專利名稱：包含渦流室的噴嘴裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種噴嘴裝置。特別地但不排他地，本發(fā)明涉及一種 用來產(chǎn)生流體噴劑的噴嘴裝置，該流體噴劑在壓力下被迫流過噴嘴裝 置。本發(fā)明還涉及結(jié)合了這種噴嘴裝置的分配器。
背景技術(shù)：
噴嘴通常被用來提供產(chǎn)生各種流體噴劑的工具。特別是，噴嘴通 常結(jié)合到致動器內(nèi)，該致動器與充滿受壓流體的容器、例如所謂的"氣 霧劑罐，，的出口閥配合，以提供一種工具，通過該工具存儲在容器中的 流體可以以霧化的噴劑或薄霧的形式分配出來。大量的商品以這種形
式提供給消費者，例如包括止汗藥噴劑、除臭噴劑、香水、空氣清 新劑、防腐劑、油漆、殺蟲劑、上光劑、護發(fā)產(chǎn)品、藥劑、水和潤滑 劑。另外，泵或觸發(fā)致動噴嘴裝置，亦即流體從非壓力容器中的釋放 是通過操作可手動操作泵或觸發(fā)器來實現(xiàn)的裝置，其中可手動操作泵 或觸發(fā)器形成該裝置一個組成部分，以上泵和觸發(fā)致動噴嘴裝置還經(jīng) 常用來產(chǎn)生特定流體產(chǎn)品的霧化噴劑或薄霧。通常使用泵或觸發(fā)噴嘴 設(shè)備分配的產(chǎn)品例子包括各種洗劑和殺蟲劑，以及各種園藝和家用噴 劑。
盡管用于氣霧劑罐的噴嘴通常結(jié)合在致動器內(nèi)，該致動器位于從 氣霧劑岡延伸的桿部末端，也建議直接將噴嘴的多種特征結(jié)合在氣霧 劑閥本身和/或桿部內(nèi)。因此，應(yīng)當(dāng)理解這里所涉及的噴嘴裝置試圖包
含結(jié)合在氣霧劑出口閥或桿部內(nèi)的噴嘴裝置，以及形成安裝在氣霧劑 罐出口閥的桿部上的單獨部件的一部分的噴嘴裝置，或者是可手動操 作泵或觸發(fā)器的一部分的噴嘴裝置。
噴嘴裝置還用在多種工業(yè)應(yīng)用中，這些應(yīng)用中必須產(chǎn)生流體噴劑。 例如，在園藝和冷卻應(yīng)用中的噴霧嘴。噴嘴裝置還常常作為發(fā)動機等
的燃料噴射系統(tǒng)的一部分使用。
當(dāng)流體在壓力下流過噴嘴裝置時產(chǎn)生噴劑。為了形成噴劑，噴嘴 裝置構(gòu)造成導(dǎo)致穿過噴嘴的流體流通過一個或多個出口孔噴射時，破 碎或"霧化"成大量液滴。
噴劑中所需液滴的最佳尺寸主要取決于所涉及的特定產(chǎn)品，和其 所希望的用途。例如，用于被患者(例如哮喘患者)吸入的包含藥品 的藥物噴劑通常需要非常小的液滴，該液滴可以深入到肺部。相反，
表面的沖擊，并且特別地，如果噴劑具有毒性，以降低吸入程度。
傳統(tǒng)噴嘴裝置產(chǎn)生的氣霧劑液滴的大小由多個因素支配，包括出 口孔的尺寸和迫使流體穿過噴嘴的壓力。然而，如果希望產(chǎn)生包含具 有窄小液滴尺寸分布的小液滴的噴劑，有可能出現(xiàn)問題，特別是在低 壓力下。使用低壓力來產(chǎn)生噴劑越來越變得令人期望，因為其使得可 以使用低壓力噴嘴設(shè)備，例如可手動操作泵或觸發(fā)器噴霧器而不是更 加昂貴的壓力容器，并且在充滿受壓流體的容器的情況下，其使得含 在噴劑中的推進(jìn)劑的量降低，或者可選擇使用通常產(chǎn)生低壓力(例如 壓力氣體)的推進(jìn)劑。目前希望降低氣霧劑罐中使用的推進(jìn)劑水平成 為 一個熱門問題，并且由于某些國家計劃的立法可能使這個問題在將 來變得更加重要，這些立法建議對可以在手持氣霧劑罐中使用的推進(jìn) 劑的量加以限制。推進(jìn)劑水平的降低導(dǎo)致可用來驅(qū)動流體通過噴嘴裝 置的壓力降低，并且使得混合物中含有較少的推進(jìn)劑輔助破碎液滴。 因此，對能夠在低壓力下產(chǎn)生由合適的小液滴組成的氣霧劑噴劑的噴 嘴裝置存在需要。
已知的與傳統(tǒng)噴嘴裝置配合的壓力氣霧劑罐的其它問題是產(chǎn)生的 氣霧劑液滴的尺寸在氣霧劑罐的壽命內(nèi)趨于增加，特別是在逼近罐的 壽命終點，隨著推進(jìn)劑逐漸耗盡罐內(nèi)壓力降低時。這種壓力的降低導(dǎo) 致所產(chǎn)生的氣霧劑液滴尺寸明顯增加，因此，所產(chǎn)生的噴劑的質(zhì)量下降。
如果所涉及的流體具有高的粘性，在低壓力下提供高質(zhì)量噴劑的
問題進(jìn)一步惡化，這是因為流體變得更加難以霧化成足夠小的液滴。
已經(jīng)提出了各種建議來改進(jìn)噴嘴裝置以便克服或者至少減少上面 所列出的問題。
例如，在噴嘴裝置中結(jié)合一個渦流室已經(jīng)為人所知，在該渦流室 中導(dǎo)致流體在通過出口孔離開該室之前旋轉(zhuǎn)。已知的渦流室通常包括 一個具有出口孔的圓柱形室，該出口孔位于室的下游或前端壁的中部。 在室的一側(cè)設(shè)置一個或多個流體入口，這些流體入口引導(dǎo)流體沿切向 至圓柱形壁，從而流體在室內(nèi)旋轉(zhuǎn)。在具有多于一個的入口孔時，所 有入口孔在相同的圓周方向上輸送流體進(jìn)入室中。渦流室在從出口孔 處產(chǎn)生圓錐形噴劑時特別有用。
術(shù)語"下游端"和"上游端"在這里用于相對于渦流室在流體通過室 行進(jìn)的大致方向上指室的端部。因此"下游"端將是通過該端流體離開 室的一端，并且該端在出口形成，同時"上游"端是與下游端相對的一。
