專利名稱：锍化合物的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種適用于酸生成劑的新型锍化合物。
背景技術：
用于使用光刻法的半導體微型制造的化學放大型正性抗蝕劑組合物含有酸生成齊 ，所述酸生成劑包含通過輻照產生酸的化合物。
US 2003/0194639Α1公開了一種由下式表示的锍化合物
和含有該锍化合物作為酸生成劑的化學放大型抗蝕劑組合物。

發(fā)明內容
本發(fā)明的一個目的是提供一種適用于酸生成劑的新型锍化合物。
本發(fā)明涉及以下方面 <1> 一種由下式⑴表示的锍化合物
其中Q1和Q2各自獨立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，R1表示具有β -酮酯結構的C5-C42有機基團，并且A+表示有機抗衡離子； <2>根據<1>所述的锍化合物，其中R1是由下式(Ib)表示的基團 -R2-CO-CH2-COO-R3(Ib) 其中R2表示C1-C12 二價烴基，并且R3表示可以具有一個或多個取代基的C1-C24 烴基，并且所述C1-C24烴基中的-CH2-可以被-NH-、-C0-或-0-代替，并且所述C1-C24烴基中的-CH =可以被-NH =代替； <3>根據<2>所述的锍化合物，其中R2是亞甲基、亞乙基、三亞甲基或四亞甲基； <4>根據<2>或<3>所述的锍化合物，其中在R3中的取代基是鹵素原子、羥基、氰基、-OR4-、-CO-OR4、-O-CO-R4、-SO2R4 或-O-SO2-R4,其中 R4 表示 C1-C6 烴基； <5>根據<1>至<4>中任一項所述的锍化合物，其中Q1和Q2各自獨立地表示氟原子或三氟甲基； <6>根據<1>至<5>中任一項所述的锍化合物，其中所述有機抗衡離子是由下式 (IXz)表示的陽離子

(IXz) 其中Pa、Pb和Pe各自獨立地表示可以被選自羥基、C1-C12烷氧基和C3-C12環(huán)烴基中的至少一個取代的C1-C30烷基，或可以被選自羥基、鹵素原子和C1-C12烷氧基中的至少一個取代的C3-C30環(huán)烴基； <7>根據<1>至<5>中任一項所述的锍化合物，其中所述有機抗衡離子是由下式 (IIIa)表示的陽離子

(Ilia) 其中Ρ25、Ρ26和P27在每次出現時獨立地為羥基、鹵素原子、C1-C12烷基、C1-C12烷氧基或C3-C12環(huán)烴基，并且所述C3-C12環(huán)烴基可以被商素原子、羥基或C1-C12烷氧基取代，并且1、m和η各自獨立地表示0至5的整數； <8> 一種化學放大型光致抗蝕劑組合物，其包含根據<1>至<7>中任一項所述的锍化合物和樹脂，所述樹脂包含具有酸不穩(wěn)定基團的結構單元，并且不溶于或難溶于堿性水溶液，但是通過酸的作用變得可溶于堿性水溶液 <9>根據<8>所述的化學放大型光致抗蝕劑組合物，其中所述組合物還包含堿性化合物； <10> 一種用于制備由下式(Ia)表示的锍化合物的方法，

(Ia) 其中Q1和Q2各自獨立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，R1表示具有β _酮酯結構的C5-C42有機基團，并且A+表示有機抗衡離子，所述方法包括使由下式(VI)表示的化合物與由下式(VII)表示的鹽反應， Z-R1 (VI) 在式(VI)中R1與上述定義相同并且Z表示鹵素原子，
在式(VII)中Q1、Q2和A+與上述定義相同； <11> 一種用于制備由式(Ia)表示的锍化合物的方法，
其中Q1和Q2各自獨立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，R1表示具有β -酮酯結構的C5-C42有機基團，并且A+表示有機抗衡離子，所述方法包括使由下式(VIII)表示的化合物與由下式(IX)表示的鹽反應 Α+Ι7 (VIII) 在式(VIII)中A+與上述定義相同并且Γ表示Γ、Cr、Br\ Γ、BF4\ AsFf、SbF6\ PF6_ 或 C104_ ；
在式(IX)中Q1、Q2和R1與上述定義相同，并且M+是Li+、Na+或K+。
具體實施例方式锍化合物由下式(I)表示
其中Q1和Q2各自獨立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，R1表示具有β _酮酯結構的C5-C42有機基團，并且A+表示有機抗衡離子(以下，簡稱為锍化合物(la))。
C1-C6全氟烷基的實例包括三氟甲基、五氟乙基、七氟丙基、九氟丁基、十一氟戊基和十三氟己基，并且優(yōu)選三氟甲基。優(yōu)選Q1和Q2各自獨立地表示氟原子或三氟甲基，并且更優(yōu)選Q1和Q2表示氟原子。
具有β -酮酯結構的C5-C42有機基團的實例包括由式(1_1)表示的基團 -R2-X1-R3(I-I) 其中R2表示C1-C12 二價烴基，并且R3表示可以具有一個以上的取代基的C1-C24 烴基，并且所述C1-C24烴基中的-CH2-可以被-NH-、-C0-或-0-代替，并且所述C1-C24烴基中的-CH =可以被-NH =代替，X1 表示 *-C0-CRaRb-C0-0-或 *-C0_CRaRb-C0-，其中 Ra 和 Rb 各自獨立地表示氫原子，或Ra表示氫原子并且Rb和R3相互結合以形成C3-C24環(huán)，或Ra、Rb 和R3相互結合以形成C3-C24環(huán)，并且*是R2的結合部位。
由其中Ra和Rb是氫原子的式(I-I)表示的基團的實例包括由式(Ib)表示的基團和由式(Ic)表示的基團 -R2-CO-CH2-COO-R3(Ib) -R2-O-CO-CH2-CO-R3(IC) 其中R2和R3與上述定義相同。
