本發(fā)明涉及一種鉭酸鋰晶片還原裝置，尤其涉及一種鎂蒸氣還原鉭酸鋰晶片的裝置。

背景技術(shù)：

現(xiàn)有技術(shù)中通常是利用直拉法生產(chǎn)鉭酸鋰（LT）晶體，即：使得LT晶體在空氣中或在缺氧狀態(tài)下生長，晶體通常成無色或者淡黃色，其電阻率通常在1×10¹⁴Ω·cm~1×10¹⁵Ω·cm，由于在制作濾波器的過程中需要對鉭酸鋰晶片進(jìn)行加熱，因鉭酸鋰晶片較強(qiáng)的熱電性，從而引起電荷在晶片表面的聚集而產(chǎn)生火花，引起表面圖形的變化，更進(jìn)一步會(huì)引起表面的微裂紋，導(dǎo)致成品率的降低。另外，由于這種LT晶體高的光透過率，在光刻過程中，由于光在基片背部的反射，產(chǎn)生引起圖形分辨率降低的問題。

針對濾波器制作中出現(xiàn)的這些問題，器件對LT晶體提出了新的要求，降低熱釋電效應(yīng)，降低光透過率。對于這樣的問題，一般采用還原劑，諸如鋁、鎂、碳等還原劑對LT晶體進(jìn)行還原，使LiTaO₃中失去部分氧，Ta⁺⁵部分變?yōu)門a⁺⁴或Ta⁺³，LT晶體電阻率從1×10¹⁴Ω·cm~10¹⁵Ω·cm變?yōu)?×10⁹Ω·cm~10¹²Ω·cm，1mm晶片波長532nm綠光透過率從60%~80%下降到10%~20%，基本克服了制作濾波器時(shí)LT的熱電和光透過率比較強(qiáng)的缺點(diǎn)。

現(xiàn)有技術(shù)一般采用固體還原劑，采取的方式有漿料涂覆法，粉末掩埋法等。涂覆法要使用專用的漿料，成本較高，要通過涂覆、烘干等工序，工藝操作要求也較高；粉末掩埋法，由于掩埋很難做到?jīng)]有空隙，還原后有部分晶片，均勻性不好，常需要返工處理。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

有鑒于此，有必要提供一種以氣體作為還原劑，還原均勻性較好的鎂蒸氣還原鉭酸鋰晶片的裝置。

一種鎂蒸氣還原鉭酸鋰晶片的裝置，包括爐體、內(nèi)爐管、旋轉(zhuǎn)支架及真空裝置，所述爐體內(nèi)設(shè)有容納所述內(nèi)爐管的空腔，所述內(nèi)爐管設(shè)置在所述爐體的內(nèi)部空腔內(nèi)，所述內(nèi)爐管內(nèi)設(shè)有用于盛裝鎂粉的空腔，所述旋轉(zhuǎn)支架沿著所述爐體、所述內(nèi)爐管的長度方向貫穿于所述爐體、所述內(nèi)爐管的內(nèi)部，所述旋轉(zhuǎn)支架包括夾持鉭酸鋰晶片的支架體，且旋轉(zhuǎn)支架能相對于爐體及內(nèi)爐管旋轉(zhuǎn)，以使鎂蒸氣均勻地接觸每片所述鉭酸鋰晶片，進(jìn)而保證鎂蒸氣均勻地還原所有所述鉭酸鋰晶片，所述真空裝置與所述內(nèi)爐管內(nèi)的空腔連通，以通過對所述內(nèi)爐管的內(nèi)腔抽真空使?fàn)t體內(nèi)的鎂粉能在較低的加熱溫度下氣化，生成鎂蒸氣。

優(yōu)選的，所述爐體包括外殼，所述外殼包括筒體、左端蓋、右端蓋，所述筒體為一較大直徑的空心筒體，所述左端蓋、右端蓋分別與所述筒體的左端和右端固定連接，以與所述筒體共同構(gòu)成一封閉的外殼，所述內(nèi)爐管設(shè)置在所述筒體內(nèi)，所述內(nèi)爐管包括管體、電阻絲和兩個(gè)爐管法蘭蓋，所述管體為一較小直徑的空心筒體，所述管體與所述筒體同軸設(shè)置，所述電阻絲用于與供電裝置電性連接，以作為升溫?zé)嵩?，所述電阻絲螺旋繞設(shè)在所述管體的外壁，以通過所述電阻絲的加熱提升所述內(nèi)爐管內(nèi)的溫度，所述管體的左、右兩端分別與兩個(gè)所述爐管法蘭蓋密封連接，在所述內(nèi)爐管內(nèi)撒入鎂粉，以使所述鎂粉受熱氣化時(shí)生成的鎂蒸氣分布在所述內(nèi)爐管內(nèi)。