在Benoist的US 6367711 Bl中描述了一種通常已知的渦流室。在 這種裝置中，在圓上設(shè)置四個輪廓，以便在輪廓的中部限定一個圓柱 形室。相鄰輪廓之間的空間形成入口，這些入口引導(dǎo)流體沿切向進(jìn)入 中心室，從而在流體上施加了凝渦運動。噴劑孔設(shè)置在室的下游端壁 的中部。
如該申請人的國際專利申請WO 01/89958中所披露的，同樣已經(jīng)
發(fā)現(xiàn)在噴嘴裝置中結(jié)合一個渦流室但在上游與最終出口孔隔開是有益 的，該渦流室作為控制最終的氣霧劑中的液滴尺寸和液滴尺寸分布的 工具。
許多已知渦流室產(chǎn)生中央空心，在該中央空心周圍流體、典型為 溶液在其離開出口孔時旋轉(zhuǎn)?？招牡漠a(chǎn)生是當(dāng)溶液在室內(nèi)旋轉(zhuǎn)時形成 渦流的結(jié)果，該渦流從噴嘴外側(cè)吸引空心穿過出口孔的中部。形成空 心的渦流室產(chǎn)生中空的圓錐形噴劑，并且只可以在鄰近噴嘴的最終出 口噴劑孔處使用。
盡管已經(jīng)發(fā)現(xiàn)傳統(tǒng)渦流室是有效的，還存在提供具有可選擇的渦
流室結(jié)構(gòu)的噴嘴裝置的需要，這些渦流室結(jié)構(gòu)可以用來進(jìn)一步提高所 產(chǎn)生的噴劑的質(zhì)量，或者產(chǎn)生具有不同于使用傳統(tǒng)渦流室產(chǎn)生的那些 噴劑所有的特性的噴劑。

發(fā)明內(nèi)容
按照本發(fā)明的第一方面，提供一種噴嘴裝置，該噴嘴裝置包括一 個渦流室，該渦流室具有至少一個彎曲表面區(qū)域，至少一個位于該室 下游端的出口孔，通過該出口孔流體可以離開該室，以及至少一個流 體入口 ，所述至少一個流體入口構(gòu)造成引導(dǎo)流體沿一路徑以非切向進(jìn) 入室，該路徑在與和入口相對的該室表面區(qū)域接觸之前，從入口延伸 穿過該室的至少部分，該裝置在使用中，導(dǎo)致進(jìn)入該室的流體在通過 至少一個出口孔離開該室之中^走轉(zhuǎn)。
可以有兩個或多個入口構(gòu)造成引導(dǎo)流體沿非切向進(jìn)入該室至緊鄰 相應(yīng)入口的室表面。該兩個或多個入口可以構(gòu)造成引導(dǎo)流體沿在室內(nèi) 不相交的路徑進(jìn)入室。該兩個或多個入口可以構(gòu)造成引導(dǎo)流體沿大致 平行的路徑進(jìn)入室。所述兩個或多個入口中的至少一個可以具有比所
述兩個或多個入口中的至少另一個更大的橫截面積。
該至少一個非切向入口可以這樣構(gòu)造，即在使用中，流體被引導(dǎo) 至彎曲的室表面區(qū)域。
該室可以具有圓柱形表面部分并且該至少一個入口可以構(gòu)造成引 導(dǎo)流體至圓柱形表面部分。
可以有兩個或多個入口配置在大致垂直于該室的縱軸的^^共平面內(nèi)。
所述兩個或多個入口中的兩個構(gòu)造成引導(dǎo)流體從兩個相對側(cè)進(jìn)入 室，這樣導(dǎo)致從兩個入口來的流體流在大致相同的室圓周方向上繞室 轉(zhuǎn)動。作為選擇，所述兩個或多個入口中的兩個可以構(gòu)造成引導(dǎo)流體 從相同側(cè)進(jìn)入室，這樣導(dǎo)致從兩個入口來的流體流在大體上相反的室 圓周方向上繞室轉(zhuǎn)動。
在室的上游端可能具有至少一個另外的入口。
至少室的部分表面可以在室的側(cè)向和縱向上都是彎曲的。至少室的部分表面可以是圓頂形的，通常球形或通常部分球形。
按照本發(fā)明的第二方面，提供一種噴嘴裝置，該噴嘴裝置包括一 個渦流室，該渦流室在室的下游端具有至少一個出口孔，流體可以通
過該出口孔離開室；以及至少一個流體入口，其中至少室的部分表面 可以在室的側(cè)向和縱向上都是彎曲的。
室的表面可以包括至少一個這樣的區(qū)域，該區(qū)域通常為圓頂形的 或部分球形的，特別是在室的上游端。
室可以進(jìn)一步包括一個下游部分，該下游部分具有一個通常圓頂 形的或部分球形的表面區(qū)域。上游部分的通常圓頂形的或部分球形的
更大的半徑。
上游部分的通常圓頂形的或部分球形的表面區(qū)域可以通過室的中 間部分與下游部分的通常圓頂形的或部分球形的表面區(qū)域分開，
室可以通常為球形。
室可以具有下游部分，該下游部分具有通常為圓錐形的表面區(qū)域。
室可以具有多個出口孔，每個出口孔位于單獨的通常部分球形或 圓頂形的室表面區(qū)域中。每個出口孔可以設(shè)置在其相應(yīng)的部分球形或 圓頂形表面區(qū)域的極軸上。
室可以具有形式為環(huán)形截面的表面區(qū)域，該表面區(qū)域可以位于渦 流室的下游部分的該至少一個出口孔的周圍。室的通常部分球形或圓 頂形的表面區(qū)域可以位于環(huán)形截面表面區(qū)域內(nèi)。
該至少一個入口可以i殳置在室的上游端部分。該至少一個入口可 以構(gòu)造成引導(dǎo)流體沿一路徑進(jìn)入室，該路徑在室的縱向上延伸?？赡?有兩個或多個入口，每個入口設(shè)置在室的上游端區(qū)域。