在R2中的C1-C12 二價烴基的實例包括C1-C12 二價直鏈脂族烴基、C3-C12 二價支鏈脂族烴基、C3-C12 二價環(huán)狀烴基和通過結合它們中的兩個以上的基團而形成的基團。 二價直鏈或支鏈脂族烴基的實例包括C1-C12亞烷基如亞甲基、亞乙基、亞丙基、亞丁基、五亞甲基、六亞甲基、七亞甲基、八亞甲基、九亞甲基、十亞甲基、i^一亞甲基和十二亞甲基。二價環(huán)狀烴基的實例包括下列
通過結合C1-C12 二價直鏈脂族烴基、C3-C12 二價支鏈脂族烴基和C3-C12 二價環(huán)狀烴基中的兩個以上的基團而形成的基團的實例包括下列
在R3中的C1-C24烴基的實例包括C1-C24直鏈脂族烴基、C3-C24支鏈脂族烴基、C3-C24脂環(huán)族烴基、C5-C24芳族烴基和C6-C24芳烷基?？梢跃哂幸粋€以上取代基的C1-C24烴基和所述C1-C24烴基中的-CH2-可以被-NH-、_CO-或-O-代替，并且所述C1-C24 烴基中的-CH =可以被-NH =代替。所述取代基的實例包括鹵素原子如氟原子、羥基、氰基、-OR4-、-CO-OR4、-O-CO-R4、-SO2R4 或-O-SO2-R4,其中 R4 表示 Cl-C6 烴基。在 R4 中的 C1-C6 烴基的實例包括C1-C6直鏈脂族烴基如甲基，乙基，丙基，丁基，戊基和己基；C3-C6支鏈脂族烴基如異丙基，仲丁基，叔丁基和甲基戊基；C3-C6脂環(huán)基團如環(huán)丙基、環(huán)丁基、環(huán)戊基、 和環(huán)己基；以及苯基。
C1-C24直鏈脂族烴基的實例包括C1-C24直鏈烷基如甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基、十三烷基、十四烷基、十五烷基、十六燒基、十七燒基、十八燒基、十九燒基、二十燒基、二十一燒基、二十二燒基、二十三燒基、 二十四烷基、二十五烷基、二十六烷基、二十七烷基、二十八烷基、二十九烷基和三十烷基， 并且優(yōu)選甲基，乙基，丙基和丁基。
C3-C24支鏈脂族烴基的實例包括C3-C24支鏈烷基如異丙基，仲丁基，叔丁基，甲基戊基，乙基戊基，甲基己基，乙基己基，丙基己基和叔辛基，并且優(yōu)選異丙基，仲丁基，叔丁基禾口乙基己基。
C3-C24脂環(huán)族烴基的實例包括下列




C5-C24芳族烴基的實例包括下列

C6-C24芳烷基的實例包括下列
由式(I-I)表示的基團
其中R2和R3與上述定義相同，并且X1表示*-C0-CRaRb-C0-0-或*-C0_CRaRb-C0-， 其中Ra表示氫原子，并且Rb和R3相互結合以形成C3-C24環(huán)，或Ra、Rb和R3相互結合以形成C3-C24環(huán)，并且*是R2的結合部位，其實例包括由式(Id)表示的基團和由式(Ie)表示的基團
其中R2與上述定義相同，W1表示任選取代的C3-C24烴環(huán)基，其中一個-CH2-被-CO-代替，并且W2表示C3-C24烴環(huán)基，其中一個-CH2-CH2被-CO-O代替，并且 C3-C24烴環(huán)中的-CH2-可以被-NH-、-C0-或-0-代替。取代基的實例包括鹵素原子如氟原子、羥基、氰基、-OR4-、-CO-OR4, -O-CO-R4, -SO2R4或-O-SO2-R4,其中R4與上述定義相同。
在W1中的烴環(huán)基的實例包括下列
在W2中的烴環(huán)的實例包括下列
锍化合物(Ia)的實例包括下列
其中A+與上述定義相同。
有機抗衡離子的實例包括由式(IXz)、(IXb)、(IXc)和(IXd)表示的陽離子
其中，Pa、Pb和Pe各自獨立表示可以具有選自羥基、C3-C12環(huán)烴基和C1-C12烷氧基中一個以上的取代基的C1-C30烷基，或可以具有選自羥基和C1-C12烷氧基中一個以上的取代基的C3-C30環(huán)烴基，P4和P5各自獨立地表示氫原子、羥基、C1-C12烷基或C1-C12烷氧基，P6和P7各自獨立地表示C1-C12烷基或C3-C12環(huán)烷基，或者P6和P7結合以形成C3-C12 二價無環(huán)烴基，其與相鄰的S+—起形成環(huán)，并且所述二價無環(huán)烴基中的一個以上的_012_可以被-CO-、-0-或-S-代替，P8表示氫原子，P9表示可以具有一個以上取代基的C1-C12烷基、C3-C12環(huán)烷基或C6-C20芳族基團，或者P8和P9相互結合以形成二價無環(huán)烴基，其與相鄰的-CHCO- —起形成2-氧代環(huán)烷基，并且所述二價無環(huán)烴基中的一個以上的-CH2-可以被-CO-、-0-或-S-代替，并且 P10、P11、P12、P13、P14、P15、P16、P17、P18、P19、P20 和 P21 各自獨立地表示氫原子、羥基、C1-C12烷基或C1-C12烷氧基，E表示硫原子或氧原子，并且q表示0 或1。
式(IXz)、(IXb)和(IXd)中的C1-C12烷氧基的實例包括甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、異丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、戊氧基、己氧基、辛氧基和2-乙基己氧基。式(IXz)中的C3-C12環(huán)烴基的實例包括環(huán)戊基、環(huán)己基、1-金剛烷基、2-金剛烷基、苯基、2-甲基苯基、4-甲基苯基、1-萘基和2-萘基。
式(IXz)中的可以具有選自羥基、C3-C12環(huán)烴基和C1-C12烷氧基中的一個以上取代基的C1-C30烷基的實例包括甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、仲丁基、叔丁基、 戊基、己基、辛基、2-乙基己基和芐基。
