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      一種彩釉Low?e玻璃的制作方法

      文檔序號(hào):12497666閱讀:905來(lái)源:國(guó)知局

      本實(shí)用新型涉及LOW-E玻璃技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種彩釉Low-e玻璃。



      背景技術(shù):

      玻璃是重要的建筑材料,隨著對(duì)建筑物裝飾性要求的不斷提高,玻璃在當(dāng)代的生產(chǎn)和生活中扮演著重要角色,其應(yīng)用十分的廣泛,如玻璃窗、玻璃制裝飾品、玻璃制器皿、車載玻璃、玻璃幕墻等,并且隨著玻璃應(yīng)用范圍的不斷擴(kuò)大,市場(chǎng)需求量也在不斷增大,因此玻璃的使用量也不斷增大。

      隨著人們審美水平和舒適性要求的提高,一般的平面玻璃已經(jīng)無(wú)法滿足消費(fèi)者的需求。因此,人們將玻璃表面上涂敷一層彩色的易熔釉料,經(jīng)燒結(jié)、退火或鋼化等處理工藝,使釉層與玻璃牢固結(jié)合,制成的具有美麗的色彩或圖案的彩釉玻璃,但是,由于現(xiàn)有的彩釉玻璃普遍用于建筑物外墻飾,使得彩釉玻璃長(zhǎng)時(shí)間暴露在空氣中,從而導(dǎo)致彩釉玻璃表面有灰塵污染,繼而影響玻璃透射性,并且,彩釉玻璃在安裝和運(yùn)輸過(guò)程中容易被刮花和磨損,影響彩釉玻璃的外觀,降低彩釉玻璃的美觀性,綜上所述,如何提供一種能夠在使用過(guò)程中避免灰塵污染,并且,在搬運(yùn)和安裝時(shí)避免被劃傷和磨損的玻璃是目前本領(lǐng)域技術(shù)人員急需解決的問(wèn)題。



      技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

      針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的不足,本實(shí)用新型的目的是提供一種彩釉Low-e玻璃,它結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,能夠在使用過(guò)程中避免灰塵污染,并且,在搬運(yùn)和安裝時(shí)可以避免被劃傷和磨損。

      為達(dá)到上述目的,本實(shí)用新型通過(guò)以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)。

      一種彩釉Low-e玻璃,包括玻璃基層、Low-e膜層、彩釉層,彩釉層設(shè)置于玻璃基層上表面,該彩釉層上表面從下至上依次設(shè)置有聚酯薄膜層、納米防靜電涂層,Low-e膜層設(shè)置于玻璃基層下表面,該Low-e膜層從上至下依次包括有SiNx膜層、Ag膜層、ZnAlOx膜層、SiC膜層,SiNx膜層設(shè)置于玻璃基層下端面。

      作為優(yōu)選方案,玻璃基層從下至上依次包括有下玻璃層、間隔條框、上玻璃層,下玻璃層、上玻璃層與間隔條框組成空腔,空腔內(nèi)填充有惰性氣體。

      作為優(yōu)選方案,下玻璃層、上玻璃層均設(shè)置為超白浮法玻璃,超白浮法玻璃的厚度設(shè)置為8~12mm。

      作為優(yōu)選方案,間隔條框設(shè)置為鋁材,該間隔條框設(shè)置為空心框,空心框內(nèi)設(shè)置有干燥劑。

      作為優(yōu)選方案,SiNx膜層的厚度設(shè)置為15~25nm。

      作為優(yōu)選方案,Ag膜層的厚度設(shè)置為8~12nm。

      作為優(yōu)選方案,ZnAlOx膜層的厚度設(shè)置為13~17nm。

      作為優(yōu)選方案,SiC膜層的厚度設(shè)置為30~60nm。

      本實(shí)用新型的有益效果是:

      第一、通過(guò)在玻璃基層上表面設(shè)置有彩釉層,彩釉層上表面依次設(shè)置有聚酯薄膜層、納米防靜電涂層,設(shè)置聚酯薄膜層以提高彩釉層的防紫外線功能,并且設(shè)置納米防靜電涂層以避免水、灰塵污染玻璃表面,影響玻璃的美觀;