該入口或每個入口可以構(gòu)造成引導(dǎo)流體沿非切向進(jìn)入室至緊鄰入 口的室表面，該配置使得進(jìn)入室的流體在與室表面接觸之前被引導(dǎo)從 入口穿過至少室的部分。
室可以具有兩個或多個入口，該室如此構(gòu)造，即導(dǎo)致從所述入口 中的至少兩個來的流體流在通常相反的圓周方向上在室內(nèi)旋轉(zhuǎn)。
可以具有四個或多個入口 。
按照本發(fā)明的第三方面，提供一種噴嘴裝置，該噴嘴裝置包括一 個渦流室，該渦流室在室的下游端具有至少一個出口孔，流體可以通 過該出口孔離開該室，以及至少兩個流體入口，所述至少兩個入口每 個構(gòu)造成f 1導(dǎo)流體沿切向至緊鄰相應(yīng)入口的室表面，其中至少兩個入 口這樣配置，即在使用中，引導(dǎo)流體流進(jìn)入室，這樣導(dǎo)致流體流在通 常相反的室圓周方向上轉(zhuǎn)動。
該至少兩個入口可以從相同側(cè)進(jìn)入室。
該至少兩個入口可以設(shè)置在垂直于室的縱軸的公共平面內(nèi)。 所述入口中的一個可以具有比入口中的至少另一個更大的橫截面積。
可以有兩個以上的入口，在這種情況下，至少兩個入口這樣配置， 即在使用中，引導(dǎo)流體流進(jìn)入室，這樣導(dǎo)致流體流在通常相反的室圓 周方向上轉(zhuǎn)動。
多個入口可以設(shè)置在垂直于室的縱軸的許多不同的平面上，以便 沿室的長度方向隔開。在每個不同的平面上可以有至少兩個入口，入 口這樣配置，即在使用中，引導(dǎo)流體流進(jìn)入室，這樣導(dǎo)致流體流在通 常相反的室圓周方向上轉(zhuǎn)動。
按照本發(fā)明的第四方面，提供一種噴嘴裝置，該噴嘴裝置包括一 個渦流室，該渦流室在室的下游端具有至少一個出口孔，通過該出口 孔流體可以離開該室，以及至少兩個流體入口，其中，至少一個流體 入口具有比流體入口的至少另一個更大的橫截面積。按照本發(fā)明的該
第四方面的噴嘴可以包括本發(fā)明第一、第二和第三方面的任何特征。
在本發(fā)明的不同方面，渦流室可以具有配置在該室下游端的中部 的單個出口孔。作為選擇，渦流室可以具有多個出口孔。渦流室的該
出口孔或每個出口孔可以是噴嘴裝置的最終噴劑孔。作為選擇，該渦 流室的該出口孔或每個出口孔可以引導(dǎo)流體離開室，進(jìn)入噴嘴裝置的 延續(xù)部分，其位于噴嘴裝置的一個或多個最終出口孔的上游。
渦流室具有多于一個的入口 ，所有入口可以配置為從流體源輸送
相同的溶液進(jìn)入室。作為選擇，至少一個入口可以配置為從第一流體 源輸送第一溶液進(jìn)入室，而至少另一個入口配置為從第二流體源輸送 不同的流體進(jìn)入室。不同流體可以是氣體。
在本發(fā)明的不同方面，噴嘴裝置可以具有兩個或多個相互并聯(lián)或 相互串聯(lián)的渦流室。可以具有兩個串聯(lián)配置的渦流室，在兩個渦流室 之間的流動路徑上配置膨脹室。
在本發(fā)明的不同方面，通過該出口孔或每個出口孔離開噴嘴裝置 的流體可以形成霧化噴劑，該霧化噴劑具有沒有中部空心的完整圓錐 形。
按照本發(fā)明的第五方面，提供一個分配器，該分配器包括按照本 發(fā)明前述幾方面的任一方面的噴嘴裝置。


現(xiàn)在將參照附圖僅通過例子描述本發(fā)明的幾個實施例，其中
圖1是通過按照本發(fā)明形成部分噴嘴裝置的渦流室的示意性橫截 面視圖，該視圖通過一個平面，該平面包括室的縱軸Y;
圖2是沿圖1線X-X的示意性橫截面視圖3是與圖2相似的視圖，但是示出了室的另一種實施例，其中 兩個入口孔從同側(cè)進(jìn)入室；
圖4是與圖1相似的視圖，但是示出了又一種實施例，其中在室 的每一側(cè)上設(shè)置多個入口孔；
圖5是與圖2相似的視圖，但是示出了再一種實施例，其中設(shè)置 兩個入口孔引導(dǎo)流體在相反切線方向上進(jìn)入室；
圖6a、 6b和6c分別是按照本發(fā)明另一種實施例的噴嘴裝置部分 的示意性的正、側(cè)和俯視圖，其中渦流室的細(xì)節(jié)通過虛線以隱藏的細(xì) 節(jié)示出；
圖7a、 7b和7c是分別與圖6a、 6b和6c相似的視圖，但是示出 了本發(fā)明的另一種實施例；
圖8a、 8b和8c是分別與圖6a、 6b和6c相似的視圖，但是示出
了本發(fā)明的另一種實施例；
圖9a、 9b和9c是分別與圖6a、 6b和6c相似的視圖，但是示出 了本發(fā)明的另一種實施例；
圖10a、 10b和10c是分別與圖6a、 6b和6c相似的視圖，但是示 出了本發(fā)明的另一種實施例；
圖lla、 llb是分別與6b和6c相似的視圖，但是示出了本發(fā)明的 另一種實施例；
圖12a、 12b和12c是分別與圖6a、 6b和6c相似的視圖，但是示 出了本發(fā)明的另一種實施例；
圖13a、 13b和13c是分別與圖6a、 6b和6c相似的視圖，但是示 出了本發(fā)明的另一種實施例；
圖14a、 14b和14c是分別與圖6a、 6b和6c相似的視圖，但是示 出了本發(fā)明的另 一種實施例。
具體實施例方式
