專利名稱：具有改良耐溶劑性的透明聚酰亞胺薄膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種改善耐溶劑性的無色透明聚酰亞胺薄膜。
技術(shù)背景
通常，聚酰亞胺(PI)是指將芳香族雙酐和芳香族二胺或者芳香族二異氰酸酯進(jìn) 行溶液聚合制備聚酰胺酸后，在高溫脫水閉環(huán)氨化而制備的高耐熱樹脂。
為了制備聚酰亞胺樹脂，芳香族雙酐成分使用均苯四甲酸二酐(PMDA)或者聯(lián) 苯四甲酸二酐(BPDA)等，芳香族二胺成分使用二氨基二苯醚(ODA)、對(duì)苯二胺(p-PDA)、 間苯二胺(m-PDA)、二氨基二苯甲烷(MDA)、雙(氨基苯基)六氟丙烷(Bis aminophenyl hexafluoropropane, HFDA)等。
這種聚酰亞胺樹脂是不溶、不熔融的超高耐熱性樹脂，具有優(yōu)秀的耐高溫氧化性、 耐熱性、耐放射線性、低溫性、耐溶劑性等特性，因此在汽車材料、航空材料、宇宙飛船材料 等耐熱尖端材料及絕緣涂覆劑、絕緣薄膜、半導(dǎo)體、TFT-LCD的電極保護(hù)薄膜等電子材料的 廣泛領(lǐng)域中被使用。
但是聚酰亞胺樹脂由于芳香族環(huán)密度高而帶有褐色或黃色，因此在可見光范圍透 過率低，在要求透明性的領(lǐng)域中使用困難。
最近開發(fā)了無色透明聚酰亞胺薄膜，但是存在的問題是聚酰亞胺樹脂原有的耐溶 解性能下降很多。
因此，用作基板及光學(xué)用涂層及薄膜，曝露在極性溶劑或酸、堿等顯像液及其它的 涂覆液中時(shí)，其表面溶解或者由于膨潤，其形態(tài)發(fā)生改變從而不能在沒有保護(hù)層的情況下 單獨(dú)使用薄膜。發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種改善耐溶劑性的透明聚酰亞胺薄膜。
本發(fā)明另一目的在于提供用于改善溶劑性的顯示元件的基板。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的，根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例，提供一種聚酰亞胺薄膜，所述薄膜的 根據(jù)下列式ι的耐溶解性指數(shù)為2%以內(nèi)，黃度指數(shù)為10以下，根據(jù)下列式1的所述耐溶 解性指數(shù)由薄膜浸漬在極性溶劑中10分鐘后的厚度與浸漬到溶劑之前的厚度的偏差所定 義。
式1:
權(quán)利要求
1.一種聚酰亞胺薄膜，其中，該薄膜的根據(jù)下列式1的耐溶劑性指數(shù)為2%，黃度指數(shù) 為10以下，根據(jù)下列式1的所述耐溶劑性指數(shù)由薄膜在極性溶劑中浸漬10分鐘后的厚度 與浸漬到溶劑之前的薄膜厚度的偏差所定義，式1 (VJi)XlOOto上述式1中，、是將薄膜浸漬到溶液之前的厚度，ti是將薄膜在極性溶劑中浸漬10分 鐘后的厚度。
2.如權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺薄膜，其中，該極性溶劑選自二甲基甲酰胺(DMF)、二 甲基乙酰胺(DMAC)及N-甲基吡咯烷酮(NMP)。
3.如權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺薄膜，其中，該薄膜由聚合雙酐和酐及二胺而成的聚 酰胺酸形成。
4.如權(quán)利要求3所述的聚酰亞胺薄膜，其中，該酐相對(duì)于雙酐和酐的總摩爾含有 IOmol % 以下。
5.如權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺薄膜，其中，將聚合雙酐和酐及二胺而成的該聚酰胺 酸溶液通過制模工藝獲得聚酰亞胺薄膜后，對(duì)獲得的聚酰亞胺薄膜在310 500°C進(jìn)行1分 鐘 3小時(shí)的熱處理。
6.如權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺薄膜，其中，該薄膜在550nm時(shí)的透過率為85%以上。
7.如權(quán)利要求1所述的聚酰亞胺薄膜，其中，該薄膜在50 250°C時(shí)的熱膨脹系數(shù) (CTE)為 55ppm/°C 以下。
8.—種顯示組件用基板，包含權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的聚酰亞胺薄膜。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種改善了耐溶劑性的無色透明聚酰亞胺薄膜，尤其涉及即使浸漬在極性溶劑中時(shí)也不產(chǎn)生薄膜的膨潤、溶解等外型上變化的無色透明聚酰亞胺薄膜。
文檔編號(hào)C08G73/10GK102030989SQ201010500759
公開日2011年4月27日 申請(qǐng)日期2010年9月29日 優(yōu)先權(quán)日2009年9月29日
發(fā)明者安泰煥, 樸曉準(zhǔn), 鄭鶴基 申請(qǐng)人:可隆工業(yè)株式會(huì)社