光學(xué)涂膜形成用前體、光學(xué)涂膜以及光學(xué)涂膜的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及光學(xué)涂膜形成用前體、光學(xué)涂膜W及光學(xué)涂膜的制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002] W往，作為光學(xué)涂膜的防反射膜大多是由形成涂膜的第1工序和在該涂膜中形成 空隙的第2工序制造的。如此地，通過在形成涂膜后，在涂膜中形成空隙，從而在防反射膜 中涂膜折射率降低，可實(shí)現(xiàn)反射率的降低。
[0003] 例如，在專利文獻(xiàn)1~4中公開了一種多孔體，其利用多孔形成劑（多孔起因剤） 在涂膜中導(dǎo)入了空隙。
[0004] 此外，在專利文獻(xiàn)5~7中，作為不需要從涂膜提取多孔起因劑的將低折射率多孔 體成膜的方法，公開了利用含有鏈狀金屬氧化物的涂布液將多孔體成膜的方法。
[0005]另外，在專利文獻(xiàn)8和10中公開了一種耐擦傷性優(yōu)異的防反射膜，其是利用含有 鏈狀硅膠和球狀微粒的涂布液得到的。
[0006] 此外，在專利文獻(xiàn)9中公開了一種涂膜，其是利用機(jī)械強(qiáng)度、透明性、耐候性、耐化 學(xué)藥品性、光學(xué)特性、防污性、防霧性W及抗靜電性等優(yōu)異的水性高分子分散體形成的。
[0007] 另外，在專利文獻(xiàn)11中公開了一種防污性能優(yōu)異的涂布組合物。
[0008] 現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0009] 專利文獻(xiàn)
[0010] 專利文獻(xiàn)1 ;日本特開平01-312501號公報
[0011] 專利文獻(xiàn)2 ;日本特開平07-140303號公報
[0012] 專利文獻(xiàn)3 ;日本特開平03-199043號公報
[0013] 專利文獻(xiàn)4 ;日本特開平11-035313號公報
[0014] 專利文獻(xiàn)5 ;日本特開2001-188104號公報
[0015] 專利文獻(xiàn)6 ;日本特開平11-061043號公報
[0016] 專利文獻(xiàn)7 ;日本特開平11-292568號公報
[0017] 專利文獻(xiàn)8 ;日本特開2005-10470號公報
[0018] 專利文獻(xiàn)9 ;國際公開第2007/069596號小冊子
[0019] 專利文獻(xiàn)10 ;日本特表2011-530401號公報
[0020] 專利文獻(xiàn)11 ;國際公開第2010/104146號小冊子

【發(fā)明內(nèi)容】

[0021] 發(fā)明要解決的課題
[0022] 但是，在專利文獻(xiàn)1~4中公開的技術(shù)中，在提取工序中除去用于形成空隙的多孔 起因劑時，膜會溶脹，具有引起空隙的外觀不良和膜剝離的問題W及成膜工序繁雜的問題。
[0023] 此外，利用專利文獻(xiàn)5~7中公開的方法得到的多孔體具有機(jī)械強(qiáng)度欠缺的問題。
[0024]另外，專利文獻(xiàn)8和10中公開的防反射膜具有耐候性存在改善的余地的問題。
[0025] 此外，專利文獻(xiàn)9中公開的涂膜具有防反射特性存在改善的余地的問題。
[0026] 另外，專利文獻(xiàn)11中公開的涂布組合物具有防反射特性存在改善的余地的問題。
