有效地達成本發(fā)明的效果。
[0287] < 溶劑〉
[028引本發(fā)明的組合物含有至少溶解面化獻菁染料及具有環(huán)氧基的化合物的溶劑（通 常為有機溶劑）。
[0289] 有機溶劑可優(yōu)選地列舉；作為醋類的例如己酸己醋、己酸正了醋、己酸異了醋、甲 酸戊醋、己酸異戊醋、己酸異了醋、丙酸了醋、了酸異丙醋、了酸己醋、了酸了醋、乳酸甲醋、 乳酸己醋、氧基己酸烷基醋（例如氧基己酸甲醋、氧基己酸己醋、氧基己酸了醋（例如甲氧 基己酸甲醋、甲氧基己酸己醋、甲氧基己酸了醋、己氧基己酸甲醋、己氧基己酸己醋等））、 3-氧基丙酸烷基醋類（例如3-氧基丙酸甲醋、3-氧基丙酸己醋等（例如3-甲氧基丙酸甲 醋、3-甲氧基丙酸己醋、3-己氧基丙酸甲醋、3-己氧基丙酸己醋等））、2-氧基丙酸烷基醋類 (例如2-氧基丙酸甲醋、2-氧基丙酸己醋、2-氧基丙酸丙醋等（例如2-甲氧基丙酸甲醋、 2-甲氧基丙酸己醋、2-甲氧基丙酸丙醋、2-己氧基丙酸甲醋、2-己氧基丙酸己醋））、2-氧 基-2-甲基丙酸甲醋及2-氧基-2-甲基丙酸己醋（例如2-甲氧基-2-甲基丙酸甲醋、2-己 氧基-2-甲基丙酸己醋等）、丙酬酸甲醋、丙酬酸己醋、丙酬酸丙醋、己酷己酸甲醋、己酷己 酸己醋、2-氧代了酸甲醋、2-氧代了酸己醋等；W及作為離類的例如二己二醇二甲離、四氨 快喃、己二醇單甲離、己二醇單己離、甲基溶纖劑己酸醋、己基溶纖劑己酸醋、二己二醇單甲 離、二己二醇單己離、二己二醇單了離、丙二醇單甲離、丙二醇單甲離己酸醋、丙二醇單己離 己酸醋、丙二醇單丙離己酸醋等；W及作為酬類的例如甲基己基酬、環(huán)己酬、2-庚酬、3-庚 酬等；化及作為芳香族姪類的例如甲苯、二甲苯等。
[0290]就改良涂布面狀等觀點而言，該些溶劑也優(yōu)選為將兩種W上混合的形態(tài)。在所述 情形時，尤其優(yōu)選為由選自W下溶劑中的兩種W上所構成的混合溶液：上述3-己氧基丙酸 甲醋、3-己氧基丙酸己醋、己基溶纖劑己酸醋、乳酸己醋、二己二醇二甲離、己酸了醋、3-甲 氧基丙酸甲醋、2-庚酬、環(huán)己酬、己基卡必醇己酸醋、了基卡必醇己酸醋、丙二醇甲離及丙二 醇甲離己酸醋。
[0291]就涂布性的觀點而言，溶劑在著色硬化性組合物中的含量優(yōu)選為設定為組合物的 總固體成分濃度成為5質量％~30質量％的量，更優(yōu)選為7質量％~25質量％，尤其優(yōu)選 為10質量％~20質量％。
[0292]<各種添加物〉
[0293] 本發(fā)明的著色硬化性組合物可在不損及本發(fā)明的效果的范圍內，視需要調配各種 添加物，例如表面活性劑、酸酢、硬化劑、硬化催化劑、填充劑、密接促進劑、抗氧化劑、紫外 線吸收劑、抗凝聚劑等。
[0294]另一方面，本發(fā)明的著色硬化性組合物優(yōu)選為光聚合性化合物的調配量為總固體 成分的1質量％ ^下，更優(yōu)選為0. 5質量％ ^下，進而優(yōu)選為不含光聚合性化合物。
[029引（表面活性劑）
[0296]就進一步提高涂布性的觀點而言，本發(fā)明的著色硬化性組合物優(yōu)選為添加各種表 面活性劑。表面活性劑可使用氣系表面活性劑、非離子系表面活性劑、陽離子系表面活性 劑、陰離子系表面活性劑、娃酬系表面活性劑等各種表面活性劑。
[0297] 尤其本發(fā)明的著色硬化性組合物通過含有氣系表面活性劑，制備成涂布液時的溶 液特性（特別是流動性）進一步提高，故可進一步改善涂布厚度的均勻性或省液性。
