本發(fā)明涉及玻璃生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體是一種大型玻璃熔窯投料裝置。
背景技術(shù)：
在玻璃行業(yè)的生產(chǎn)中，需要使用投料機(jī)對玻璃熔窯進(jìn)行投料?，F(xiàn)有的投料機(jī)主要有振動式投料機(jī)、螺旋式投料機(jī)、壟式投料機(jī)、滾筒式投料機(jī)、斜毯式投料機(jī)、弧形投料機(jī)等，生產(chǎn)規(guī)模的擴(kuò)大造成多數(shù)投料機(jī)的投料效果出現(xiàn)料對覆蓋面積小、化料不佳、飛料嚴(yán)重等缺陷。
目前生產(chǎn)上應(yīng)用最為廣泛的是斜毯式投料機(jī)，隨著玻璃熔窯噸位的不斷上升，熔窯投料池的寬度逐漸增加，應(yīng)用較多的是采用兩臺斜毯式投料機(jī)進(jìn)行對稱布置的投料方式，配合料推進(jìn)呈八字形進(jìn)行熔化。該方式投料過程中配合料對熔窯前臉墻及池壁兩側(cè)沖刷嚴(yán)重，且噴槍附近易造成熔化盲區(qū)，降低了配合料的熔化率。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本發(fā)明的目的在于提供一種大型玻璃熔窯投料裝置，該投料裝置能夠減小配合料對投料池熔化部前臉墻和池壁沖刷侵蝕，保護(hù)熔窯池壁，并且能夠增大配合料熔化及玻璃液的橫向?qū)α鳎岣呷刍屎腿刍Ч?/p>
本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是：
一種大型玻璃熔窯投料裝置，包括沿玻璃熔窯投料池依次間隔設(shè)置的四臺斜毯式投料機(jī)，四臺斜毯式投料機(jī)相對于玻璃熔窯投料池中心線兩兩對稱，其中位于中部的兩臺為輸送能力在500～800t/d、投料速度35～45hz的主斜毯式投料機(jī)，位于兩側(cè)的兩臺為輸送能力在300t/d、投料速度25～35hz的輔斜毯式投料機(jī)；所述兩臺主斜毯式投料機(jī)的間距為300～500mm，輔斜毯式投料機(jī)與主斜毯式投料機(jī)的間距為200～400mm，輔斜毯式投料機(jī)至玻璃熔窯投料池內(nèi)壁的距離為80～150mm。
進(jìn)一步的，所述主斜毯式投料機(jī)的投料料層厚度為100～150mm，所述輔斜毯式投料機(jī)的投料料層厚度為150～200mm。
本發(fā)明的有益效果是：兩臺主斜毯式投料機(jī)與兩臺輔斜毯式投料機(jī)協(xié)同投料，形成中間快速薄層投料、兩側(cè)慢速厚層投料的投料特征；由于玻璃熔窯中間溫度高、側(cè)部溫度底，中間配合料熔化快，側(cè)部配合料熔化慢，使側(cè)部配合料向中間聚攏；兩側(cè)慢速投料，能夠減小配合料對投料池熔化部前臉墻和池壁沖刷侵蝕，起到保護(hù)熔窯池壁的作用，同時(shí)能夠減少側(cè)部進(jìn)入熔化盲區(qū)的配合料；另外，主斜毯式投料機(jī)與輔斜毯式投料機(jī)的投料料層厚度差以及熔窯中間與兩側(cè)的溫差造成熔化率差的存在，能夠增大配合料熔化及玻璃液的橫向?qū)α?，提高了熔化率和熔化效果?/p>
附圖說明
下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)一步說明：
圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
如圖1所示，本發(fā)明提供一種大型玻璃熔窯投料裝置，包括沿玻璃熔窯投料池1依次間隔設(shè)置的四臺斜毯式投料機(jī)，四臺斜毯式投料機(jī)相對于玻璃熔窯投料池1的中心線兩兩對稱，其中位于中部的兩臺為輸送能力在500～800t/d、投料速度35～45hz的主斜毯式投料機(jī)2，位于兩側(cè)的兩臺為輸送能力在300t/d、投料速度25～35hz的輔斜毯式投料機(jī)3；兩臺主斜毯式投料機(jī)2的間距a為300～500mm，輔斜毯式投料機(jī)3與主斜毯式投料機(jī)2的間距b為200～400mm，輔斜毯式投料機(jī)2至玻璃熔窯投料池1內(nèi)壁的距離c為80～150mm。
作為優(yōu)選的，主斜毯式投料機(jī)2的投料料層厚度為100～150mm，輔斜毯式投料機(jī)3的投料料層厚度為150～200mm。
以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并非對本發(fā)明作任何形式上的限制；任何熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍情況下，都可利用上述揭示的方法和技術(shù)內(nèi)容對本發(fā)明技術(shù)方案做出許多可能的變動和修飾，或修改為等同變化的等效實(shí)施例。因此，凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對以上實(shí)施例所做的任何簡單修改、等同替換、等效變化及修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案保護(hù)的范圍內(nèi)。