首先參考圖1和2，示意性地示出了按照本發(fā)明用在噴嘴裝置中 的室10。與這里所描述的所有實施例一樣，該室10可以結(jié)合到任何 噴嘴裝置中，該任何噴嘴裝置適于從流體源、特別是以噴劑的形式分 配液體。例如，噴嘴裝置可以結(jié)合到配合在氣霧劑罐出口閥中的致動 器或其他部件中。作為選擇，該室可以結(jié)合到出口閥本身中，或者結(jié) 合到從出口閥突出的桿部中。該室還可以結(jié)合到手動泵或觸發(fā)分配器 的噴嘴裝置中，該手動泵或觸發(fā)分配器適于從非壓力容器噴濺流體。 該室還可以形成工業(yè)噴嘴或燃油噴射噴嘴的一部分。
室IO形狀為圓柱形，具有一個如圖2所示的圓形橫截面。流體通 過兩個側(cè)向入口 12、 14注入室，該兩個側(cè)向入口 12、 14從相對的兩 側(cè)進(jìn)入室。出口 16位于壁18的中部，該壁18限定了室10的下游端。
與這里所披露的所有實施例一樣，出口 16可以是噴嘴裝置的最終 噴劑出口孔，或者它引導(dǎo)流體離開該室進(jìn)入噴嘴裝置中流動通道的另 外部分，該流動通道通向一個或幾個出口孔或者進(jìn)入另外的室中。出 口孔16無需設(shè)置在該室下游端壁的中部，而是可以設(shè)置在室內(nèi)任何合 適的地方。在特定的應(yīng)用中，可以提供多于一個的出口 16。
正如可以在圖2中最好地看到，側(cè)向入口 12、 14相對彼此偏移， 并配置為引導(dǎo)流體在不與緊鄰該入口的室壁相切的方向上進(jìn)入室內(nèi)， 并且不會導(dǎo)致兩流體流在與室的相對壁部分接觸之前相交。這將導(dǎo)致 流體流被引導(dǎo)朝著彎曲的相對壁部分穿過室。當(dāng)流體流撞擊到相對壁 部分上后，某些流體將彈離壁，而某些將由于壁部分的曲率向流體施 加旋渦運動而在室內(nèi)轉(zhuǎn)動。通過如圖2所示配置的側(cè)向入口 12、 14， 流體流將趨向于在相同的圓周方向上繞室轉(zhuǎn)動，在所示的配置中將順 時針轉(zhuǎn)動。
該配置與傳統(tǒng)的渦流室不同，在傳統(tǒng)的渦流室中，入口沿切向?qū)?流體引導(dǎo)到室的內(nèi)壁表面上以便繞室在圓周方向上移動。在不與入口 所進(jìn)入的壁表面相切的方向上引導(dǎo)流體進(jìn)入渦流室的入口通?？梢员?稱作非切向入口。
申請人發(fā)現(xiàn)具有非切向入口的渦流室產(chǎn)生 一種噴劑，該噴劑具有 更細(xì)的液滴，并且具有比相當(dāng)?shù)膫鹘y(tǒng)渦流室更完整、更寬的圓錐形。 應(yīng)當(dāng)相信在渦流室中使用非切向入口是有利的，原因在于進(jìn)入室內(nèi)的 流體不會受到與傳統(tǒng)渦流中流體相同水平的摩擦力，在傳統(tǒng)渦流中， 流體被直接引導(dǎo)至鄰近入口的室壁上。因此，使用非切向入口降低了 流體中的能量損失，使得漩渦即便在低操作壓力下也能產(chǎn)生良好的噴 劑形式，這是由于在流體中有更多的能量幫助打碎或霧化流體。這也 使得噴嘴能夠被有效用于別的方式難于霧化的溶液，例如由于其粘性 而難以霧化。
通常，觀察到入口流離渦流室壁表面越遠(yuǎn)，噴嘴的噴射特性會越 好。然而，這些流不應(yīng)與出口孔重疊，并且不應(yīng)相互撞擊。
為了在室內(nèi)向流體施加旋轉(zhuǎn)運動，有利地，引導(dǎo)流體流所至的壁 表面是彎曲的。在本實施例中，室10具有圓形橫截面，然而這不是必 需的，可以使用具有非圓形橫截面的室，只要該室具有一個或幾個彎 曲壁部分，流體流可以靠著該彎曲壁部分被引導(dǎo)。
如圖l和2所示，側(cè)向入口 12、 14具有相同的尺寸，但是在特定 應(yīng)用中發(fā)現(xiàn)一側(cè)的入口大于另一側(cè)的入口是有利的。使用不同橫截面 積的入口產(chǎn)生具有不同速度的流體流，當(dāng)這些流在室內(nèi)混合時，認(rèn)為 不同的速度形成附加湍流，這對幫助打碎流體是有益的。其結(jié)果是， 噴嘴產(chǎn)生具有更小液滴尺寸噴劑形式，特別是在接近噴濺脈沖結(jié)束的 時候。
使用不同尺寸的入口的想法不限于按照本實施例的渦流室，而是 可以使用在這里所披露的所有實施例中，以及具有其他傳統(tǒng)切向入口 的渦流室中。
盡管圖l和2中示出的實施例只具有兩個側(cè)向入口 12、 14,可以 設(shè)置多于兩個的側(cè)向入口。圖4示出一個實施例，其中在室的每一側(cè) 上縱向間隔朝一列三個側(cè)向入口 12a、 12b、 12c、 14a、 14b、 14c。每個 側(cè)向入口i殳置為以與如圖2所示入口 12、14相似的方式引導(dǎo)流體進(jìn)入 室內(nèi)。在一側(cè)上的側(cè)向入口 12a-12c可以比另一側(cè)上的側(cè)向入口 14a -14c大。雖然圖4示出在每一側(cè)上有三個側(cè)向入口 ，應(yīng)當(dāng)理解可以 提供任何適當(dāng)數(shù)目的側(cè)向入口。另外，側(cè)向入口可以在圓周方向上間 隔排列，而不是或者除了在縱向上間隔排列，只要流體流在與室的相 對彎曲壁部分接觸之前不彼此相交。