優(yōu)選的，所述爐體還包括保溫層，所述保溫層為夾持在所述筒體的內(nèi)壁與所述內(nèi)爐管的外壁之間的空心的厚筒體，所述保溫層的側(cè)面外壁的形狀與所述筒體的內(nèi)壁相適配，以使所述筒體套設(shè)在所述保溫層的外側(cè)，所述保溫層開設(shè)有左右貫通的內(nèi)爐管裝配孔，所述內(nèi)爐管穿入所述內(nèi)爐管裝配孔內(nèi)，所述內(nèi)爐管的外壁與所述內(nèi)爐管裝配孔的內(nèi)壁固定連接，以防止熱量從盤繞的所述電阻絲的外側(cè)散失。

優(yōu)選的，所述管體和所述爐管法蘭蓋均由石墨制成，以在保證所述管體和所述爐管法蘭蓋在真空中較好的耐熱性能和導(dǎo)熱性能的前提下避免制成所述管體和所述爐管法蘭蓋的材料的表面在空氣中形成的氧化膜與還原劑氣體發(fā)生反應(yīng)。

優(yōu)選的，所述管體的內(nèi)壁的左右兩端均設(shè)有密封管內(nèi)螺紋，所述爐管法蘭蓋的連接部對應(yīng)設(shè)置有密封管外螺紋，所述爐管法蘭蓋通過所述連接部的密封管外螺紋與所述管體密封連接。

優(yōu)選的，所述真空裝置包括外抽空管、若干外抽空支管、若干布?xì)庵Ч?、布?xì)夤?，所述外抽空管平行設(shè)置在所述筒體的上方，所述外抽空管的一端用于與外部抽真空驅(qū)動(dòng)連接，所述外抽空管的另一端與若干所述外抽空支管分別連接，若干所述外抽空支管的上端均與所述外抽空管的另一端的管壁下側(cè)垂直連接，所述筒體的側(cè)壁上設(shè)置有若干接管法蘭，每個(gè)所述接管法蘭都位于其中一個(gè)所述外抽空支管的正下方，且每個(gè)所述接管法蘭都與其中一個(gè)所述外抽空支管的下端密封連接，每個(gè)所述布?xì)庵Ч芤来未怪钡卮┻^所述管體、所述保溫層、所述筒體，且每個(gè)所述布?xì)庵Ч芏嘉挥谄渲幸粋€(gè)所述接管法蘭的正下方，每個(gè)所述布?xì)庵Ч艿纳隙送獗诙寂c所述筒體的對應(yīng)的開孔處密封連接，每個(gè)所述布?xì)庵Ч艿纳隙硕寂c所述接管法蘭連通，每個(gè)所述布?xì)庵Ч艿南露送獗诙寂c所述管體的對應(yīng)的開孔處密封連接，若干所述布?xì)庵Ч芫c所述布?xì)夤艿墓鼙谏隙舜怪边B接并連通，所述布?xì)夤苎刂鰞?nèi)爐管的長度方向設(shè)置在所述管體的內(nèi)部，所述布?xì)夤艿墓鼙谙露碎_設(shè)有若干吸氣孔，且若干所述吸氣孔間的距離相等，以保證鎂蒸氣由下向上均勻地流過若干所述鉭酸鋰晶片的表面。

優(yōu)選的，所述旋轉(zhuǎn)支架包括支架體，所述支架體包括兩個(gè)支撐盤、三根裝夾柱，所述支撐盤為圓柱形，兩個(gè)所述支撐盤相對設(shè)置，每根所述裝夾柱的兩端均分別與兩個(gè)所述支撐盤垂直連接，且三根所述裝夾柱的末端均勻地環(huán)狀設(shè)置在每個(gè)所述支撐盤的盤面上，每根所述裝夾柱上設(shè)置有若干裝夾槽，若干所述裝夾槽間的距離相等，所述裝夾槽的寬度與待還原的鉭酸鋰晶片的厚度相等，每個(gè)所述鉭酸鋰晶片的邊沿同時(shí)卡入三根所述裝夾柱上位置相互正對的三個(gè)所述裝夾槽內(nèi)，以穩(wěn)定夾持所述鉭酸鋰晶片。