[029引目P，在使用應用著色硬化性組合物的涂布液來進行膜形成的情形時（所述著色硬 化性組合物含有氣系表面活性劑），通過使被涂布面與涂布液的表面張力減小，對被涂布面 的濡濕性得到改善，對被涂布面的涂布性提高。因此，即便在W少量的液量來形成幾微米 (ym)左右的薄膜的情形時，也可更優(yōu)選地進行厚度不均一小的均勻厚度的膜形成，就此方 面而言有效。
[0299]氣系表面活性劑中的氣含有率優(yōu)選為3質量％~40質量％，更優(yōu)選為5質量％~ 30質量％，尤其優(yōu)選為7質量％~25質量％。氣含有率在所述范圍內的氣系表面活性劑在 涂布膜的厚度的均勻性或省液性的方面有效，在著色硬化性組合物中的溶解性也良好。
[0300]氣系表面活性劑例如可列舉美佳法（Megafac)F781 (W上為迪愛生值1C)(股）制 造）等。
[0301] 表面活性劑可僅使用一種，也可組合使用兩種W上。
[0302] 著色硬化性組合物可含有表面活性劑，也可不含表面活性劑，在含有表面活性劑 的情形時，相對于著色硬化性組合物的總固體成分，表面活性劑的添加量優(yōu)選為0.001質 量％~2.0質量％，更優(yōu)選為0.005質量％~1.0質量％。
[0303] 再者，在表面活性劑為高分子化合物（即樹脂）的情形時，所述高分子化合物的固 體成分酸值是設定為80m巧OH/gW下。
[0304] < 酸酢〉
[0305] 本發(fā)明的著色硬化性組合物也可含有酸酢。通過含有酸酢，可提高由具有環(huán)氧基 的化合物的熱硬化所引起的交聯(lián)性。
[0306] 酸酢例如可列舉；鄰苯二甲酸酢、耐地酸酢、馬來酸酢、班巧酸酢等。其中，就對顏 料分散的影響少的方面而言，酸酢優(yōu)選為鄰苯二甲酸酢。通常還使用作為環(huán)氧硬化劑的胺 系化合物，但有適用期（potlife)相對較長等優(yōu)點。
[0307] 相對于具有環(huán)氧基的化合物的含量，酸酢在著色硬化性組合物中的含量優(yōu)選為10 質量％~40質量％的范圍，更優(yōu)選為15質量％~30質量％的范圍。若酸酢的含量為10 質量％ ^上，則具有環(huán)氧基的化合物的交聯(lián)密度提高，可提高機械強度，若酸酢的含量為30 質量％ ^下，則涂膜中的熱硬化成分得到抑制，在提高色劑的濃度的方面有利。
[030引（硬化劑）
[0309] 本發(fā)明的組合物中也可添加硬化劑。硬化劑的種類非常多，性質、樹脂與硬化劑的 混合物的可使用時間、粘度、硬化溫度、硬化時間、發(fā)熱等視種類而大不相同，因此優(yōu)選為根 據使用目的、使用條件、作業(yè)條件等來選擇適當的硬化劑。關于硬化劑，在垣內弘編著的《環(huán) 氧樹脂（昭晃堂）》第5章中有詳細解說。W下示出硬化劑的例子。
[0310]W催化劑方式發(fā)揮作用的硬化劑有S級胺類、S氣化棚-胺絡合物（complex)， W化學計量而與環(huán)氧樹脂的官能基反應的硬化劑有多胺、酸酢等；另外，進行常溫硬化的 硬化劑有二己=胺、聚酷胺樹脂，進行中溫硬化的硬化劑的例子有二己基氨基丙基胺、= (二甲基氨基甲基）苯酪；高溫硬化的例子有鄰苯二甲酸酢、間苯二胺等。另外，若W化學 結構類別來看，則可列舉；胺類中作為脂肪族多胺的二己S胺；作為芳香族多胺的間苯二 胺；作為=級胺的=(二甲基氨基甲基）苯酪；作為酸酢的鄰苯二甲酸?。痪劭岚窐渲?；聚 硫離樹脂；=氣化棚-單己胺絡合物；作為合成樹脂初期縮合物的酪樹脂；其他二氯二胺 (dicyandiamide)等。
[0311] 該些硬化劑通過加熱與環(huán)氧基反應而進行聚合，由此交聯(lián)密度提高而進行硬化。 為了實現薄膜化，優(yōu)選為粘合劑、硬化劑均盡量為少量，尤其關于硬化劑，優(yōu)選為相對于具 有環(huán)氧基的化合物而設定為35質量％ ^下、優(yōu)選為30質量％ ^下、更優(yōu)選為25質量％W 下。