式(IXz)中的可以具有選自羥基和C1-C12烷氧基中的一個以上取代基的C3-C30 環(huán)烴基的實例包括環(huán)戊基、環(huán)己基、1-金剛烷基、2-金剛烷基、雙環(huán)己基、苯基、2-甲基苯基、4-甲基苯基、4-乙基苯基、4-異丙基苯基、4-叔丁基苯基、2，4_ 二甲基苯基、2，4，6_三甲基苯基、4-己基苯基、4-辛基苯基、1-萘基、2-萘基、芴基、4-苯基苯基、4-羥基苯基、 4-甲氧基苯基、4-叔丁氧基苯基和4-己氧基苯基。
式(IXb)、(IXc)和(IXd)中的C1-C12烷基的實例包括甲基、乙基、丙基、異丙基、 丁基、異丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、己基、辛基和2-乙基己基。
式(IXc)中的C3-C12環(huán)烷基的實例包括環(huán)丙基、環(huán)丁基、環(huán)戊基、環(huán)己基、環(huán)庚基、環(huán)辛基和環(huán)癸基。通過結合P6和P7形成的C3-C12 二價無環(huán)烴基的實例包括三亞甲基、四亞甲基和五亞甲基。由相鄰的S+與二價無環(huán)烴基一起形成的環(huán)基團的實例包括四亞甲基锍基(sulfonio)、五亞甲基锍基和氧雙亞乙基锍基。
式(IXc)中可以具有一個以上取代基的C6-C20芳族基的實例包括苯基、甲苯基、 二甲苯基、叔丁基苯基和萘基。由P8和P9結合形成的二價無環(huán)烴基的實例包括亞甲基、 亞乙基、三亞甲基、四亞甲基和五亞甲基，并且相鄰的-CHCO-與二價無環(huán)烴基一起形成的 2-氧代環(huán)烷基的實例包括2-氧代環(huán)戊基和2-氧代環(huán)己基。
優(yōu)選由式(IXz)表示的陽離子，并且更優(yōu)選由式(IIIa)表示的陽離子
其中ρ25、Ρ26和P27在每次出現時獨立地為羥基、鹵素原子、C1-C12烷基、C1-C12烷氧基或C3-C12環(huán)烴基，并且C3-C12環(huán)烴基可以具有鹵素原子、羥基或C1-C12烷氧基，并且 l、m和η各自獨立地表示0至5的整數。
在式(IIIa)中，鹵素原子的實例包括氟原子、氯原子、溴原子和碘原子，并且優(yōu)選氟原子、氯原子和溴原子，并且更優(yōu)選氟原子。C1-C12烷基的實例包括甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、己基、辛基和2-乙基己基。C1-C12烷氧基的實例包括甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、己氧基、辛氧基和2-乙基己氧基。C3-C12環(huán)烴基和可以具有鹵素原子、羥基或C1-C12烷氧基的C3-C12環(huán)烴基的實例包括具有金剛烷基骨架的基團和具有異冰片基骨架的基團，并且其優(yōu)選實例包括2-烷基-2-金剛烷基、1-(1-金剛烷基)-1_烷基和異冰片基。
由式(IIIa)表示的陽離子的實例包括下列


以更容易地制備

(IXe) 其中P\P2和P3各自獨立地表示氫原子、羥基、鹵素原子、C1-C12烷基或C1-C12烷氧基。
由式(IXb)表示的陽離子的實例包括下列
由式(IXc)表示的陽離子的實例包括下列

由式(IXd)表示的陽離子的實例包括下列







锍化合物(Ia)可以通過包括以下步驟的方法制備使由式(VI)表示的化合物 Z-R1 (VI) 其中R1與上述定義相同，并且Z表示鹵素原子，與由下式(VII)表示的鹽反應
其中Q1、Q2和A+與上述定義相同。
相對于每1摩爾由式(VII)表示的鹽，要使用的由式(VI)表示的化合物的量通常為0.9至3摩爾，并且優(yōu)選1至2摩爾。由式(VI)表示的化合物與由式(VII)表示的鹽的反應通常在惰性溶劑如水、乙腈、氯仿和二氯甲烷中以及在O至100°C，優(yōu)選O至60°C的溫度進行。反應通常在堿的存在下進行，并且堿的實例包括無機堿如氫氧化鈉，氫氧化鉀和碳酸鉀，有機堿如吡啶，二甲基吡啶和三乙胺。相對于每1摩爾由式(VII)表示的鹽，使用的堿的量通常為1至3摩爾，并且優(yōu)選為1至2摩爾。所得到的锍化合物(Ia)可以通過結晶或用水洗滌而取得。
備選地，锍化合物(Ia)還可以通過包括以下步驟的方法制備使由式(VIII)表示的化合物 Α+Γ (VIII) 其中A+ 與上述定義相同，并且 L—表示 F—、Cl—、Br—、Γ、BF4_、AsF6_、SbF6_、PF6_ 或 ClO4-,與由式(IX)表示的鹽反應，
其中Q1、Q2和R1與上述定義相同，并且M+為Li+、Na+或K+。相對于每1摩爾的由式(IX)表示的鹽，要使用的由式(VIII)表示的化合物的量通常為0.9至2摩爾，并且優(yōu)選 1至1. 5摩爾。
化學放大型光致抗蝕劑組合物包含锍化合物(Ia)和樹脂，所述樹脂包含具有酸不穩(wěn)定基團的結構單元，并且不溶于或難溶于堿性水溶液，但是通過酸的作用變得可溶于堿性水溶液。
光致抗蝕劑組合物可以具有兩種以上的锍化合物(Ia)。光致抗蝕劑組合物可以具有兩種以上的樹脂。
锍化合物(Ia)在光致抗蝕劑組合物中起著酸生成劑的作用。光致抗蝕劑組合物還可以包含其它酸生成劑。
酸生成劑是通過將輻照例如光、電子束等施加在該物質本身上或施加在含有該物質的抗蝕劑組合物上而分解生成酸的物質。從酸生成劑生成的酸作用于樹脂上，使得存在于樹脂中的酸不穩(wěn)定基團的斷裂，并且所述樹脂變得可溶于堿性水溶液中。
