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      透明聚酰亞胺基底以及制備該基底的方法

      文檔序號(hào):8227198閱讀:302來(lái)源:國(guó)知局
      透明聚酰亞胺基底以及制備該基底的方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001] 本發(fā)明涉及一種透明聚酰亞胺基底及其制備方法,所述基底可以用作柔性顯示器 基底。
      【背景技術(shù)】
      [0002] 近來(lái),電子設(shè)備如柔性0LED、彩色EPD、塑料IXD、TSP和0PV等,已經(jīng)作為可以容易 地扭曲和彎曲的下一代顯示器而吸引了大量注意。為了制備這種可以容易地進(jìn)行扭曲和彎 曲的柔性顯示器,需要新型的基底來(lái)替代傳統(tǒng)的玻璃基底。這種新型基底必須具有足夠的 耐化學(xué)性、耐熱性和透光性以保護(hù)顯示器的部件。另外,這種新型基底必須耐用于在制備顯 示器過(guò)程中所進(jìn)行的清洗、剝離和蝕刻等中使用的溶劑,而且需要耐高溫。
      [0003] 多種塑料基底正在被考慮作為柔性顯示器基底的備選項(xiàng)。在這些塑料基底中,透 明聚酰亞胺膜被認(rèn)為是主要的備選項(xiàng)。
      [0004] 為了改善被考慮作為柔性顯示器基底的透明聚酰亞胺膜的耐溶劑性,通常,采用 在透明聚酰亞胺膜上形成丙烯酸類或環(huán)氧類有機(jī)固化膜的方法。然而,這種有機(jī)固化膜的 問(wèn)題在于,其耐熱性在超過(guò)200°c的高溫或在300°C以上的高溫下會(huì)發(fā)生劣化。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0005] 技術(shù)問(wèn)題
      [0006] 因此,本發(fā)明已完成以解決上述問(wèn)題,本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種具有優(yōu)異的 耐溶劑性和高耐熱性的透明聚酰亞胺基底。
      [0007] 本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供一種制備具有優(yōu)異的耐溶劑性和高耐熱性的透明聚 酰亞胺基底的方法。
      [0008] 技術(shù)方案
      [0009] 為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明的一方面提供一種透明聚酰亞胺基底,包括:透明聚酰 亞胺膜;和氧化硅層,該氧化硅層形成于所述透明聚酰亞胺膜的一面或兩面上,并且該氧化 娃層包含具有由下式1表不的單兀結(jié)構(gòu)的氧化娃:
      [0010] [式 1]
      [0011]
      【主權(quán)項(xiàng)】
      1. 一種透明聚酰亞胺基底,包括: 透明聚酰亞胺膜;和 氧化硅層,該氧化硅層形成于所述透明聚酰亞胺膜的一面或兩面上,并且該氧化硅層 包含具有由下式1表示的單元結(jié)抝的氬仆硅,
      其中,m和η各自獨(dú)立地為O至10的整數(shù)。
      2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的透明聚酰亞胺基底,其中,所述氧化硅層的厚度為0. 3? 2· 0 μ m〇
      3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的透明聚酰亞胺基底,其中,所述氧化硅層的表面粗糙度(RMS) 為5nm以下。
      4. 一種制備透明聚酰亞胺基底的方法,包括如下步驟: 將含有聚硅氮烷的溶液涂布在透明聚酰亞胺膜的一面或兩面上,然后干燥該溶液,形 成聚硅氮烷層;以及 使所述聚硅氮烷層固化。
      5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其中,所述聚硅氮烷包含由下式2表示的單元結(jié)構(gòu):
      其中,m和η各自獨(dú)立地為0至10的整數(shù)。
      6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其中,所述聚硅氮烷的重均分子量為1,000?5, 000。
      7. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其中,所述聚硅氮烷層的厚度為0. 3?2. 0 μ m。
      8. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其中,在所述使聚硅氮烷層固化的步驟中,所述聚硅氮 烷層通過(guò)在200?300°C的溫度下進(jìn)行熱處理而被熱固化。
      9. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其中,在所述涂布含有聚硅氮烷的溶液的步驟中,所述 含有聚硅氮烷的溶液還包含UV固化劑, 并且,在所述使聚硅氮烷層固化的步驟中,所述聚硅氮烷層通過(guò)用具有312nm或365nm 的短波長(zhǎng)的UV,以1500?4000J/m2的輻射強(qiáng)度照射而被固化。
      10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法,其中,所述UV固化劑包括選自安息香醚光引發(fā)劑、二 苯甲酮光引發(fā)劑以及它們的混合物的任一種。
      【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種透明聚酰亞胺基底,包括:透明聚酰亞胺膜;和氧化硅層,該氧化硅層形成于所述透明聚酰亞胺膜的一面或兩面上,且包含氧化硅。
      【IPC分類】G09F9-00, C08J7-04, C08J5-18, C08G73-10, B32B27-06
      【公開(kāi)號(hào)】CN104540884
      【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201280075265
      【發(fā)明人】禹學(xué)龍, 鄭鶴基, 樸相胤
      【申請(qǐng)人】可隆工業(yè)株式會(huì)社
      【公開(kāi)日】2015年4月22日
      【申請(qǐng)日】2012年6月25日
      【公告號(hào)】EP2864402A1, WO2014003211A1
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