[031引（硬化催化劑）
[0313] 為了實現著色劑濃度高的組成，除了由與硬化劑的反應所致的硬化W外，主要有 效的是由環(huán)氧基彼此的反應所致的硬化。因此，也可不使用硬化劑而使用硬化催化劑。關 于硬化催化劑的添加量，能W如下的少許量來進行硬化；相對于環(huán)氧當量為150~200左右 的環(huán)氧樹脂，W質量基準計而為1/10~1/1000左右、優(yōu)選為1/20~1/500左右、更優(yōu)選為 1/30~1/250左右。
[0314] <著色硬化性組合物的制備方法〉
[0315] 對本發(fā)明的著色硬化性組合物的優(yōu)選制備方法加W說明。然而，本發(fā)明不限定于 此。
[0316] 在著色劑為染料的情形時，與具有環(huán)氧基的化合物一并溶解于適當的溶劑中。在 含有顏料作為著色劑的情形時，通常如上述般制備成顏料分散物后進行調配。
[0317] 優(yōu)選為在如此所得的顏料的分散物或染料的溶液中添加具有環(huán)氧基的化合物、及 視需要的硬化催化劑或硬化劑，或者在粘合劑已為具有環(huán)氧基的化合物的情形時添加硬化 催化劑或硬化劑來賦予熱硬化功能，視需要添加溶劑，由此制備本發(fā)明的著色硬化性組合 物。
[031引 < 過濾器過濾〉
[0319] 本發(fā)明的著色硬化性組合物優(yōu)選為利用過濾器進行過濾，來將異物去除或減少缺 陷等。
[0320] 用于進行過濾器過濾的過濾器只要為從前W來用于過濾用途等的過濾器，則可無 特別限定地使用。
[03引]上述過濾器的材質的例子可列舉；聚四氣己締（Pol}ftetrafluo;roethylene，PTFE)等氣樹脂；巧龍-6、巧龍-6,6等聚酷胺系樹脂；聚己締、聚丙締（Polypropylene,P巧 等聚締姪樹脂（包含高密度、超高分子量）等。該些原材料中，優(yōu)選為聚丙締（包含高密度 聚丙締）。
[0322] 上述過濾器的孔徑并無特別限定，例如為0.01ym~20.0ym左右，優(yōu)選為 0.Olym~5ym左右，更優(yōu)選為0.Olym~2.Oym左右。
[0323] 通過將過濾器的孔徑設定為上述范圍，可更有效地去除微細的粒子，可進一步降 低濁度。
[0324] 此處，過濾器的孔徑可參照過濾器廠商（filtermaker)的標稱值。市售的過濾器 例如可自日本頗爾（pall)股份有限公司、愛德萬東洋（AdvantecToyo)股份有限公司、日 本英特格巧ntegris)股份有限公司（原日本密科理（mykrolis)股份有限公司）或北澤微 濾器化ITZMicroFilter)股份有限公司等提供的各種過濾器中選擇。
[0325] 上述過濾器過濾時，也可將兩種W上的過濾器組合使用。
[0326] 例如首先可使用第1過濾器進行過濾，繼而使用孔徑與第1過濾器不同的第2過 濾器進行過濾。
[0327] 此時，利用第1過濾器的過濾及利用第2過濾器的過濾分別可僅進行一次，也可進 行兩次W上。
[032引第2過濾器可使用由與上述第1過濾器相同的材料等所形成的過濾器。
[0329] < 用途〉
[0330] 可使本發(fā)明的著色硬化性組合物硬化而優(yōu)選地用作硬化膜。使本發(fā)明的著色硬化 性組合物硬化而成的層可優(yōu)選地用作彩色濾光片的著色層。尤其可優(yōu)選地用作干式蝕刻用 著色硬化性組合物。
[0331] 本發(fā)明中，著色層的厚度優(yōu)選為0. 1ym~1. 0ym，更優(yōu)選為0. 1ym~0.8ym。本 發(fā)明中，可提高著色層中的著色劑的濃度，故可實現此種薄膜化。