在本說明書中，“酸不穩(wěn)定基團”是指能夠通過酸的作用被除去的基團。
在本說明書中，“-C00R”可以被稱為“具有羧酸的酯的結構”，并且可以被簡稱為 “酯基”。具體地，"-COOC(CH3)3”可以被稱為“具有羧酸的叔丁酯的結構”，或者可以被簡稱為“叔丁酯基”。
酸不穩(wěn)定基團的實例包括具有羧酸的酯的結構，比如其中與氧原子鄰接的碳原子是季碳原子的烷基酯基、其中與氧原子鄰接的碳原子是季碳原子的脂環(huán)族酯基，以及其中與氧原子鄰接的碳原子是季碳原子的內酯基。“季碳原子”是指“與四個不同于氫原子的取代基結合的碳原子”。酸不穩(wěn)定基團的其它實例包括具有與三個碳原子和-OR'結合的季碳原子的基團，其中R'表示烷基。
酸不穩(wěn)定基團的實例包括其中與氧原子鄰接的碳原子是季碳原子的烷基酯基， 比如叔丁酯基；縮醛型酯基，如甲氧基甲酯基、乙氧基甲酯基、1-乙氧基乙酯基、1-異丁氧基乙酯基、1-異丙氧基乙酯基、1-乙氧基丙氧酯基、1-(2-甲氧基乙氧基)乙酯基、1-(2-乙酰氧基乙氧基)乙酯基、1-[2-(1_金剛烷基氧基)乙氧基]乙酯基、1-[2-(1_金剛烷羰氧基)乙氧基]乙酯基、四氫-2-呋喃酯基和四氫-2-吡喃酯基；其中與氧原子鄰接的碳原子是季碳原子的脂環(huán)族酯基，比如異冰片酯基、1-烷基環(huán)烷基酯基、2-烷基-2-金剛烷基酯基和ι-(ι-金剛烷基)-ι-烷基烷基酯基。上述金剛烷基可以具有1個以上的羥基。
具有酸不穩(wěn)定基團的結構單元的實例包括衍生自丙烯酸酯的結構單元、衍生自甲基丙烯酸酯的結構單元、衍生自降冰片烯羧酸酯的結構單元、衍生自三環(huán)癸烯羧酸酯的結構單元、和衍生自四環(huán)十二癸烯羧酸酯的結構單元。優(yōu)選衍生自丙烯酸酯和衍生自甲基丙烯酸酯的結構單元。
樹脂可以通過進行一種或多種具有酸不穩(wěn)定基團和烯烴雙鍵的單體的聚合反應而得到。聚合反應通常在自由基引發(fā)劑的存在下進行。
在單體之中，優(yōu)選具有體積大并且酸-不穩(wěn)定的基團如脂環(huán)族酯基(例如1-烷基-1-環(huán)己基酯基、2-烷基-2-金剛烷基酯和1- (1-金剛烷基)-1-烷基烷基酯基)的那些，因為在光致抗蝕劑組合物中使用所得到的樹脂時，獲得了優(yōu)異的分辨率。
含有體積大并且酸_不穩(wěn)定的基團的這些單體的實例包括丙烯酸1-烷基-1-環(huán)己酯、甲基丙烯酸1-烷基-1-環(huán)己酯、丙烯酸2-烷基-2-金剛烷酯、甲基丙烯酸2-烷基-2-金剛烷酯、丙烯酸1-(1_金剛烷基)-1_烷基烷基酯、甲基丙烯酸1-(1_金剛烷基)-1_烷基烷基酯、5-降冰片烯-2-甲酸2-烷基-2-金剛烷基酯、5-降冰片烯-2-甲酸1-(1-金剛烷基)-1_烷基烷基酯、α氯丙烯酸2-烷基-2-金剛烷基酯和α氯丙烯酸 1- (1-金剛烷基)-ι-烷基烷基酯。
特別是當使用丙烯酸2-烷基-2-金剛烷酯、甲基丙烯酸2-烷基-2-金剛烷酯或 α -氯丙烯酸2-烷基-2-金剛烷基酯作為用于光致抗蝕劑組合物中的樹脂組分時，趨向于獲得具有優(yōu)異的分辨率的光致抗蝕劑組合物。其典型實例包括丙烯酸2-甲基-2-金剛烷酯、甲基丙烯酸2-甲基-2-金剛烷酯、丙烯酸2-乙基-2-金剛烷酯、甲基丙烯酸2-乙基-2-金剛烷酯、丙烯酸2-正丁基-2-金剛烷酯、α -氯丙烯酸2-甲基-2-金剛烷酯和 α -氯丙烯酸2-乙基-2-金剛烷酯。
當特別是將丙烯酸2-乙基-2-金剛烷酯、甲基丙烯酸2- 乙基-2-金剛烷酯、丙烯酸2-異丙基-2-金剛烷酯或甲基丙烯酸2-異丙基-2-金剛烷酯用于光致抗蝕劑組合物時， 趨向于獲得具有優(yōu)異靈敏度和耐熱性的光致抗蝕劑組合物。在必要時，可以將兩種以上具有一個或多個通過酸的作用離解的基團的單體一起使用。
丙烯酸2-烷基-2-金剛烷酯通常可以通過使2-烷基-2-金剛烷醇或其金屬鹽與丙烯酰鹵反應制備，而甲基丙烯酸2-烷基-2-金剛烷酯通?？梢酝ㄟ^使2-烷基-2-金剛烷醇或其金屬鹽與甲基丙烯酰鹵反應制備， 丙烯酸1-烷基-1-環(huán)己酯的實例包括丙烯酸1-乙基-1-環(huán)己酯，而甲基丙烯酸 ι-烷基-ι-環(huán)己酯的實例包括甲基丙烯酸ι-乙基-ι-環(huán)己酯。
除上述具有酸不穩(wěn)定基團的結構單元以外，用于光致抗蝕劑組合物的樹脂還可以含有一個或多個衍生自酸穩(wěn)定單體的其它結構單元。這里，“衍生自酸穩(wěn)定單體的結構單元”是指不被酸離解的結構單元。
這種衍生自酸穩(wěn)定單體的其它結構單元的實例包括衍生自具有游離羧基的單體如丙烯酸和甲基丙烯酸的結構單元；衍生自脂族不飽和二羧酸酐如馬來酸酐和衣康酸酐的結構單元；衍生自2-降冰片烯的結構單元；衍生自丙烯腈或甲基丙烯腈的結構單元；衍生自其中與氧原子相鄰的碳原子是仲或叔碳原子的丙烯酸烷基酯或甲基丙烯酸烷基酯的結構單元；衍生自丙烯酸1-金剛烷酯或甲基丙烯酸1-金剛烷酯的結構單元；衍生自苯乙烯單體如對羥基苯乙烯和間羥基苯乙烯的結構單元；衍生自含有可以具有烷基的內酯環(huán)的丙烯酰氧基_ Y _ 丁內酯或甲基丙烯酰氧基_ Y _ 丁內酯的結構單元；等。在此，I"金剛烷氧基羰基是酸穩(wěn)定基團，但是與氧原子相鄰的碳原子是季碳原子，并且1-金剛烷氧基羰基可以具有一個或多個羥基。
衍生自酸穩(wěn)定單體的結構單元的具體實例包括衍生自丙烯酸3-羥基-1金剛烷酯的結構單元；衍生自甲基丙烯酸3-羥基-1金剛烷酯的結構單元；衍生自丙烯酸3，5- 二羥基-1-金剛烷酯的結構單元；衍生自甲基丙烯酸3，5- 二羥基-1-金剛烷酯的結構單元； 衍生自α-丙烯酰氧基-Υ-丁內酯的結構單元；衍生自α-甲基丙烯酰氧基-Y-丁內酯的結構單元；衍生自丙烯酰氧基-Y-丁內酯的結構單元；衍生自甲基丙烯酰氧基-Y-丁內酯的結構單元；由式(a)表示的結構單元