優(yōu)選的，所述旋轉(zhuǎn)支架還包括減速電機(jī)、兩根支撐軸，其中一根所述支撐軸的一端與一個(gè)所述支撐盤的盤面的圓心垂直連接，以支撐所述支架體，并避免所述支架體偏心旋轉(zhuǎn)，進(jìn)而保證所述鉭酸鋰晶片均勻受熱，其中一根所述支撐軸的另一端與左端的所述爐管法蘭蓋垂直地密封連接，且其中一根所述支撐軸能相對左端的所述爐管法蘭蓋旋轉(zhuǎn)，另一根所述支撐軸的一端與另一個(gè)所述支撐盤的盤面的圓心垂直連接，另一根所述支撐軸的另一端依次垂直穿過右端的所述爐管法蘭蓋、所述右端蓋，并與所述減速電機(jī)的電機(jī)軸同軸固定連接，另一根所述支撐軸的另一端還與右端的所述爐管法蘭蓋的對應(yīng)的開孔處密封連接，所述減速電機(jī)與所述右端蓋固定連接，以通過所述減速電機(jī)的電機(jī)軸的旋轉(zhuǎn)帶動(dòng)所述支撐軸、所述支架體和支架體上裝夾的若干鉭酸鋰晶片同向旋轉(zhuǎn)，進(jìn)而保證每個(gè)所述鉭酸鋰晶片均勻地與從所述內(nèi)爐管的內(nèi)部的下側(cè)蒸出的鎂蒸氣接觸，提高還原的均勻性。

本發(fā)明的裝置設(shè)置了爐體、內(nèi)爐管、旋轉(zhuǎn)支架及真空裝置，通過旋轉(zhuǎn)支架對鉭酸鋰晶片進(jìn)行裝夾，在還原過程中旋轉(zhuǎn)鉭酸鋰晶片，保證蒸出的鎂蒸氣均勻接觸鉭酸鋰晶片，進(jìn)一步保證了鉭酸鋰晶片還原的均勻性，通過真空裝置實(shí)現(xiàn)了對鎂蒸氣還原鉭酸鋰晶片的裝置的抽真空，實(shí)現(xiàn)了對鎂粉進(jìn)行氣化，利用生成的鎂蒸氣作為還原劑對鉭酸鋰晶片進(jìn)行還原，大幅提升了鉭酸鋰晶片還原的均勻性，石墨材質(zhì)的內(nèi)爐管的表面不易形成氧化物膜，避免了內(nèi)爐管的材料與還原劑氣體發(fā)生反應(yīng)。

附圖說明

圖1是所述鎂蒸氣還原鉭酸鋰晶片的裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2是所述支架體的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中：爐體10、外殼11、筒體110、左端蓋111、右端蓋112、接管法蘭113、保溫層12、內(nèi)爐管20、管體21、電阻絲22、爐管法蘭蓋23、鎂粉24、旋轉(zhuǎn)支架30、支架體31、支撐盤311、裝夾柱312、裝夾槽3120、減速電機(jī)32、支撐軸33、真空裝置40、外抽空管41、外抽空支管42、布?xì)庵Ч?3、布?xì)夤?4、鉭酸鋰晶片50。

具體實(shí)施方式

為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例中所需要使用的附圖作簡單的介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

請參看圖1，一種鎂蒸氣還原鉭酸鋰晶片的裝置包括爐體10、內(nèi)爐管20、旋轉(zhuǎn)支架30及真空裝置40，爐體10內(nèi)設(shè)有容納內(nèi)爐管20的空腔，內(nèi)爐管20設(shè)置在爐體10的內(nèi)部空腔內(nèi)，內(nèi)爐管20內(nèi)設(shè)有用于盛裝鎂粉24的空腔，旋轉(zhuǎn)支架30沿著爐體10、內(nèi)爐管20的長度方向貫穿于爐體10、內(nèi)爐管20的內(nèi)部，旋轉(zhuǎn)支架30包括夾持鉭酸鋰晶片50的支架體31，且旋轉(zhuǎn)支架30能相對于爐體10及內(nèi)爐管20旋轉(zhuǎn)，以使鎂蒸氣均勻地接觸每片鉭酸鋰晶片50，進(jìn)而保證鎂蒸氣均勻地還原所有鉭酸鋰晶片50，真空裝置40與內(nèi)爐管20內(nèi)的空腔連通，以通過對內(nèi)爐管20的內(nèi)腔抽真空使?fàn)t體內(nèi)的鎂粉能在較低的加熱溫度下氣化，生成鎂蒸氣，并避免爐體10內(nèi)的空氣干擾還原反應(yīng)的進(jìn)行，還避免了爐體10的內(nèi)腔的溫度上升過快使鉭酸鋰晶片50受到熱沖擊而損壞。