[0332] <彩色濾光片及其制造方法〉
[0333] 本發(fā)明的彩色濾光片中，構成所述彩色濾光片的圖案中的至少一種圖案為由上述 本發(fā)明的著色硬化性組合物所形成的著色圖案。本發(fā)明的彩色濾光片只要至少一種圖案為 由上述本發(fā)明的著色硬化性組合物所形成的著色圖案，則并無特別限制，優(yōu)選為通過w下 所示的本發(fā)明的彩色濾光片的制造方法來制作。
[0334] 本發(fā)明的彩色濾光片的制造方法的一例包括W下步驟：使用上述本發(fā)明的著色硬 化性組合物來形成著色層的步驟；在上述著色層上形成光致抗蝕劑層的步驟；通過進行曝 光及顯影將上述光致抗蝕劑層圖案化，獲得抗蝕劑圖案的步驟；及將上述抗蝕劑圖案作為 蝕刻掩模對上述著色層進行干式蝕刻的步驟。
[0335] 本發(fā)明的彩色濾光片的制造方法使用上述本發(fā)明的著色硬化性組合物（也稱為 第1著色硬化性組合物）來形成第1著色層。
[0336] 此處，第1著色層是由本發(fā)明的著色硬化性組合物所形成，因此如上所述，耐溶劑 性及耐堿性顯影液性優(yōu)異。
[0337] 由此，可抑制W下可能性：在下文將詳細描述的第1著色層上形成抗蝕劑圖案（經 圖案化的光致抗蝕劑層）作為蝕刻用的掩模時所使用的顯影液中，或在第1著色層上由第2 著色感放射線性組合物來形成第2著色感放射線性層的步驟、及在第1著色層上由第3著 色感放射線性組合物來形成第3著色感放射線性層的步驟中，第1著色層溶解于第2著色 感放射線性組合物或第3著色感放射線性組合物中的有機溶劑、或對由第2著色感放射線 性組合物或第3著色感放射線性組合物所形成的第2著色感放射線性層或第3著色感放射 線性層進行曝光、顯影時所使用的顯影液中，第1著色層的顏色成分溶出至上述溶劑或顯 影液中的可能性；或者第2著色感放射線性組合物或第3著色感放射線性組合物中的顏色 成分混入至第1著色層中的可能性等。結果，可抑制第1著色層中的顏色成分的脫色的產 生或多種顏色彼此重疊的重疊（overlap)區(qū)域的產生，故可提高最終獲得的彩色濾光片的 性能。
[033引尤其對于制作例如需求厚度為0. 1ym~1. 0ym和/或像素圖案尺寸（正方圖案 的一邊）成為2ymW下（例如0.5ym~2.0ym)般的微小尺寸的固體攝影元件用的彩色 濾光片而言有效。
[0339] 此處，關于固體攝影元件，參照圖1作為一例來進行簡略說明。
[0340] 如圖1所示，固體攝影元件10包含設置于娃基板上的受光元件（光二極管）42、彩 色濾光片13、平坦化膜14及微透鏡15等。在本發(fā)明中，平坦化膜14未必一定要設置。再 者，在圖1中，為了明確各部分，將相互的厚度或寬度的比率忽視而局部夸張地表示。
[0341] 支撐體除了娃基板W外，只要為彩色濾光片中所用者則并無特別限制，例如可列 舉；液晶顯示元件等中所用的鋼玻璃（sodaglass)、棚娃酸玻璃、石英玻璃及在該些玻璃上 附著有透明導電膜者，或固體攝影元件等中所用的光電轉換元件基板，例如氧化膜、氮化娃 等。另外，只要不損及本發(fā)明，則也可在該些支撐體與彩色濾光片13之間設置中間層等。
[0342] 在娃基板上具有P井41，在所述P井的表面的一部分上具有光二極管42。光二極 管42是通過W下方式所形成：在P井的表面的一部分上離子注入P或As等N型雜質后，進 行熱處理。另外，在娃基板的P井41的表面且與上述一部分不同的區(qū)域中，具有其中N型 雜質濃度高于光二極管42的雜質擴散層43。所述雜質擴散層43是通過離子注入P或As 等N型雜質后進行熱處理而形成，發(fā)揮浮游擴散層的功能，上述浮游擴散層將由光二極管 42接受入射光所產生的電荷轉移。除了將井41設定為P型雜質層、將光二極管42及雜質 擴散層43設定為N型雜質層W外，還可將井41設定為N型雜質層、將光二極管42及雜質 擴散層43設定為P型雜質層來實施。