其中R11表示氫原子或甲基，R13在每次出現時獨立地為甲基、三氟甲基或鹵素原子，并且i表示O至3的整數； 由式(b)表示的結構單元
其中R12表示氫原子或甲基，R14在每次出現時獨立地為甲基、三氟甲基或鹵素原子，并且j表示O至3的整數； 衍生自對羥基苯乙烯的結構單元； 衍生自間羥基苯乙烯的結構單元； 衍生自具有烯烴雙鍵的脂環(huán)族化合物的結構單元，如由式(C)表示的結構單元
其中R15和R16各自獨立地表示氫原子、C1-C3烷基、C1_C3羥基烷基、羧基、氰基、羥基或-COOU基團，其中U表示醇殘基，或R15和R16可以結合在一起以形成由-C ( = 0) OC (= 0)-表示的酸酐殘基； 衍生自脂族不飽和二羧酸酐的結構單元，如由式(d)表示的結構單元
(ΛΛ。) (d)
由式(e)表示的結構單元
等。
特別是，出于抗蝕劑與襯底的粘附性和抗蝕劑的分辨率的觀點，優(yōu)選除具有酸不穩(wěn)定基團的結構單元以外還具有選自以下中的至少一個結構單元的樹脂衍生自對羥基苯乙烯的結構單元；衍生自間羥基苯乙烯的結構單元；衍生自丙烯酸3-羥基-1-金剛烷酯的結構單元；衍生自甲基丙烯酸3-羥基-1-金剛烷酯的結構單元；衍生自丙烯酸3，5- 二羥基-1-金剛烷酯的結構單元；衍生自甲基丙烯酸3，5- 二羥基-1-金剛烷酯的結構單元；由式(a)表示的結構單元；由式(b)表示的結構單元。
丙烯酸3-羥基-1-金剛烷酯、甲基丙烯酸3-羥基-1-金剛烷酯、丙烯酸3，5- 二羥基-1-金剛烷酯和甲基丙烯酸3，5- 二羥基-1-金剛烷酯可以例如通過使相應的羥基金剛烷與丙烯酸、甲基丙烯酸或其酰鹵反應而制備，并且它們也是可商購的。
此外，丙烯酰氧基-Y - 丁內酯和甲基丙烯酰氧基_ Y _ 丁內酯可以通過使相應的 α-或β-溴-Y-丁內酯與丙烯酸或甲基丙烯酸反應而制備，或者通過使相應的α-或 β _羥基_ Y _ 丁內酯與丙烯酰鹵或甲基丙烯酰鹵反應而制備。
提供由式(a)和(b)表示的結構單元的單體的實例包括下述具有羥基的脂環(huán)族內酯的丙烯酸酯和脂環(huán)族內酯的甲基丙烯酸酯及其混合物。這些酯可以例如通過使相應的具有羥基的脂環(huán)族內酯與丙烯酸或甲基丙烯酸反應而制備，其制備方法描述于例如JP 2000-26446 中。

其中內酯環(huán)可以被烷基取代的丙烯酰氧基_ Y _ 丁內酯和甲基丙烯酰氧基_ Y _ 丁內酯的實例包括α-丙烯酰氧基-Υ-丁內酯、α -甲基丙烯酰氧基-Y-丁內酯、α-丙烯酰氧基_β，β —二甲基— Υ —丁內酉旨、α—甲基丙烯酰氧基_β，β —二甲基— Υ —丁內酉旨、 α_丙烯酰氧基_α_甲基_Y_丁內酉旨、α_甲基丙烯酰氧基_α_甲基_Y_丁內酉旨、β_丙烯酰氧基-Y-丁內酯、β-甲基丙烯酰氧基-Υ-丁內酯和β-甲基丙烯酰氧基-α-甲基-Y-丁內酯。
含有衍生自2-降冰片烯的結構單元的樹脂具有堅固的結構，因為脂環(huán)族基團直接存在于其主鏈上并且表現出耐干法蝕刻性優(yōu)異的性質?？梢詫⒀苌?-降冰片烯的結構單元通過自由基聚合引入到主鏈中，所述的自由基聚合例如除了使用相應的2-降冰片烯外，還一起使用例如脂肪族不飽和二羧酸酐如馬來酸酐和衣康酸酐。衍生自2-降冰片烯的結構單元是通過打開其雙鍵而形成的，并且可以由上述式(c)表示。衍生自馬來酸酐的結構單元和衍生自衣康酸酐的結構單元，即衍生自脂肪族不飽和二羧酸酐的結構單元，是通過打開它們的雙鍵而形成的，并且可以分別由上述式(d)和式(e)表示。
R15和R16中，C1-C3烷基的實例包括甲基、乙基和丙基，而C1_C3羥烷基的實例包括羥甲基和2-羥乙基。
R15和R16中，-COOU基是從羧基形成的酯，并且與U對應的醇殘基的實例包括任選取代的C1-C8烷基、2-氧代氧雜環(huán)戊烷(oxooxolan) _3_基、2-氧代氧雜環(huán)戊烷_4_基，并且在C1-C8烷基上的取代基的實例包括羥基和脂環(huán)族烴基。
用于產生由上述式(C)表示的結構單元的單體的具體實例可以包括2-降冰片烯、 2-羥基-5-降冰片烯、5-降冰片烯-2-羧酸、5-降冰片烯-2-羧酸甲酯、5-降冰片烯_2_羧酸2-羥基乙酯、5-降冰片烯-2-甲醇和5-降冰片烯-2，3- 二羧酸酐。
當-COOU基團中的U是酸不穩(wěn)定基團時，即使由式(c)表示的結構單元含有降冰片烷結構，它也是含有酸不穩(wěn)定基團的結構單元。產生含有酸不穩(wěn)定基團的結構單元的單體的實例包括5-降冰片烯-2-羧酸叔丁酯、5-降冰片烯-2-羧酸1-環(huán)己基-1-甲基乙酯、 5-降冰片烯-2-羧酸1-甲基環(huán)己酯、5-降冰片烯-2-羧酸2-甲基-2-金剛烷基酯、5-降冰片烯-2-羧酸2-乙基-2-金剛烷基酯、5-降冰片烯-2-羧酸1-(4_甲基環(huán)己基)-1_甲基乙酯、5-降冰片烯-2-羧酸1-(4-羥基環(huán)己基)-1-甲基乙酯、5-降冰片烯-2-羧酸1-甲基-1- (4-氧代環(huán)己基)乙酯和5-降冰片烯-2-羧酸1- (1-金剛烷基)-1-甲基乙酯。
基于樹脂的所有結構單元的總摩爾數，在樹脂中具有酸不穩(wěn)定基團的結構單元的含量通常為10到80摩爾％。
在光致抗蝕劑組合物中，基于固體組分的量，樹脂的含量通常為70到99. 9重量％，并且優(yōu)選80到95重量％，并且基于固體組分的量，酸生成劑組分的含量通常為0. 1 至30重量％，并且優(yōu)選5至20重量％。在本文中，“固體組分”是指在光致抗蝕劑組合物中除了一種或多種溶劑之外的所有組分之和，并且“酸生成劑組分”是指锍化合物(Ia)和一種或多種其它酸生成劑。