圖3圖示了室110的另外一種實施例，其中兩個側(cè)向入口 112和 114配置為從室的相同側(cè)輸送流體進(jìn)入室，這樣流體在大體相同的側(cè) 面方向上移動穿過室，亦即都從室的相同側(cè)向相對側(cè)移動。與圖2示 出的實施例一樣，側(cè)向入口 112、 114在不與室的彎曲側(cè)壁相切的方向 上引導(dǎo)流體進(jìn)入室內(nèi)，這樣也不會導(dǎo)致其相應(yīng)的流體流相交。這使得 流體流被引導(dǎo)朝著相對的彎曲壁表面穿過室。在流體流撞擊相對壁表 面后，某些流體彈回，某些流體在室內(nèi)轉(zhuǎn)動，以便在流體上施加漩渦 運動。
與圖2所示的實施例不同，在該實施例中從側(cè)向入口 12、 14來的 流體流在相同的圓周方向上轉(zhuǎn)動，在本實施例中，從側(cè)向入口 112、 114來的流體流將在相反的圓周方向上轉(zhuǎn)動，從而相互碰撞。當(dāng)流體 流繞室相反轉(zhuǎn)動時， 一個流體流將被迫處于另一流體流下方以增加湍 流并幫助將流體打碎成液滴。
與前述的實施例一樣，側(cè)向入口 112、 114可以具有不同的尺寸并 可以設(shè)置多于兩個的入口。例如，可以設(shè)置沿室縱向間隔開的兩個或 多個側(cè)向入口，以圖4所示的相似方式與入口 112、 114成一直線。
在圖2和3所示的實施例中，側(cè)向入口 12、 14、 112、 114構(gòu)造成 引導(dǎo)流體流大致上相互平行地進(jìn)入室10、 110。雖然這被認(rèn)為是特別 有利的配置，但并不是必需的，并且側(cè)向入口可以配置為相互成一角 度，只要流體流在與室壁的相對彎曲部分接觸之前相交。
圖5圖示了本發(fā)明的另一種實施例。與圖2示出的實施例一樣， 室210具有兩個從相對側(cè)引導(dǎo)流體進(jìn)入室內(nèi)的側(cè)向入口 212、 214。在 本實施例中，側(cè)向入口 212、 214配置為引導(dǎo)流體沿切向進(jìn)入室內(nèi)，這 樣流體接觸緊鄰入口的室壁，并且以與傳統(tǒng)渦流相似的方式轉(zhuǎn)動。然 而，與傳統(tǒng)渦流不同的是，傳統(tǒng)渦流中所有入口引導(dǎo)流體在相同的圓 周方向上進(jìn)入室內(nèi)，在本實施例中，側(cè)向入口 212、 214引導(dǎo)流體在相 反的圓周方向上進(jìn)入室210,這樣從側(cè)向入口 212、 214來的流體流繞 室相反轉(zhuǎn)動并相互碰撞，從而一個流體流被迫處于另一個之下。這將 在室內(nèi)增加湍流，并導(dǎo)致最終噴劑中的更精細(xì)的液滴，以及更完整的 錐形。側(cè)向入口 212、 214中的一個可以比入口孔212、 214中的另一 個大。
配置為引導(dǎo)流體沿切向但在相反的圓周方向上進(jìn)入室的入口在這 里被稱作反切向。
與前述實施例一樣，室210可以具有多于兩個的側(cè)向入口 212、 214,只要至少兩個側(cè)向入口反切向配置，以引導(dǎo)流體在相反的圓周方 向上進(jìn)入室。例如，可以在室的任一側(cè)上設(shè)置多個側(cè)向入口。
室210將具有至少一個出口孔，該出口孔可以以與關(guān)于圖2描述 的出口 16相似的方式設(shè)置在室的下游端的中部。出口可以是噴嘴裝置 的最終出口或噴劑孔，或者可以引導(dǎo)流體離開室進(jìn)入噴嘴裝置中流動 通道的其他部分，該流動通道通向一個或幾個出口孔或進(jìn)入另外的室。
盡管示出的室210具有圓形橫截面，這不是必需的。實際上，在 本實施例中室壁不必是彎曲的，只要入口可以引導(dǎo)流體沿切向至室壁
以^f更在; 充體上施加轉(zhuǎn)動或旋轉(zhuǎn)運動。
在前述所有的實施例中，側(cè)向入口 12、 14、 112、 114、 212、 214 顯示為成對地處于垂直于室的縱軸Y的共同平面上。然而，這不是必 需的，側(cè)向入口可以位于垂直于縱軸的不同平面上。
另外，在所描述的所有實施例中， 一個或多個附加入口可以從上 游端進(jìn)入室10、 110、 210。這在圖l中圖示，圖l以虛線示出一個引 導(dǎo)流體通過上游端壁22沿縱向進(jìn)入室10的單獨入口 20。盡管在圖1 中只示出了一個附加入口，但可以設(shè)置多于一個的附加入口。
所有側(cè)向入口可以構(gòu)造為輸送相同的流體進(jìn)入室，該流體可以是 溶液或氣體。作為選擇， 一個或多個側(cè)向入口可以構(gòu)造成輸送第一流 體進(jìn)入室，剩余的一個或幾個側(cè)向入口輸送第二流體。第一和第二流 體可以包括不同的溶液或一種流體為溶液，其它為氣體例如空氣。
室10、 110和210具有一個或多個附加入口 20，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)這樣做 特別有利即引導(dǎo)氣體例如空氣通過所述的一個或多個附加入口通常 沿縱向進(jìn)入室，同時通過側(cè)向入口將溶液輸送到室內(nèi)。