[0027] 此外，一般來說，已知將玻璃作為基材的防反射膜在多濕環(huán)境下堿成分會從玻璃 內(nèi)部溶出，由于長時間的環(huán)境曝露，該溶出物會侵入防反射膜的空隙中，具有使防反射效果 降低的耐候性不足的問題。
[0028] 因此，本發(fā)明中，鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)的問題，目的在于提供一種光學(xué)涂膜前體，其 能夠得到即便在多濕環(huán)境下也能維持防反射特性的光學(xué)涂膜。
[0029] 用于解決課題的方案
[0030] 為了解決上述課題，本發(fā)明人進(jìn)行了深入研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，利用了下述光學(xué)涂膜 前體的光學(xué)涂膜在多濕環(huán)境下能夠長時間維持防反射特性，由此完成了本發(fā)明，所述光學(xué) 涂膜前體含有金屬氧化物（A)和在特定條件下升溫時包括兩個W上的放熱峰的樹脂顆粒 度)。
[0031] 目P，本發(fā)明如下所述。
[0032] 山
[0033] -種光學(xué)涂膜形成用前體，其含有金屬氧化物（A)和在W1(TC/分鐘的升溫速度 加熱時具有兩個W上的放熱峰的樹脂顆粒度）。
[0034] 凹
[0035] 如權(quán)利要求1所述的光學(xué)涂膜形成用前體，其中，上述放熱峰中的至少1個超過 510〇C。
[0036] [3]
[0037] -種光學(xué)涂膜，其從上述[1]或[2]所述的光學(xué)涂膜形成用前體中除去了上述樹 脂顆粒度）的至少一部分。
[0038] [4]
[0039] -種光學(xué)涂膜的制造方法，該制造方法具有在30(TC~80(TC對光學(xué)涂膜形成用 前體進(jìn)行熱處理而形成空隙的空隙形成工序，
[0040] 上述光學(xué)涂膜形成用前體含有金屬氧化物（A)和樹脂顆粒度)，所述樹脂顆粒度） 在W1(TC/分鐘的升溫速度加熱時具有兩個W上的放熱峰。
[0041] 巧]
[0042] 如上述[4]所述的光學(xué)涂膜的制造方法，其中，上述放熱峰中的至少1個超過 510〇C。
[0043] [6]
[0044] -種防反射膜，其包含通過上述[4]或[引所述的光學(xué)涂膜的制造方法所得到的 光學(xué)涂膜。
[0045] [7]
[0046] -種太陽能電池用玻璃，其包含上述[6]所述的防反射膜。
[0047] [引
[0048] 一種太陽能電池模塊，其包含上述[6]所述的防反射膜。
[0049] [9]
[0050] -種太陽能電池用聚光透鏡，其包含上述[6]所述的防反射膜。
[0051] 發(fā)明的效果
[0052] 通過使用本發(fā)明的光學(xué)涂膜形成用前體，能夠得到在多濕環(huán)境下能長時間維持防 反射特性的光學(xué)涂膜。
【具體實(shí)施方式】
[0053] 下面，對本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】（下文中稱為"本實(shí)施方式"）進(jìn)行詳細(xì)說明。W 下的本實(shí)施方式是用于說明本發(fā)明的例示，并不將本發(fā)明限定于W下內(nèi)容。本發(fā)明可W在 其要點(diǎn)的范圍內(nèi)適宜變形來實(shí)施。
[0054] [光學(xué)涂膜形成用前體]
[00巧]本實(shí)施方式的光學(xué)涂膜形成用前體含有金屬氧化物（A)和在W1(TC/分鐘的升溫 速度加熱時具有兩個W上的放熱峰的樹脂顆粒度）。
[005引（金屬氧化物（A))