在光致抗蝕劑組合物中，可以通過加入有機堿化合物，特別是含氮有機堿化合物作為猝滅劑，減小由于后曝光延遲而發(fā)生的酸失活所致的性能劣化。
含氮有機堿化合物的具體實例包括由下式表示的含氮有機堿化合物
可以具有選自羥基、可以被C1-C4脂族烴基取代的氨基以及C1-C6烷氧基中的一個或多個基團的芳族烴基的具體實例包括苯基和萘基。
烷氧基的具體實例包括甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、叔丁氧基、戊氧基和己氧基。
亞烷基的具體實例包括亞乙基、三亞甲基、四亞甲基、亞甲二氧基和亞乙基-1，
2-二氧基。
含氮有機堿化合物的具體實例包括己胺、庚胺、辛胺、壬胺、癸胺、苯胺、2-甲基苯胺、3-甲基苯胺、4-甲基苯胺、4-硝基苯胺、1-萘胺、2-萘胺、乙二胺、四亞甲基二胺、六亞甲基二胺、4，4，- 二氨基-1，2-二苯基乙烷、4，4，- 二氨基_3，3，- 二甲基二苯基甲烷、4， 4’_ 二氨基_3，3’- 二乙基二苯基甲烷、二丁胺、二戊胺、二己胺、二庚胺、二辛胺、二壬胺、二癸胺、N-甲基苯胺、哌啶、二苯胺、三乙胺、三甲胺、三丙胺、三丁胺、三戊胺、三己胺、三庚胺、 三辛胺、三壬胺、三癸胺、甲基二丁胺、甲基二戊胺、甲基二己胺、甲基二環(huán)己胺、甲基二庚胺、甲基二辛胺、甲基二壬胺、甲基二癸胺、乙基二丁胺、乙基二戊胺、乙基二己胺、乙基二庚胺、乙基二辛胺、乙基二壬胺、乙基二癸胺、二環(huán)己基甲胺、三[2-(2_甲氧基乙氧基)乙基] 胺、三異丙醇胺、N，N-二甲基苯胺、2，6_ 二異丙基苯胺、咪唑、苯并咪唑、吡啶、4-甲基吡啶、 4-甲基咪唑、聯(lián)吡啶、2，2’ -二吡啶胺、二-2-吡啶酮、1，2_ 二(2-吡啶基)乙烷、1，2-二 (4-吡啶基)乙烷、1，3-二 (4-吡啶基)丙烷、1，2-雙(2-吡啶基)乙烯、1，2-雙(4-吡啶基)乙烯、1，2-雙(4-吡啶氧基)乙烷、4，4’-二吡啶硫醚(sulfide)、4，4’-二吡啶二硫醚 (disulfide)、1,2-雙(4-吡啶基)乙烯、2，2，-二吡啶甲基胺、3，3’ _ 二吡啶甲基胺、氫氧化四甲銨、氫氧化四丁銨、氫氧化四己銨、氫氧化四辛銨、氫氧化苯基三甲銨、氫氧化(3-三氟甲基苯基)三甲銨和氫氧化(2-羥乙基)三甲銨(所謂的“膽堿”)。
還可以使用如JP 11-52575A1中公開的具有哌啶骨架的受阻胺化合物作為猝滅劑。
就形成具有更高分辨率的圖案而言，優(yōu)選采用氫氧化季銨作為猝滅劑。
當采用堿性化合物作為猝滅劑時，基于固體組分的總量，本發(fā)明的抗蝕劑組合物優(yōu)選包含0. 01至1重量％的堿性化合物，并且更優(yōu)選包含0. 05至0. 3重量％的堿性化合物。
必要時，光致抗蝕劑組合物可以含有少量的各種添加劑，比如敏化劑、溶解抑制齊U、其它聚合物、表面活性劑、穩(wěn)定劑和染料，只要不妨礙本發(fā)明的效果即可。
光致抗蝕劑組合物通常是將上述成分溶解在溶劑中的抗蝕劑液體組合物形式，并且采用常規(guī)的方法如旋涂法將該抗蝕劑液體組合物涂敷到基材如硅晶片上。所使用的溶劑足以溶解上述成分，具有合適的干燥速率，并且在溶劑蒸發(fā)后產生均勻且光滑的涂層?？梢允褂帽绢I域中通常使用的溶劑。
溶劑的實例包括二元醇醚酯，比如乙基溶纖劑乙酸酯、甲基溶纖劑乙酸酯和丙二醇一甲醚乙酸酯；無環(huán)酯，比如乳酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸戊酯和丙酮酸乙酯；酮，如丙酮、 甲基異丁基酮、2-庚酮和環(huán)己酮；以及環(huán)酯，如Y-丁內酯。這些溶劑可以單獨使用，或者將其兩種或更多種混合使用。
將涂敷在基材上然后干燥的抗蝕劑膜進行曝光以形成圖案，然后進行熱處理以促進解封反應，其后用堿性顯影劑顯影。所使用的堿性顯影劑可以是本領域中使用的各種堿性水溶液中的任何一種。通常地，經常使用氫氧化四甲銨或氫氧化(2-羥乙基)三甲銨(通常稱作“膽堿”)的水溶液。
應當解釋的是，此處公開的實施方案在所有方面都是實例而不是限制性的。意圖在于，本發(fā)明的范圍不是由上面的說明而是由后附權利要求書確定的，并且包括權利要求書的等價含義和范圍的所有變體。
將通過實施例更具體地描述本發(fā)明，但這些實施例不應解釋為對本發(fā)明范圍的限制。用以表示以下實施例中使用的任何化合物的量和任何物質的量的“ %，，和“份”都是基于重量的，除非另外具體指明。所得的任何化合物的結構由NMR (由JEOL LTD制造的EX-270 型)和質譜(液相色譜1100型，由AGILENT TECHNOLOGIES LTD制造，質譜:LC/MSD型或 LC/MSDT0F 型，由 AGILENT TECHNOLOGIES LTD.制造)確定。
實施例1

(Al) (1)向5份由式(Al-a)表示的化合物、25份甲苯和25份二氯乙烷的溶液中，添加 4. 1份由式(Al-b)表示的化合物和0. 34份四異丙醇鈦。將所得混合物回流22小時。將所得到的反應混合物冷卻至室溫，并且將125份的離子交換水加入其中。將所得混合物用 200份的氯仿萃取。將所得的有機層用水洗滌三次，然后在減壓下濃縮以獲得7. 8份由式 (Al-c)表示的化合物。
1H-WR (二甲亞砜 _d6)，δ (ppm) 4. 60 (2H, s), 4. 41 (1Η, brs), 3. 72 (4Η, s), 2. 09 (2Η, s)，1. 58-1. 26(12Η, m) MS (ESI (+)光譜)[M+Na]+ 323. 1 (C15H2Cl2NO5S = 300. 1) (2)向5. 8份由式(Al-d)表示的化合物和29份N，N_二甲基甲酰胺的溶液中，添加 1.8份碳酸鉀和0. 25份碘化鉀。將所得混合物在40°C攪拌1小時，然后將4份由式(Al_c) 表示的化合物和8份N，N-二甲基甲酰胺加入其中。將所得混合物在40°C攪拌6小時。向所得的反應混合物中添加5%草酸水溶液，隨后用氯仿進行萃取。將所得的有機層用離子交換水洗滌，然后在減壓下濃縮以獲得2. 1份由式(Al)表示的化合物。