[0343] 在P井41、光二極管42及雜質擴散層43上，具有Si化或SiO2/SiN/Si〇2等的絕 緣膜47,在所述絕緣膜47上設置有包含多晶娃、鶴、娃化鶴、A1、化等的電極44。電極44 可發(fā)揮柵極金屬氧化物半導體（MetalOxideSemicon化ctor，M0巧晶體管的柵極的功 能，也可發(fā)揮作為用W將光二極管42中產生的電荷轉移至雜質擴散層43的轉移柵極的 功能。進而，在電極44的上方形成有配線層45。在配線層45的更上方具有棚磯娃玻璃 炬orophosphosilicateGlass,BPSG)膜 46、P-SiN膜 48。BPSG膜 46 與P-SiN膜 48 的界 面是W成為在光二極管42的上方向下彎曲的形狀的方式而形成，發(fā)揮用W將入射光高效 地導入至光二極管42內的層內透鏡的功能。在BPSG膜46上，為了使P-SiN膜48表面或 像素區(qū)域W外的凹凸部平坦化而形成有平坦化膜層49。
[0344] 在所述平坦化膜層49上形成有彩色濾光片13。再者，在W下的說明中，將未劃分 區(qū)域而形成于娃基板上的著色膜（所謂整體膜）稱為"著色（著色感放射線性）層"，將W 圖案狀劃分區(qū)域而形成的著色膜（例如W條紋狀經圖案化的膜等）稱為"著色圖案"。另 夕F，著色圖案中，將成為構成彩色濾光片13的要素的著色圖案（例如W正方形或長方形的 形式經圖案化的著色圖案等）稱為"著色（紅色、綠色、藍色）像素"。
[0345] 彩色濾光片13包含經二維排列的多個綠色像素（第1色像素）20G、紅色像素（第 2色像素）20R及藍色像素（第3色像素）20B。各著色像素20R、20G、20B分別是形成于受 光元件42的上方位置。將綠色像素20G形成為棋盤紋樣，并且將藍色像素20B及紅色像素 20R形成于各綠色像素20G之間。再者，圖1中，為了對彩色濾光片13包含S色像素的情況 加W說明，將各著色像素20R、20G、20B排成一行來表示。
[0346] 平坦化膜14是W覆蓋彩色濾光片13的上表面的方式形成，使彩色濾光片表面平 坦化。
[0347] 微透鏡15為使凸面朝上而配置的聚光透鏡，是設置于平坦化膜14 (不具有平坦化 膜的情形時為彩色濾光片）的上方且受光元件42的上方。各微透鏡15將來自被攝體的光 高效地導向各受光元件42。
[034引繼而，對本發(fā)明的實施形態(tài)的彩色濾光片的制造方法加W說明。
[0349] 在本發(fā)明的實施形態(tài)的彩色濾光片的制造方法中，首先，如圖2的概略剖面圖所 示，由第1著色硬化性組合物來形成第1著色層11 (步驟（A))。此處，第1著色硬化性組合 物為上述本發(fā)明的著色硬化性組合物。
[0巧0] 關于第1著色層11的形成，可通過W下方式來進行；通過旋轉涂布、狹縫涂布、噴 霧涂布等涂布方法將著色硬化性組合物涂布于支撐體上，并加W干燥而形成著色層。
[0351] 此處的第1著色層11的厚度優(yōu)選為0.3ym~1.0ym的范圍，更優(yōu)選為 0. 35ym~0. 8ym的范圍，進而優(yōu)選為0. 35ym~0. 7ym的范圍。
[0352] 關于硬化方法，優(yōu)選為通過熱板、烘箱等加熱裝置對第1著色層11進行加熱而使 其硬化。加熱溫度優(yōu)選為120°C~250°C，更優(yōu)選為160°C~230°C。加熱時間視加熱機構 而不同，當在熱板上進行加熱的情形時，通常為3分鐘~30分鐘左右，當在烘箱中進行加熱 的情形時，通常為30分鐘~90分鐘左右。