[0057] 本實(shí)施方式的光學(xué)涂膜形成用前體所含有的金屬氧化物（A)為后述的特定的金 屬的氧化物，從涂膜強(qiáng)度的方面出發(fā)，優(yōu)選包含球狀的金屬氧化物（al)和/或長寬比（長 徑/短徑）為3~25的非球狀的金屬氧化物（a2)。
[005引此處，本說明書中，上述球狀的金屬氧化物（al)是指W長寬比（長徑/短徑）小 于3的顆粒狀態(tài)存在的金屬氧化物。
[0059] 需要說明的是，對W-次顆粒自身存在的顆粒而言，長寬比是指一次顆粒的長寬 比；此外，對作為凝集顆粒存在的顆粒而言，長寬比是指凝集顆粒的長寬比。
[0060] 上述球狀的金屬氧化物（al)的存在形態(tài)可W為一次顆粒，也可W為凝集顆粒，在 為凝集顆粒的情況下，其形狀不需要為完全的球，例如也可W具有角部。
[0061] 此處，球狀的金屬氧化物（al)和非球狀的金屬氧化物（a2)的長寬比可W如下確 定；對用透射型顯微鏡（TEM)拍攝的金屬氧化物顆粒的短徑和長徑進(jìn)行測定，由該測定值 求出長徑/短徑，從而確定上述長寬比。
[0062] 需要說明的是，上述短徑和長徑各自依次為與金屬氧化物顆粒外接的面積最小的 外接長方形的短邊和長邊。
[0063] 作為球狀的金屬氧化物（al)，可W舉出例如娃、鉛、鐵、鉛、鋒、錫、鋼、嫁、錯、錬、鋼 等的氧化物，但不限定于上述物質(zhì)。
[0064] 從由本實(shí)施方式的光學(xué)涂膜形成用前體形成的光學(xué)涂膜的透明性和機(jī)械強(qiáng)度的 表現(xiàn)的方面出發(fā)，上述球狀的金屬氧化物（al)的平均粒徑優(yōu)選為Inm~lOOnm、更優(yōu)選為 Inm~50皿、進(jìn)一步優(yōu)選為Inm~lOnm。
[0065] 此處，在該顆粒W-次顆粒的形式存在的情況下，球狀的金屬氧化物（al)的平均 粒徑是指一次粒徑；在該顆粒W凝集顆粒的形式存在的情況下，球狀的金屬氧化物（al)的 平均粒徑是指凝集粒徑（二次粒徑），可W通過W下的方法確定。目P，按照拍到100個~200 個球狀的金屬氧化物（al)的顆粒的方式調(diào)整并拍攝，對得到的透射型顯微鏡（TEM)照片中 存在的該顆粒的粒徑（雙軸平均直徑、即短徑與長徑的平均值）進(jìn)行測定，求出該測定的各 粒徑的平均值，由此可W確定。
[0066] 作為形成上述球狀的金屬氧化物（al)的材料，可W舉出例如日產(chǎn)化學(xué)工業(yè)株式 會社制造的"SN0WTEX-0 (注冊商標(biāo)）"、該社制造的"SN0WTEX-0S(注冊商標(biāo)）"、該社制造的 "SNOWTEX-OXS(注冊商標(biāo)）"等，但不限定于上述材料。
[0067] 上述非球狀的金屬氧化物（曰2)是指長寬比（長徑/短徑）為3W上的金屬氧化 物，例如可W舉出金屬氧化物（微粒）顆粒的一次顆粒W念珠狀連結(jié)的復(fù)合顆粒、纖維狀顆 粒、針狀顆粒、板狀顆粒W及它們的中空顆粒等。
[006引作為上述非球狀的金屬氧化物（曰2)，可W舉出例如娃、鉛、鐵、鉛、鋒、錫、鋼、嫁、 錯、錬、鋼等的氧化物，但不限定于上述物質(zhì)。
[0069] 如上所述，上述非球狀的金屬氧化物（曰2)的長寬比（長徑/短徑）為3W上，優(yōu) 選為3~25、更優(yōu)選為3~15、進(jìn)一步優(yōu)選為3~10。
[0070] 此外，上述非球狀的金屬氧化物（a2)的平均長徑優(yōu)選為20nm~250nm、更優(yōu)選為 30nm~150nm、進(jìn)一步優(yōu)選為40nm~lOOnm。