在上面描述的實施例中，渦流室10、 110、 210都具有平直的上游 和下游端壁部分。這不是必需的，端部分可以是任何合適的形狀。在 特殊的例子中，室的一端或兩端可以逐漸變小以形成圓錐或截頭圓錐 形狀。因此，室的上游端可以從上游端到沿室的長度一半的位置向外 逐漸變小，和/或室的下游端可以從室的長度的一半的位置到下游端向 內(nèi)逐漸變小。然而， 一個或兩個錐形的方向可以顛倒。另外，室的上 游端可以具有逐漸變小的突出部分，該突出部分一半延伸到室內(nèi)，并 且流體繞該突出部分在室內(nèi)轉(zhuǎn)動。這種配置在圖4中以虛線24圖示。
前面描述的實施例都包括具有側(cè)表面的圓柱形渦流室，該側(cè)表面 繞室的縱向中心線彎曲(從側(cè)向橫截面觀看時)，但沿室的長度平行于 縱向中心線延伸。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)制造這樣一個渦流室特別有利，即該渦流 室中至少表面的一部分在室的縱向上也是彎曲的，以產(chǎn)生一個圓頂形 的表面部分?，F(xiàn)在將參照圖6到14描述具有一個或多個圓頂形表面區(qū) 域的幾個渦流室實施例。
圖6a到6c示意性地圖示了按照本發(fā)明的噴嘴的另一種實施例的 部分。噴嘴包括一個主體300和一個渦流室310,渦流室310在圖中 以虛線示出。渦流室310具有兩個通常為半球形的表面區(qū)域310a、 310b。第一個半球形表面區(qū)域310a形成室的上游端，同時另一個半球 形部分310b形成室的下游端并且具有比上游端310a小的半徑。室還 具有一個在較大半球形區(qū)域310a的下游端和較小半球形區(qū)域310b的 上游端之間的環(huán)形平直表面區(qū)域310c。出口孔316位于下游半球形區(qū) 域310b的極軸處。
渦流室310在室的上游端具有兩個非切向入口 312、314。入口 312、 314配置在不同的平面上，分別位于室的一側(cè)，并且如圖6b所示，與 室的縱軸Y成大約30度的角度，以沿路徑引導(dǎo)流體(在圖6b中以箭 頭Z指示)，該路徑朝著室的平直表面部分310c相互分開。在使用中， 從入口來的流體流以一個角度撞擊平直壁部分310c,流體向后向外偏 轉(zhuǎn)到上游半球形區(qū)域310a的彎曲表面，在此處發(fā)生繞室的轉(zhuǎn)動或旋 轉(zhuǎn)。因為入口 312、 314在室的任一側(cè)上在相反方向上成一角度，從兩 入口來的流體流在相同的圓周方向上發(fā)生繞室310的轉(zhuǎn)動，如圖6a 中箭頭所示。
如上文中提到的，入口 312、 314沿非切向與上游半球形區(qū)域310a 的表面對準(zhǔn)，這樣流體在撞擊室的平直表面310c之前穿過室的至少一 部分。入口這樣構(gòu)造，即使得流體流在接觸室的表面310c之前不相交 并且不與出口孔316的中心線相交。
在本實施例中，兩個入口具有相同的尺寸，但是在其它實施例中， 一個入口可以具有比另一個入口更大的橫截面積。
因為室310具有圓頂形或者部分球形表面區(qū)域310a、 310b，入口 312、 314配置為通過上游端進(jìn)入室內(nèi)并引導(dǎo)流體流在通?？v向方向上 進(jìn)入室內(nèi)至室的表面，以使流體旋轉(zhuǎn)或成漩渦。這是優(yōu)于傳統(tǒng)圓柱形 渦流室的一個優(yōu)點，在傳統(tǒng)圓柱形渦流室中需要側(cè)面通道工具以便該 入口可以引導(dǎo)流體從側(cè)向進(jìn)入室內(nèi)至彎曲的圓柱形表面上。通過室的
上游端進(jìn)入的入口通常更容易制造，并且與側(cè)通道相比堵塞的可能性
更小。另外，由于不需要側(cè)面通道，渦流室310在側(cè)向占據(jù)更小的空 間，使得它能夠配合在更小的空間內(nèi)。這也使得多個這種渦流室能夠 并排著緊密靠近地設(shè)置，從而由出口孔產(chǎn)生的噴劑可以重疊或匯合。
所有入口可以配置為引導(dǎo)相同的液體或溶液進(jìn)入室310。作為選 擇， 一個或多個入口可以配置為引導(dǎo)第二液體或者甚至氣體例如空氣 進(jìn)入室310與溶液混合。在氣體被引導(dǎo)處，可以通過室的上游端或通 過室的側(cè)面i殳置一個或幾個氣體入口 。
入口 312、 314的數(shù)量和配置可以按照需要改變。盡管優(yōu)選為至少 兩個入口 ，可以使用來自上游端但被引導(dǎo)從出口孔離開的一個單獨入 cr 。
圖7到14圖示了多種可選擇的渦流室裝置，該渦流室裝置具有至 少一個圓頂形或半球形表面區(qū)域，并且可以結(jié)合在按照本發(fā)明的噴嘴 裝置中。
在圖7a到7c中示出的室410與上面描述的圖6a到6c中示出的 相似，除了入口 412、 414顯示為從單個流體通道上分開以外。 一個入 口 412具有比另一個入口 414更大的橫截面積。
圖8a到8c圖示了具有球形表面的室510，其中單個出口孔位于 室的下游端的極軸上。在室的上游端i殳置入口 512、 514，該入口 512、 514以與上面描述的室310相似的方式配置。入口引導(dǎo)流體沿非切向 進(jìn)入室，以便與室的下游端的彎曲表面接觸，導(dǎo)致其在室內(nèi)轉(zhuǎn)動或旋 轉(zhuǎn)。