      第二、通過(guò)在玻璃基層想下表面設(shè)置有Low-e膜層,Low-e膜層內(nèi)設(shè)置有SiC膜層,提高玻璃的抗機(jī)械劃傷能力;

      第三、通過(guò)將下玻璃層、上玻璃層與間隔條框組成空腔,空腔內(nèi)填充有惰性氣體,提升玻璃基層的隔音、保溫效果。

      附圖說(shuō)明

      下面利用附圖來(lái)對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說(shuō)明,但是附圖中的實(shí)施例不構(gòu)成對(duì)本實(shí)用新型的任何限制。

      圖1為本實(shí)用新型的剖視結(jié)構(gòu)圖。

      圖中:玻璃基層1、下玻璃層11、間隔條框12、上玻璃層13、Low-e膜層2、SiNx膜層21、Ag膜層22、ZnAlOx膜層23、SiC膜層24、彩釉層3、聚酯薄膜層4、納米防靜電涂層5、干燥劑6、空腔7。

      具體實(shí)施方式

      下面結(jié)合附圖與實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案進(jìn)行說(shuō)明。

      參照?qǐng)D1所示:

      一種彩釉Low-e玻璃,包括玻璃基層1、Low-e膜層2、彩釉層3,彩釉層3設(shè)置于玻璃基層1上表面,該彩釉層3上表面從下至上依次設(shè)置有聚酯薄膜層4、納米防靜電涂層5,Low-e膜層2設(shè)置于玻璃基層1下表面,該Low-e膜層2從上至下依次包括有SiNx膜層21、Ag膜層22、ZnAlOx膜層23、SiC膜層24,SiNx膜層21設(shè)置于玻璃基層1下端面。SiNx膜層21的厚度設(shè)置為15~25nm。ZnAlOx膜層23的厚度設(shè)置為13~17nm。作為優(yōu)選方案,Ag膜層22的厚度設(shè)置為8~12nm。SiC膜層24的厚度設(shè)置為30~60nm。

      上述結(jié)構(gòu)中,因?yàn)樵诓视詫?上表面依次設(shè)置有聚酯薄膜層4、納米防靜電涂層5,通過(guò)設(shè)置聚酯薄膜層4以提高彩釉層3的防紫外線功能,通過(guò)設(shè)置納米防靜電涂層5以避免水、灰塵污染玻璃表面,影響玻璃的美觀;在玻璃基層1想下表面設(shè)置有Low-e膜層2,Low-e膜層2內(nèi)設(shè)置有設(shè)置SiNx膜層21即氮化硅層,可以提高玻璃基層1的硬度,將ZnAlOx膜層23設(shè)置Ag膜層22上表面可以提升Ag膜層22的紅外放射效果,將SiC膜層24即碳化硅層設(shè)置于最外層,可以提升玻璃基層1的抗機(jī)械劃傷能力,以避免玻璃基層1被劃傷。

      提升玻璃基層1的隔音、保溫效果,玻璃基層1從下至上依次包括有下玻璃層11、間隔條框12、上玻璃層13,下玻璃層11、上玻璃層13與間隔條框12組成空腔7,空腔7內(nèi)填充有惰性氣體,

      具體的,下玻璃層11、上玻璃層13均設(shè)置為超白浮法玻璃,超白浮法玻璃的厚度設(shè)置為8~12mm。

      為降低空腔7內(nèi)的濕度,以免空腔7內(nèi)出現(xiàn)水霧,間隔條框12設(shè)置為鋁材,該間隔條框12設(shè)置為空心框,空心框內(nèi)設(shè)置有干燥劑6。

      上述實(shí)施例僅是顯示和描述了本實(shí)用新型的基本原理、主要特征和優(yōu)點(diǎn)。本行業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解,本實(shí)用新型不受上述實(shí)施例的限制,上述實(shí)施例和說(shuō)明書(shū)中描述的只是說(shuō)明本實(shí)用新型的原理,在不脫離本實(shí)用新型精神和范圍的前提下,本實(shí)用新型還會(huì)有各種變化和改進(jìn),這些變化和改進(jìn)都落入要求保護(hù)的本實(shí)用新型范圍。

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