1H-WR(二甲亞砜-d6)，δ (ppm) 7· 91-7. 70 (15Η，m)，5· 06 (2Η，s)，4· 40 (1Η，brs)， 3. 71 (4H, m)，2. 09 (2H, s)，1. 61-1. 23 (12H, m) 實施例2
(1)向5份由式(A2_a)表示的化合物和50份甲苯的溶液中，添加4. 5份由式 (A2-b)表示的化合物和0. 37份四異丙醇鈦。將所得混合物回流22小時。將所得到的反應混合物冷卻至室溫，并且將50份的飽和酒石酸水溶液加入其中。將所得混合物用200份的氯仿萃取。將所得的有機層用水洗滌三次，然后在減壓下濃縮以獲得7. 8份由式(A2-c)表示的化合物。
1H-NMR (二甲亞砜 _d6)，δ (ppm) 4. 60 (2Η, s),3. 72(2H, s), 3. 67 (2Η, s), 1. 98-1. 88 (3Η, brm)，1. 74-1. 39 (12Η, m) (2)向5. 4份由式(A2_d)表示的化合物和27份N，N-二甲基甲酰胺的溶液中，添加 1. 7份碳酸鉀和0. 5份碘化鉀。將所得混合物在40°C攪拌1小時，然后將4份由式(A2-c) 表示的化合物和7份N，N-二甲基甲酰胺加入其中。將所得混合物在40°C攪拌5小時。向所得的反應混合物中添加5%草酸水溶液，隨后用氯仿進行萃取。將所得的有機層用離子交換水洗滌，然后在減壓下濃縮以獲得2. 4份由式(A2)表示的化合物。
1H-WR(二甲亞砜-d6)，δ (ppm) 7. 91-7. 70 (15Η，m)，5. 06 (2Η，s), 3. 71 (2H, s)， 3. 67 (2H, s)，1. 97-1. 87 (3H, m)，1. 72-1. 52 (6H, m)，1. 51-1. 44 (6H, m) 實施例3
(1)向5份由式(A3-a)表示的化合物和50份一氯丁烷的溶液中，添加4. 1份由式 (A3-b)表示的化合物和0.05份硫酸。將所得混合物回流3小時。將所得到的反應混合物冷卻至室溫，并且將50份的飽和碳酸氫鈉水溶液水加入其中。將所得混合物用100份的乙酸乙酯萃取。將所得的有機層用水洗滌三次，然后在減壓下濃縮以獲得6. 5份由式(A3-c) 表示的化合物。
(2)向7. 6份由式(A3_d)表示的化合物和38份N，N-二甲基甲酰胺的溶液中，添加 2. 3份碳酸鉀和0. 7份碘化鉀。將所得混合物在40°C攪拌1小時，然后將5份由式(A3_c) 表示的化合物和7份N，N- 二甲基甲酰胺的溶液加入其中。將所得混合物在40°C攪拌5小時。向所得的反應混合物中添加5%草酸水溶液，隨后用氯仿進行萃取。將所得的有機層用離子交換水洗滌，然后在減壓下濃縮以獲得7. 8份由式(A3)表示的化合物。
MS (ESI (+)光譜)M+263. 1 (C18H15S+ = 263. 1) MS (ESI (-)光譜):M"383. 1 (C14H17F2O8S- = 383. 1)
樹脂合成實施例1 向裝配有冷凝器、攪拌器和溫度計的四口燒瓶中，加入29. 6份的1，4_ 二噁烷，然后加熱至73°C。向其中滴加通過混合12.8份單體E1、6.0份單體E2、16.0份單體E3、3. 1 份單體E4、11.5份的單體E5、0. 36份2，2，_偶氮二異丁腈、1.62份2，2，_偶氮二(2，4_ 二甲基戊腈)和44.4份的1，4_ 二噁烷制備的溶液，歷時2小時。將所得混合物在73°C加熱5小時。將反應混合物冷卻至室溫，然后倒入到128份水和514份甲醇的混合溶液中，以引起沉淀。將沉淀物分離并且用甲醇洗滌，隨后在減壓下干燥，以獲得重均分子量(Mw)為8，900 和分散度(Mw/Mn)為1.6的樹脂。這種樹脂具有下列結構單元。這種樹脂被稱作樹脂Bi。

實施例4至6和比較例1 <酸生成劑> Al 由式(Al)表示的化合物 A2 由式(A2)表示的化合物 A3 由式(A3)表示的化合物 Cl 由式(Cl)表示的化合物
<樹月旨> Bl 樹脂 Bl <堿性化合物> Ql :2，6- 二異丙基苯胺 < 溶劑 > Yl:丙二醇單甲醚145份 2-庚酮20 份 丙二醇單甲醚乙酸酯20份 Y-丁內酯3. 5 份 將下列組分混合并且溶解，還通過孔徑為0. 2 μ m的氟樹脂過濾器進行過濾，從而制備出抗蝕劑組合物。
樹脂(種類和量描述于表1中) 酸生成劑(種類和量描述于表1中) 堿性化合物(種類和量描述于表1中) 溶劑(種類描述于表1中) 將每個硅晶片用“ARC-95”，一種獲自Nissan化學工業(yè)有限公司(NissanChemical Industries, Ltd.)的有機抗反射涂層組合物涂布，然后在205°C、60秒的條件下烘焙，形成78nm厚的有機抗反射涂層。將如上制備的每種抗蝕劑組合物旋涂在抗反射涂層上，使得到的膜在干燥后的厚度為llOnm。將如此涂有相應抗蝕劑液體的硅晶片各自都在接近式電熱板上于100°C預烘焙60秒。使用ArF受激準分子分檔器(由CANON INC.制造的 “FPA-5000AS3”，NA = 0. 75，2/3環(huán)形)，在曝光量逐步變化的情況下，將每一個如此形成有相應抗蝕劑膜的晶片進行線和空間圖案曝光。
曝光后，將每個晶片在電熱板上于100°C進行曝光后烘焙60秒，然后在23°C用 2. 38重量％的氫氧化四甲銨水溶液進行槳式顯影(paddledevelopment) 15秒。
