洗劑進行超聲波(40Khz)清洗；
[0069] (3)用3M的肥1清洗5分鐘；
[0070] (4)用6M的肥1清洗5分鐘；
[0071] (5)用畑40H、出化和出0進行SCI兆頻超聲波清洗；
[0072] (6)使用本特勒(Bentler)毛刷進行水平清潔，清潔時使用4%的Semi-clean KG (K0H)清洗劑；W及
[0073] (7)使用本特勒毛刷進行垂直清潔，清潔時使用4%的Semi-clean KG化0H)清洗 劑。
[0074] 還使用了 W下Ξ種參比玻璃樣品：
[00對 （1)10" X 14"板材，經(jīng)過薄化且在去離子水中進行過10分鐘的清洗；
[0076] (2)1.1mm厚度的未經(jīng)薄化(經(jīng)過拉制的）的2" X2"板材；W及
[0077] (3)經(jīng)過刷洗清潔。
[007引獲取參比樣品和清潔后的10X14"板材的側(cè)光照明圖像。將經(jīng)過清潔的10X14"板 材切割成2X2"的小片并進行分析。對其進行的X射線光電子光譜(XPS)研究（見圖4A和4B) 確認(rèn)在不干凈的（經(jīng)過薄化)表面存在巧和氣。如圖4A所示，HC1消耗了表面上的一些A1并且 還從表面上去除了氣。雖然超聲波清洗有效地去除了表面上的氣化物殘留物，但是在機械 攬動下用去離子水進行的5分鐘附加清洗不足W洗去該殘留物。
[0079] T0F-SIMS分析確認(rèn)在經(jīng)過蝕刻的樣品表面和用去離子水清洗過的樣品的表面存 在巧、儀和氣。參見圖5A和5B。如圖5A所示，3M的HC1消耗了表面上的A1并有效地去除了氣。 經(jīng)過水平W及水平+垂直的刷洗清潔的樣品都顯示在表面存在鐘。雖然刷洗清潔有效地去 除了氣化物殘留物，但是該表面具有一些鐘。運些鐘可能來源于刷洗清潔過程中所使用的 semi-clean KG清洗劑。
[0080] 側(cè)光照明研究顯示在刷洗清潔后的樣品中存在若干劃痕。光學(xué)顯微鏡的圖像也印 證了該觀察結(jié)果。光學(xué)顯微鏡圖像顯示在10周的保存期后，在經(jīng)過蝕刻的和不清潔的玻璃 的表面形成晶體。在經(jīng)過清潔的樣品中沒有發(fā)現(xiàn)晶體形成。運進一步印證了用于去除蝕刻 工藝所殘留的氣化物殘留物的有效的清洗方法的重要性。
[0081] 所有的化學(xué)處理方法、包括在機械攬動下的去離子水清洗、3M的HC1的清洗、6M的 HC1的清洗、超聲波清洗和兆頻超聲波清洗都至少部分有效地去除了經(jīng)過蝕刻的玻璃表面 的化學(xué)殘留物。雖然刷洗清潔能夠去除經(jīng)過蝕刻的玻璃上的一些化學(xué)殘留物，但是毛刷導(dǎo) 致了對玻璃基板的表面品質(zhì)造成損害的劃痕。用去離子水進行5分鐘附加清洗不足W有效 地去除玻璃表面上的氣化物殘留物。即使6M的HC1溶液有效地去除了氣化物殘留物，但其對 玻璃造成了損害。3M的肥1被證明能夠有效地清潔經(jīng)過蝕刻的玻璃表面。
[00劇實施例3
[0083] 使用10 %的HF(例如20體積％的50體積％的邸母液)將尺寸為r X r的化g 1 e XG1' 板材從500微米薄化至300微米。使用刷洗清潔、HCl清洗和超聲波清潔對運些樣品進行清 潔。測試運些樣品、經(jīng)過蝕刻的參比樣品W及拉制后的EagleXG&玻璃樣品的表面強度。如 圖6所示，相比于使用超聲波清洗方法進行清潔的樣品和經(jīng)過蝕刻的參比樣品，刷洗清潔后 的樣品的強度最低。在所測試的方法中，用HC1清潔的樣品的強度最高。參見圖6。
[0084] 下示的表1顯示了所使用的清洗方法及其各自的表面品質(zhì)和表面強度結(jié)果的總 結(jié)。
[0085] 表 1
[0086]
[0087] 實施例4
[008引下示的表2顯示了溶解Eag 1 e XG 於渣所用的時間和清洗溶液。使4g/L的Eagle 齡渣懸浮于各溶液中W供測試。
[0089]表2
[0090]
【主權(quán)項】