[0巧3] 繼而，在第1著色層11W形成貫通孔組群的方式通過干式蝕刻進行圖案化（步驟 炬)）。由此形成第1著色圖案。與由著色感放射線性組合物來形成第1著色層，并通過對 所述第1著色層進行曝光、顯影而設置貫通孔組群的情形相比較，根據所述方法，能更可靠 地設置所需形狀的貫通孔組群。其原因在于：在相對于組合物的總固體成分而將著色劑的 含量設定為50質量％ ^上的著色感放射線性組合物中，可在組合物中添加有助于顯影能 力的成分的余地有限，故難W實現可靠的圖案化。
[0巧4] 第1著色圖案可為在支撐體上作為第1色而設置的著色圖案，視情形不同，也可為 在具有已設的圖案的支撐體上作為例如第2色或第3色W后的圖案而設置的著色圖案。[0巧5] 可將經圖案化的光致抗蝕劑層作為掩模，使用蝕刻氣體來對第1著色層11進行干 式蝕刻。例如，如圖3的概略剖面圖所示，首先在第1著色層11上形成光致抗蝕劑層51。 [0巧6] 具體而言，在著色層上應用正型或負型的感放射線性組合物（優(yōu)選為涂布），并使 其干燥，由此來形成光致抗蝕劑層。關于光致抗蝕劑層51的形成，優(yōu)選為進一步實施預烘 烤處理。尤其，光致抗蝕劑的形成工藝理想的是實施曝光后的加熱處理（曝光后烘烤（Post ExposureBake,陽B))、顯影后的加熱處理（后烘烤處理）的形態(tài)。
[0巧7] 光致抗蝕劑例如可使用正型的感放射線性組合物。所述正型的感放射線性組合物 可使用：適于感應紫外線（g射線、h射線、i射線）、包含準分子?激光等的遠紫外線、電子 束、離子束及X射線等放射線的正型光致抗蝕劑用途的正型抗蝕劑組合物。放射線中，優(yōu)選 為g射線、h射線、i射線，其中更優(yōu)選為i射線。
[0巧引具體而言，正型的感放射線性組合物優(yōu)選為含有釀二疊氮化合物及堿可溶性樹 脂的組合物。含有釀二疊氮化合物及堿可溶性樹脂的正型的感放射線性組合物利用W下 情況；通過500nmW下的波長的光照射而釀二疊氮基發(fā)生分解產生駿基，結果由堿不溶 狀態(tài)變化為堿可溶性。所述正型光致抗蝕劑的解析力明顯優(yōu)異，故被用于制作集成電路 (IntegratedCircuit, 1C)或大規(guī)模集成電路（XargeScaleIntegration,LSI)等集成電 路。釀二疊氮化合物可列舉蒙釀二疊氮化合物。
[0359] 光致抗蝕劑層51的厚度優(yōu)選為0. 1ym~3ym，更優(yōu)選為0. 2ym~2. 5ym，進而 優(yōu)選為0. 3ym~2ym。再者，光致抗蝕劑層51的涂布可使用上述第1著色層11的涂布方 法來優(yōu)選地進行。
[0360] 繼而，如圖4的概略剖面圖所示，對所述光致抗蝕劑層51進行曝光、顯影，由此形 成設置有抗蝕劑貫通孔組群51A的抗蝕劑圖案（經圖案化的光致抗蝕劑層）52。
[0361] 抗蝕劑圖案52的形成并無特別限制，可將現有公知的光刻的技術適當地最適化 來進行。通過曝光、顯影而在光致抗蝕劑層51中設置有抗蝕劑貫通孔組群51A，由此將作為 后續(xù)的蝕刻中所用的蝕刻掩模的抗蝕劑圖案52設置于第1著色層11上。
[0362] 光致抗蝕劑層51的曝光可通過W下方式進行；介隔既定的掩模圖案，通過g射線、 h射線、i射線等，優(yōu)選為i射線對正型或負型的感放射線性組合物實施曝光。曝光后，利用 顯影液進行顯影處理，由此與欲形成著色圖案的區(qū)域一致而去除光致抗蝕劑。
[0363] 上述顯影液只要不對含有