用掃描電子顯微鏡(由Hitachi，Ltd.制造的“S_4100”)觀察在顯影之后的有機抗反射涂層襯底上顯影的每個暗場圖案，其結果示于表2中。如本文中使用的術語“暗場圖案”是指通過包括鉻基底表面(光屏蔽部分)和在鉻表面中形成并且相互對準的線性玻璃層(光透射部分)的刻線(reticle)曝光和顯影而得到的圖案。因此，暗場圖案是這樣的 在曝光和顯影后，包圍線和空間圖案的抗蝕劑層留在襯底上。
分辨率使用掃描電子顯微鏡觀察在通過85nm線和空間圖案掩模曝光和顯影后線圖案和空間圖案為11的曝光量下產生由線圖案分開的空間圖案的光致抗腐劑圖案。 分辨率表示為空間圖案的最小尺寸，其在上述曝光量下產生由線圖案分開的空間圖案。
曝光裕度(margin)使用掃描電子顯微鏡觀察在通過85nm線和空間圖案掩模曝光和顯影后線圖案和空間圖案為11的曝光量下產生由線圖案分開的空間圖案的光致抗腐劑圖案。將所得到的圖案的線寬對形成圖案時的曝光量繪圖以形成曲線圖，其中橫軸為曝光量，而縱軸是圖案的線寬。當所作出的線的斜率小于比較例1的斜率時，曝光裕度是良好的，并且其評價標記為"〇"，并且當所作出的線的斜率大于比較例1的斜率時，曝光裕度是差的，并且其評價標記為〃 X"。
表1
表2
由式(Ia)表示的锍化合物適用于能夠提供化學放大型正性光致抗蝕劑組合物的酸生成劑。
權利要求
1.一種由下式(Ia)表示的锍化合物
其中Q1和Q2各自獨立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，R1表示具有β -酮酯結構的 C5-C42有機基團，并且A+表示有機抗衡離子。
2.根據權利要求1所述的锍化合物，其中R1是由下式(Ib)表示的基團-R2-CO-CH2-COO-R3(Ib)其中R2表示C1-C12 二價烴基，并且R3表示可以具有一個或多個取代基的C1-C24烴 基，并且所述C1-C24烴基中的-CH2-可以被-NH-、-C0-或-O-代替，并且所述C1-C24烴基 中的-CH =可以被-NH =代替。
3.根據權利要求2所述的锍化合物，其中R2是亞甲基、亞乙基、三亞甲基或四亞甲基。
4.根據權利要求2所述的锍化合物，其中在R3中的取代基是鹵素原子、羥基、氰 基、-OR4-、-CO-OR4、-O-CO-R4、-SO2R4 或-O-SO2-R4,其中 R4 表示 C1-C6 烴基。
5.根據權利要求1所述的锍化合物，其中Q1和Q2各自獨立地表示氟原子或三氟甲基。
6.根據權利要求1所述的锍化合物，其中所述有機抗衡離子是由下式(IXz)表示的陽 離子
其中Pa、Pb和Pe各自獨立地表示可以被選自羥基、C1-C12烷氧基和C3-C12環(huán)烴基中 的至少一個取代的C1-C30烷基，或可以被選自羥基、鹵素原子和C1-C12烷氧基中的至少一 個取代的C3-C30環(huán)烴基。
7.根據權利要求1所述的锍化合物，其中所述有機抗衡離子是由下式(IIIa)表示的陽 離子
其中Ρ25、Ρ26和P27在每次出現時獨立地為羥基、鹵素原子、C1-C12烷基、C1-C12烷氧基 或C3-C12環(huán)烴基，并且所述C3-C12環(huán)烴基可以被鹵素原子、羥基或C1-C12烷氧基取代，并 且l、m和η各自獨立地表示O至5的整數。
8.一種化學放大型光致抗蝕劑組合物，其包含根據權利要求1的锍化合物和樹脂，所 述樹脂包含具有酸不穩(wěn)定基團的結構單元，并且不溶于或難溶于堿性水溶液，但是通過酸 的作用變得可溶于堿性水溶液。
9.根據權利要求8所述的化學放大型光致抗蝕劑組合物，其中所述組合物還包含堿性 化合物。
10.一種用于制備由下式(Ia)表示的锍化合物的方法，
其中Q1和Q2各自獨立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，R1表示具有β -酮酯結構的 C5-C42有機基團，并且A+表示有機抗衡離子，所述方法包括使由下式(VI)表示的化合物 與由下式(VII)表示的鹽反應， Z-R1(VI)在式(VI)中R1與上述定義相同，并且Z表示鹵素原子，
在式(VII)中Q1、Q2和A+與上述定義相同。
11.一種用于制備由式(Ia)表示的锍化合物的方法，
其中Q1和Q2各自獨立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，R1表示具有β -酮酯結構的 C5-C42有機基團，并且A+表示有機抗衡離子，所述方法包括使由下式(VIII)表示的化合 物與由下式(IX)表示的鹽反應 Α+Γ (VIII)在式(VIII)中A+與上述定義相同，并且L—表示F-、Cr、Br_、r、BF4-、AsF6-、SbF6-、PF6-或 CIO;；
在式(IX)中Q1、Q2和R1與上述定義相同，并且M+是Li+、Na+或K+。
全文摘要
本發(fā)明提供由式(Ia)表示的锍化合物、包含該锍化合物和樹脂的化學放大型光致抗蝕劑組合物以及制備該锍化合物的方法。在式(Ia)表示的锍化合物中，Q1和Q2各自獨立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，R1表示具有β-酮酯結構的C5-C42有機基團，并且A+表示有機抗衡離子。本發(fā)明的化學放大型光致抗蝕劑組合物包含上述锍化合物和樹脂，所述樹脂包含具有酸不穩(wěn)定基團的結構單元，并且不溶于或難溶于堿性水溶液，但是通過酸的作用變得可溶于堿性水溶液。
文檔編號C07C303/32GK101845008SQ201010144660
公開日2010年9月29日 申請日期2010年3月24日 優(yōu)先權日2009年3月26日
發(fā)明者增山達郎, 重松淳二, 樸漢雨 申請人:住友化學株式會社