在圖9a到9c示出的配置中，室610為半球形，其彎曲表面區(qū)域 位于上游端，極軸與室的縱軸Y成一直線。單個出口孔616位于室的 平直的下游端壁的中部。兩個非切向入口 612、 614通過室的上游端進(jìn) 入并引導(dǎo)流體以一個角度至平直的下游端壁，其方式與上面描述的室 310相似，這樣流體偏轉(zhuǎn)返回進(jìn)入室內(nèi)并向外至室的彎曲表面，在此 處導(dǎo)致其繞室旋轉(zhuǎn)。
圖10a到10c示出了具有渦流室710的噴嘴裝置，該渦流室710 與上面描述的室310相似，除了該室的下游區(qū)域具有朝著出口孔716
逐漸變小的圓錐形表面區(qū)域710b之外。
在圖11a和llb中示出了結(jié)合了渦流室810的噴嘴裝置，該渦流 室810具有多個出口孔816。室810具有包含半球形表面的上游區(qū)域 810a,并在下游區(qū)域具有三個出口孔816。每個出口孔位于相應(yīng)圓頂 形或半球形室區(qū)域830的頂點處。該室具有兩個以與上面關(guān)于圖6a 到6c描述的室310的入口相似的方式位于室上游端的非切向入口 812、 814。在本實施例中，在繞主室旋轉(zhuǎn)的同時，流體繞鄰近出口孔 816的每個圓頂形區(qū)域830旋轉(zhuǎn)。
圖12a到12c圖示了具有渦流室910的噴嘴裝置，該渦流室910 與上面關(guān)于圖6a到6c描述的室310相似。然而，在此實施例中，室 910具有四個繞室的上游端910a隔開的入口 912a、 912b、 914a、 914b。 這些入口引導(dǎo)流體沿非切向進(jìn)入室，從而流體流與環(huán)形平直表面區(qū)域 910c接觸并向后向外偏轉(zhuǎn)至彎曲的上游半球形表面910a，在此處導(dǎo)致 其繞室轉(zhuǎn)動或旋轉(zhuǎn)。
圖13a到13c中示出的噴嘴裝置具有一個渦流室1010,該渦流室 具有上游半球形表面區(qū)域1010a和被連接表面區(qū)域1010d分開的下游 半球形區(qū)域1010b。兩個半球形表面區(qū)域1010a、 1010b具有相同的尺 寸，同時連接區(qū)域1010d具有較小的半徑。在本實施例中連接區(qū)域 1010d具有一個表面，該表面向內(nèi)逐漸變小到中部最高點，但是在可 選擇的實施例中連接區(qū)域可以具有圓柱形表面。室IOIO具有兩個與上 面關(guān)于圖6a到6c描述的室310的入口 312、314相似的非切向流體入 口 1012、 1014。在下游半球形表面區(qū)域1010b的中部設(shè)置單個出口孔 1016。
應(yīng)當(dāng)理解上面的實施例可以以多種方式改變。例如，連接部分 1010d的尺寸和形狀可以改變。因此連接部分可以具有和兩個半球形 區(qū)域1010a、 1010b相同的半徑，也可以形式為將兩個半球形區(qū)域 1010a、 1010b分開的圓柱形表面區(qū)域。作為選擇，兩個半球形區(qū)域 1010a、 1010b的相對尺寸可以改變。因此下游半球形區(qū)域1010b可以 制成小于上游半球形部分或相反。
圖14a到14c中示出的噴嘴裝置中的渦流室1110還是與上面關(guān)于 圖6a到6c描述的渦流室310相似，唯一的不同在于本實施例中的室 1110具有圍繞較小的上游半球形表面區(qū)域1110b的環(huán)形截面表面區(qū)域 1110d。環(huán)形截面表面區(qū)域朝著室的上游端敞開，入口 1112、 1114引 導(dǎo)流體沿非切向從室的上游端進(jìn)入室，這樣流體流與環(huán)形截面表面區(qū) 域1110d的凹形表面接觸并發(fā)生繞室轉(zhuǎn)動或旋轉(zhuǎn)。環(huán)形截面1110d包 括具有通常在橫截面上為U形的環(huán)形區(qū)域并圍繞較小的下游半球形區(qū) 域。
應(yīng)當(dāng)理解在圖6到14中示出的實施例只是圓頂形表面區(qū)域如何結(jié) 合到噴嘴裝置的渦流室中的例子。示出的各種實施例可以以多種方式 修改。例如，示出的任何實施例可以設(shè)置一個或多個入口，這些入口 可以是標(biāo)準(zhǔn)的切向入口、反切向入口或非切向入口。另外，示出的任 何渦流室可以具有多于一個的出口孔。
應(yīng)當(dāng)理解雖然表面被描述為部分球形、半球形或球形，這并不是 必需的，表面優(yōu)選為球形或部分球形，只要其促使流體繞室旋轉(zhuǎn)或轉(zhuǎn) 動。
在試驗中，具有在室的縱向和側(cè)向上彎曲的圓頂形表面區(qū)域的渦 流室，顯示出產(chǎn)生改進(jìn)的噴劑性能，與相當(dāng)?shù)膫鹘y(tǒng)渦流室相比，在相 似的操作條件下具有完整的圓錐形和更精細(xì)的液滴。
已經(jīng)發(fā)現(xiàn)按照這里所描述的任一實施例的室可以有利地制成為比 傳統(tǒng)渦流室更大。已知的渦流室通常在直徑為lmm到2mm的區(qū)域， 而已經(jīng)發(fā)現(xiàn)按照本發(fā)明的室在尺寸上可以有效地為直徑或?qū)挾冗_(dá)到 6mm。特別是，根據(jù)本發(fā)明的室直徑/寬度為3mm-5mm,特別為4mm， 已被發(fā)現(xiàn)可產(chǎn)生有利的結(jié)果。該室可以為任何合適的長度，通?？梢?為0.3mm到10mm內(nèi)的任意值。所期望的是，在大多數(shù)的應(yīng)用中室具 有0.5mm到3mm的長度。具有反切向入口的室可以較短，具有0.5mm 到4mm的長度，優(yōu)選為具有0.5mm到1.5mm的長度。