進(jìn)一步，爐體10包括外殼11，所述外殼包括筒體110、左端蓋111、右端蓋112，筒體110為一較大直徑的空心筒體，左端蓋111、右端蓋112分別與筒體110的左端和右端固定連接，以與筒體110共同構(gòu)成一封閉的外殼，內(nèi)爐管20設(shè)置在筒體110內(nèi)，內(nèi)爐管20包括管體21、電阻絲22和兩個(gè)爐管法蘭蓋23，管體21為一較小直徑的空心筒體，管體21與筒體110同軸設(shè)置，電阻絲22用于與供電裝置電性連接，以作為升溫?zé)嵩?，電阻絲22螺旋繞設(shè)在管體21的外壁，以通過電阻絲22的加熱提升內(nèi)爐管20內(nèi)的溫度，管體21的左、右兩端分別與兩個(gè)爐管法蘭蓋23密封連接，在內(nèi)爐管20內(nèi)撒入鎂粉24，以使鎂粉24受熱氣化時(shí)生成的鎂蒸氣分布在內(nèi)爐管20內(nèi)。

進(jìn)一步，爐體10還包括保溫層12，保溫層12為夾持在筒體110的內(nèi)壁與內(nèi)爐管20的外壁之間的空心的厚筒體，保溫層12的側(cè)面外壁的形狀與筒體110的內(nèi)壁相適配，以使筒體110套設(shè)在保溫層12的外側(cè)，保溫層12開設(shè)有左右貫通的內(nèi)爐管裝配孔，內(nèi)爐管20穿入所述內(nèi)爐管裝配孔內(nèi)，內(nèi)爐管20的外壁與所述內(nèi)爐管裝配孔的內(nèi)壁固定連接，以防止熱量從盤繞的電阻絲22的外側(cè)散失。

進(jìn)一步，管體21和爐管法蘭蓋23均由石墨制成，以在保證管體21和爐管法蘭蓋23在真空中較好的耐熱性能和導(dǎo)熱性能的前提下避免制成管體21和爐管法蘭蓋23的材料的表面在空氣中形成的氧化膜與還原劑氣體發(fā)生反應(yīng)。

進(jìn)一步，管體21的內(nèi)壁的左右兩端均設(shè)有密封管內(nèi)螺紋，爐管法蘭蓋23的連接部對應(yīng)設(shè)置有密封管外螺紋，爐管法蘭蓋23通過所述連接部的密封管外螺紋與管體21密封連接，可拆式的密封連接方式方便了內(nèi)爐管20內(nèi)的鎂粉24和鉭酸鋰晶片50的裝卸。

進(jìn)一步，真空裝置40包括外抽空管41、若干外抽空支管42、若干布?xì)庵Ч?3、布?xì)夤?4，外抽空管41平行設(shè)置在筒體110的上方，外抽空管41的一端用于與外部抽真空驅(qū)動(dòng)連接，外抽空管41的另一端與若干外抽空支管42分別連接，若干外抽空支管42的上端均與外抽空管41的另一端的管壁下側(cè)垂直連接，筒體110的側(cè)壁上設(shè)置有若干接管法蘭113，每個(gè)接管法蘭113都位于其中一個(gè)外抽空支管42的正下方，且每個(gè)接管法蘭113都與其中一個(gè)外抽空支管42的下端密封連接，每個(gè)布?xì)庵Ч?3依次垂直地穿過管體21、保溫層12、筒體110，且每個(gè)布?xì)庵Ч?3都位于其中一個(gè)接管法蘭113的正下方，每個(gè)布?xì)庵Ч?3的上端外壁都與筒體110的對應(yīng)的開孔處密封連接，每個(gè)布?xì)庵Ч?3的上端都與接管法蘭113連通，每個(gè)布?xì)庵Ч?3的下端外壁都與管體21的對應(yīng)的開孔處密封連接，若干布?xì)庵Ч?3均與布?xì)夤?4的管壁上端垂直連接并連通，布?xì)夤?4沿著內(nèi)爐管20的長度方向設(shè)置在管體21的內(nèi)部，所述布?xì)夤?4的管壁下端開設(shè)有若干吸氣孔，且若干所述吸氣孔間的距離相等，以保證鎂蒸氣由下向上均勻地流過若干鉭酸鋰晶片50的表面。