[0071] 從由本實(shí)施方式的光學(xué)涂膜形成用前體得到的光學(xué)涂膜的空隙率、折射率的方面 出發(fā)，上述非球狀的金屬氧化物（a2)優(yōu)選長寬比（長徑/短徑）為3W上、且平均長徑為 20nmW上。此外，從透明性、防反射性能的方面出發(fā)，上述非球狀的金屬氧化物（a2)優(yōu)選長 寬比（長徑/短徑）為25W下、且平均長徑為250nmW下。
[0072] 需要說明的是，上述非球狀的金屬氧化物（a2)的平均長徑可W如下確定；按照拍 至IJ100個~200個非球狀的金屬氧化物（a2)的顆粒的方式調(diào)整并拍攝，對得到的透射型顯 微鏡（TEM)照片中存在的該顆粒的長徑進(jìn)行測定，求出該測定的各長徑的平均值，由此可 W確定。
[0073] 需要說明的是，上述非球狀的金屬氧化物（a2)的長徑是指與該非球狀的金屬氧 化物（a2)的顆粒外接的面積最小的外接長方形的長邊。
[0074] 作為形成非球狀的金屬氧化物（a2)的材料，可W舉出例如日產(chǎn)化學(xué)工業(yè)株式會 社制造的"SN0WTEX-0UP(注冊商標(biāo)）"、該社制造的"SN0WTEX-UP(注冊商標(biāo)）"、該社制造的 "SN0WTEX-PSS0(注冊商標(biāo)）"和該社制造的"SN0WTEX-PSS(注冊商標(biāo)）"、氧化鉛溶膠、假勃 姆石系氧化鉛、旭硝子株式會社制造的鱗片狀二氧化娃"Sunlovely"等，但不限定于上述材 料。它們可W具有立體彎曲的形狀。
[0075] 從提高由本實(shí)施方式的光學(xué)涂膜形成用前體得到的光學(xué)涂膜的機(jī)械強(qiáng)度和防反 射效果的方面考慮，上述球狀的金屬氧化物（al)與上述非球狀的金屬氧化物（a2)的混合 比例（質(zhì)量比）優(yōu)選為1:1~1:40、更優(yōu)選為1:3~1:20、進(jìn)一步優(yōu)選為1:3~1:10。
[0076] 除了上述球狀的金屬氧化物（al)和非球狀的金屬氧化物（a2)外，本實(shí)施方式的 光學(xué)涂膜形成用前體例如還可W包含由測、磯、娃、鉛、鐵、鉛、鋒、錫、鋼、嫁、錯、錬、鋼等形 成的其它金屬氧化物。
[0077](樹脂顆粒度)）
[0078] 本實(shí)施方式的光學(xué)涂膜形成用前體所含有的樹脂顆粒度）包含兩個W上的W l〇°C/分鐘的升溫速度加熱時的放熱峰。
[0079] 如后所述，W1(TC/分鐘的升溫速度將光學(xué)涂膜形成用前體加熱的操作具有下述 意義；在利用本實(shí)施方式的光學(xué)涂膜形成用前體形成光學(xué)涂膜時，針對對光學(xué)涂膜形成用 前體實(shí)施加熱處理而使樹脂顆粒度）熱分解而在膜中形成空隙的工序中樹脂顆粒度）的分 解溫度的偏差能夠進(jìn)行抑制。通過使樹脂顆粒度）包含兩個W上的放熱峰，能夠得到長期 耐久性優(yōu)異的光學(xué)涂膜。
[0080] 此外，本實(shí)施方式的光學(xué)涂膜形成用前體所含有的樹脂顆粒度）通過在30(TC~ 80(TC的溫度范圍內(nèi)、即30(TC~80(TC的溫度中的任一溫度進(jìn)行加熱，除去了全部或一部 分，該加熱后的樹脂顆粒度）比例（余量）優(yōu)選為50%W下，更優(yōu)選在加熱至60(TC時余量 為40%W下。
[0081] 此處，"余量"是指將樹脂顆粒度）加熱至上述特定溫度時未分解而殘存的樹脂顆 粒做的質(zhì)量比例。
[0082] 在將玻璃作為基材使用的情況下，上述加熱至特定溫度的操作除了具有由本實(shí)施 方式的光學(xué)涂膜形成用前體形成光學(xué)涂膜