉電熔鎂砂過程中冶煉層的 透氣性,增加冶煉層二氧化碳的排放量,進(jìn)而提高了冶煉成品的質(zhì)量,增大了冶煉過程的安 全性。并且本發(fā)明通過將粉末狀的物料裝入布袋,可以增加物料之間的間隙,使冶煉過程中 產(chǎn)生的氣體容易排出,進(jìn)一步提高冶煉成品的質(zhì)量,增大冶煉過程的安全性。

      【專利附圖】

      【附圖說明】
      [0011] 圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的冶煉電熔鎂砂的排氣方法對應(yīng)的電極示意圖。

      【具體實(shí)施方式】
      [0012] 為使本發(fā)明解決的技術(shù)問題、采用的技術(shù)方案和達(dá)到的技術(shù)效果更加清楚,下面 結(jié)合附圖和實(shí)施例對本發(fā)明作進(jìn)一步的詳細(xì)說明??梢岳斫獾氖?,此處所描述的具體實(shí)施 例僅僅用于解釋本發(fā)明,而非對本發(fā)明的限定。另外還需要說明的是,為了便于描述,附圖 中僅示出了與本發(fā)明相關(guān)的部分而非全部內(nèi)容。
      [0013] 圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的冶煉電熔鎂砂的排氣方法對應(yīng)的電極示意圖。如圖1 所示,本發(fā)明實(shí)施例提供的冶煉電熔鎂砂的排氣方法包括:
      [0014] 將通入電熔鎂砂冶煉爐中的電極1制成上下貫通的中空結(jié)構(gòu)2,所述中空結(jié)構(gòu)2的 內(nèi)徑為2cm,所述中空結(jié)構(gòu)2的下端為喇叭形結(jié)構(gòu)3,喇叭形結(jié)構(gòu)3內(nèi)徑大的端口朝下,喇叭 形結(jié)構(gòu)3的高為15cm。所述喇叭形結(jié)構(gòu)3的下端口內(nèi)徑為10cm,喇叭形結(jié)構(gòu)3的上端口內(nèi) 徑與所述中空結(jié)構(gòu)2的內(nèi)徑相同均為2cm。所述中空結(jié)構(gòu)2的上端通過絕緣導(dǎo)氣管5與冶 煉爐4的風(fēng)道6連通。在上述方案中,將中空結(jié)構(gòu)2的下端設(shè)置成喇叭形結(jié)構(gòu)3,能夠便于 收集氣體,并且將中空結(jié)構(gòu)2的內(nèi)徑設(shè)置為2cm,相對于內(nèi)徑較大的電極來說,對電極的電 阻影響較小,即對電極的電流影響較小,可以忽略。
      [0015] 在上述方案中,優(yōu)選的是,所述冶煉電熔鎂砂的排氣方法,還包括:將粉末狀的原 料裝入布袋之后,投入冶煉爐4。采用這樣的技術(shù)是能夠?qū)⒎勰畹脑铣蓧K化,能夠增大 冶煉物料之間的間隙,使冶煉過程中產(chǎn)生的氣體容易從冶煉層中排出。
      [0016] 本實(shí)施例提供的冶煉電熔鎂砂的排氣方法,通過將冶煉電熔鎂砂的電極制成中空 結(jié)構(gòu),并將中空結(jié)構(gòu)的下端設(shè)置成喇叭形結(jié)構(gòu),可以增加冶煉電熔鎂砂過程中冶煉層的透 氣性,增加冶煉層二氧化碳的排放量,進(jìn)而提高了冶煉成品的質(zhì)量,增大了冶煉過程的安全 性。并且本發(fā)明通過將粉末狀的物料裝入布袋,可以增加物料之間的間隙,使冶煉過程中產(chǎn) 生的氣體容易排出,進(jìn)一步提高冶煉成品的質(zhì)量,增大冶煉過程的安全性。
      [0017] 最后應(yīng)說明的是:以上各實(shí)施例僅用以說明本發(fā)明的技術(shù)方案,而非對其限制; 盡管參照前述各實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)的說明,本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解:其 依然可以對前述各實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改,或者對其中部分或者全部技術(shù)特征 進(jìn)行等同替換;而這些修改或者替換,并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本發(fā)明各實(shí)施例技 術(shù)方案的范圍。
      【權(quán)利要求】
      1. 一種冶煉電熔鎂砂的排氣方法,其特征在于,所述冶煉電熔鎂砂的排氣方法包括: 將通入電熔鎂砂冶煉爐中的電極制成上下貫通的中空結(jié)構(gòu),所述中空結(jié)構(gòu)的內(nèi)徑為 lcm至10cm,所述中空結(jié)構(gòu)的下端為喇叭形結(jié)構(gòu),所述喇叭形結(jié)構(gòu)內(nèi)徑大的端口朝下,喇叭 形結(jié)構(gòu)的高為10至20cm。
      2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的冶煉電熔鎂砂的排氣方法,其特征在于,所述喇叭形結(jié)構(gòu)的 下端口內(nèi)徑為5至15cm,喇叭形結(jié)構(gòu)的上端口內(nèi)徑與所述中空結(jié)構(gòu)的內(nèi)徑相同。
      3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的冶煉電熔鎂砂的排氣方法,其特征在于,所述中空結(jié)構(gòu)的上 端通過絕緣導(dǎo)氣管與冶煉爐的風(fēng)道連通。
      4. 根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的冶煉電熔鎂砂的排氣方法,其特征在于,所述冶煉 電熔鎂砂的排氣方法,還包括: 將粉末狀的原料裝入布袋之后,投入冶煉爐。
      【文檔編號】C01F5/06GK104192875SQ201410410594
      【公開日】2014年12月10日 申請日期:2014年8月18日 優(yōu)先權(quán)日:2014年8月18日
      【發(fā)明者】崔俊峰, 齊國超, 單鳳君, 李強(qiáng), 原琳, 崔薇薇, 何占高, 么革, 崔軍, 劉希洋, 崔毅, 林宇 申請人:營口東吉科技(集團(tuán))有限公司
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