進(jìn)一步，請參看圖2，所述旋轉(zhuǎn)支架30包括支架體31，支架體31包括兩個(gè)支撐盤311、三根裝夾柱312，支撐盤311為圓柱形，兩個(gè)支撐盤311相對設(shè)置，每根裝夾柱312的兩端均分別與兩個(gè)支撐盤311垂直連接，且三根裝夾柱312的末端均勻地環(huán)狀設(shè)置在每個(gè)支撐盤311的盤面上，每根裝夾柱312上設(shè)置有若干裝夾槽3120，若干裝夾槽3120間的距離相等，裝夾槽3120的寬度與待還原的鉭酸鋰晶片50的厚度相等，每個(gè)鉭酸鋰晶片50的邊沿同時(shí)卡入三根裝夾柱312上位置相互正對的三個(gè)裝夾槽3120內(nèi)，以穩(wěn)定夾持鉭酸鋰晶片50。

進(jìn)一步，旋轉(zhuǎn)支架30還包括減速電機(jī)32、兩根支撐軸33，其中一根所述支撐軸33的一端與一個(gè)支撐盤311的盤面的圓心垂直連接，以支撐所述支架體31，并避免支架體31偏心旋轉(zhuǎn)，進(jìn)而保證鉭酸鋰晶片50均勻受熱，其中一根支撐軸33的另一端與左端的爐管法蘭蓋23垂直地密封連接，且其中一根支撐軸33能相對左端的爐管法蘭蓋23旋轉(zhuǎn)，另一根支撐軸33的一端與另一個(gè)支撐盤311的盤面的圓心垂直連接，另一根支撐軸33的另一端依次垂直穿過右端的爐管法蘭蓋23、右端蓋112，并與減速電機(jī)32的電機(jī)軸同軸固定連接，另一根支撐軸33的另一端還與右端的爐管法蘭蓋23的對應(yīng)的開孔處密封連接，減速電機(jī)32與右端蓋112固定連接，以通過減速電機(jī)32的電機(jī)軸的旋轉(zhuǎn)帶動(dòng)支撐軸33、支架體31和支架體31上裝夾的若干鉭酸鋰晶片50同向旋轉(zhuǎn)，如圖1中的箭頭所示，進(jìn)而保證每個(gè)鉭酸鋰晶片50均勻地與從內(nèi)爐管20的內(nèi)部的下側(cè)蒸出的鎂蒸氣接觸，提高還原的均勻性。

以下描述所述鎂蒸氣還原鉭酸鋰晶片的裝置的工作過程：拆卸右端蓋112和右端的爐管法蘭蓋23，將烘干后的鎂粉均勻撒入內(nèi)爐管21內(nèi)的底部，將清洗并干燥后的鉭酸鋰晶片50裝夾入支架體31中，裝夾時(shí)先拆卸下其中一根裝夾柱312，將所有待還原的鉭酸鋰晶片50逐一裝夾入其余兩根裝夾柱312的位置正對的若干裝夾槽3120中，再將拆卸下的所述裝夾柱213安裝到兩個(gè)支撐盤311之間，將裝夾有鉭酸鋰晶片的旋轉(zhuǎn)支架30安裝入內(nèi)爐管20內(nèi)，安裝右端的爐管法蘭蓋23和右端蓋112，啟動(dòng)真空裝置40，當(dāng)內(nèi)爐管20內(nèi)的真空度達(dá)到預(yù)定值時(shí)，對電阻絲22通電，提升內(nèi)爐管20內(nèi)的溫度，升溫至450℃~520℃，升溫的速率不大于50℃/h，保溫0.5~2h，以使若干鉭酸鋰晶片50均勻地接觸鎂蒸氣，進(jìn)而均勻地被還原，停止對電阻絲22的通電，以使內(nèi)爐管20內(nèi)的溫度逐漸下降，當(dāng)內(nèi)爐管20內(nèi)的溫度低于100℃時(shí)，關(guān)閉真空裝置40，待爐內(nèi)的氣壓與外界相等后從內(nèi)爐管內(nèi)中取出旋轉(zhuǎn)支架30，從旋轉(zhuǎn)支架30上取下所有的還原后的鉭酸鋰晶片50。