1. 一種經(jīng)過蝕刻的玻璃表面的處理方法，所述玻璃表面經(jīng)過包含氟離子的蝕刻劑的蝕 刻，所述方法包括： 向所述經(jīng)過蝕刻的玻璃表面施用包含至少一種無機酸的溶液。2. 如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述至少一種無機酸選自鹽酸、硝酸和硫酸。3. 如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述至少一種無機酸是鹽酸。4. 如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述溶液在被施用于經(jīng)過蝕刻的玻璃表面之 前基本上不含氫氟酸。5. 如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述至少一種無機酸的濃度至少為大約3M。6. 如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述至少一種無機酸的濃度至少為大約 4.5M〇7. 如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，將所述溶液施用于經(jīng)過蝕刻的玻璃表面的操 作進行大約5分鐘~大約80分鐘的時間。8. 如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述溶液還包含至少一種表面活性劑。9. 如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在至少大約22°C的溫度下施用所述溶液。10. -種經(jīng)過處理的經(jīng)過蝕刻的玻璃表面，所述玻璃表面經(jīng)過包含氟離子的蝕刻劑的 蝕刻，所述經(jīng)過處理的經(jīng)過蝕刻的玻璃表面是通過包括將一種包含至少一種無機酸的溶液 施用于經(jīng)過蝕刻的玻璃表面的工藝來制備的。11. 如權(quán)利要求10所述的經(jīng)過處理的經(jīng)過蝕刻的玻璃表面，其特征在于，所述至少一種 無機酸選自鹽酸、硝酸和硫酸。12. 如權(quán)利要求10所述的經(jīng)過處理的經(jīng)過蝕刻的玻璃表面，其特征在于，所述至少一種 無機酸選自鹽酸。13. 如權(quán)利要求10所述的經(jīng)過處理的經(jīng)過蝕刻的玻璃表面，其特征在于，所述溶液在被 施用于經(jīng)過蝕刻的玻璃表面之前基本上不含氫氟酸。14. 如權(quán)利要求10所述的經(jīng)過處理的經(jīng)過蝕刻的玻璃表面，其特征在于，所述至少一種 無機酸的濃度至少為大約3M。15. 如權(quán)利要求10所述的經(jīng)過處理的經(jīng)過蝕刻的玻璃表面，其特征在于，所述至少一種 無機酸的濃度至少為大約4.5M。16. 如權(quán)利要求10所述的經(jīng)過處理的經(jīng)過蝕刻的玻璃表面，其特征在于，將所述溶液施 用于經(jīng)過蝕刻的玻璃表面的操作進行大約5分鐘~大約80分鐘的時間。17. 如權(quán)利要求10所述的經(jīng)過處理的經(jīng)過蝕刻的玻璃表面，其特征在于，所述溶液還包 含至少一種表面活性劑。18. 如權(quán)利要求10所述的經(jīng)過處理的經(jīng)過蝕刻的玻璃表面，其特征在于，在至少大約22 °C的溫度下施用所述溶液。19. 一種經(jīng)過蝕刻的玻璃表面的處理方法，所述玻璃表面經(jīng)過包含氟離子的蝕刻劑的 蝕刻，所述方法包括： 將包含濃度至少為大約3M的鹽酸的溶液施用于所述玻璃表面，其中，所述溶液在被施 用于經(jīng)過蝕刻的玻璃表面之前基本上不含氫氟酸。20. 如權(quán)利要求19所述的方法，其特征在于，將所述溶液施用于經(jīng)過蝕刻的玻璃表面的 操作進行大約5分鐘~大約80分鐘的時間。
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種經(jīng)過蝕刻的玻璃表面的處理方法，該方法包括將包含至少一種無機酸的清洗溶液施用于經(jīng)過蝕刻的玻璃基板。本發(fā)明還涉及一種包含至少一種無機酸的用于對經(jīng)過蝕刻的玻璃基材進行清洗的清洗溶液。
【IPC分類】C03C15/00
【公開號】CN105593182
【申請?zhí)枴緾N201480053148
【發(fā)明人】J·S·卡沃蒂, 侯軍, 金宇輝, J·S·金, T·J·奧克特, S·尚穆加姆
【申請人】康寧股份有限公司
【公開日】2016年5月18日
【申請日】2014年7月23日
【公告號】WO2015013360A1