按照本發(fā)明形成噴嘴的一部分的渦流室不依賴于在產(chǎn)生漩渦的液 體中部的空心形成。這意味著渦流室無需只鄰近噴嘴裝置的最終噴劑 孔使用，而是可以使用在最終噴劑孔的上游，甚至還可以與至少另一 個渦流室串聯(lián)使用，該另一個渦流室可以是按照本發(fā)明其它方面的傳 統(tǒng)渦流室。在一種有利的配置中，兩個渦流室串聯(lián)配置，在它們之間 的流動路徑上設(shè)置一個膨脹室。
渦流室布置在鄰近最終出口或噴劑孔處，按照本發(fā)明的噴嘴將產(chǎn) 生完整的圓錐形噴劑形式，而不是中空的圓錐形，甚至在寬的噴劑圓 錐形角度時亦如此。與具有相當(dāng)?shù)膫鹘y(tǒng)渦流的噴嘴相比，該噴嘴還產(chǎn) 生具有更小液滴尺寸和更窄液滴尺寸分布的噴劑。所產(chǎn)生的噴劑具有 拋物線形的形式，具有比相當(dāng)?shù)膫鹘y(tǒng)渦流更高的軸向速度分量。其結(jié) 果是，按照本發(fā)明的噴嘴所產(chǎn)生的噴劑具有更長的穿透距離，平均液 滴尺寸隨到出口孔的距離增加的速度較傳統(tǒng)渦流低。
按照本發(fā)明的噴嘴裝置可以使用在多種應(yīng)用中，包括噴霧器或手 動泵分配器，以及大量工業(yè)應(yīng)用中，包括噴霧嘴和用于發(fā)動機的燃油
噴射系統(tǒng)等等。按照本發(fā)明的噴嘴裝置適于使用在0.5bar到250bar 或更高的操作壓力的情況下，適于具有任何粘度的流體，包括溶液。
在上面描述的優(yōu)選實施例中，噴嘴裝置由聚合物材料通過注射成 型技術(shù)制成，這特別適合于以低成本進(jìn)行大量生產(chǎn)。然而，應(yīng)當(dāng)理解'
通常噴嘴包括一個主體，該主體具有相互配合在一起以限定渦流室的 兩部分。該兩部分中的每一個可以具有與另一部分上相應(yīng)的鄰接表面 配合的鄰接表面?？梢栽谥辽僖粋€鄰接表面上形成一系列的溝槽和/ 或凹槽以便當(dāng)兩部分裝配在一起時限定渦流室。通常，相應(yīng)的溝槽和/ 或凹槽將在兩個部分的鄰接表面上形成，當(dāng)兩部分裝配在一起時在它 們之間限定渦流室。
盡管關(guān)于被認(rèn)為是當(dāng)前最實用和優(yōu)選的實施例對本發(fā)明進(jìn)行了描 述，應(yīng)當(dāng)理解本發(fā)明不限于所披露的實施例，而是希望包含包括在本 發(fā)明范圍內(nèi)的各種修改和等同結(jié)構(gòu)。
權(quán)利要求
1.一種噴嘴裝置，其包括渦流室，該渦流室具有至少一個彎曲表面區(qū)域，至少一個在該室的下游端的出口孔以及至少一個流體入口，流體可以通過該出口孔離開室，所述至少一個入口構(gòu)造為引導(dǎo)流體沿一路徑非切向地進(jìn)入室，該路徑在接觸到與入口相對的室表面區(qū)域之前從入口延伸穿過該室的至少一部分，該裝置在使用中，使進(jìn)入該室的流體在通過該至少一個出口孔離開該室之前在室內(nèi)旋轉(zhuǎn)。
2. 如權(quán)利要求l中所述的噴嘴裝置，其中有兩個或多個入口構(gòu)造 為引導(dǎo)流體非切向地進(jìn)入室中緊鄰相應(yīng)入口的室表面。
3. 如權(quán)利要求2中所述的噴嘴裝置，其中兩個或多個入口中的至 少兩個入口構(gòu)造為引導(dǎo)流體沿在所述室內(nèi)不相交的路徑進(jìn)入室。
4. 如權(quán)利要求2或3中所述的噴嘴，其中兩個或多個入口中的至 少兩個入口構(gòu)造為引導(dǎo)流體沿大致上平行的路徑進(jìn)入室。
5. 如權(quán)利要求2到4中任一項中所述的噴嘴，其中所述兩個或多 個入口中的至少一個入口具有比所述兩個或多個入口中的至少另一個 入口更大的橫截面積。
6. 如上述權(quán)利要求中任一項中所述的噴嘴，其中至少一個非切向 入口構(gòu)造為在使用中，使得流體被引導(dǎo)至彎曲的室表面區(qū)域。
7. 如權(quán)利要求6中所述的噴嘴，其中所述室具有圓柱形表面部分， 該至少一個入口構(gòu)造為引導(dǎo)流體至該圓柱形表面部分。
8. 如上述權(quán)利要求中任一項中所述的噴嘴，其中有兩個或多個入 口設(shè)置在大致垂直于室的縱軸的共同平面上。
9. 如權(quán)利要求2或當(dāng)從屬于權(quán)利要求2時權(quán)利要求3到8中任一 項所述的噴嘴，其中所述兩個或多個入口中的兩個入口構(gòu)造為引導(dǎo)流 體從相對的兩側(cè)進(jìn)入所述室。
10. 如權(quán)利要求2或當(dāng)從屬于權(quán)利要求2時權(quán)利要求3到8中任 一項中所述的噴嘴，其中所述兩個或多個入口中的兩個入口構(gòu)造為引 導(dǎo)流體從相同側(cè)進(jìn)入所述室。
11. 如權(quán)利要求8到10中任一項中所述的噴嘴，其中在室的上游 端有至少一個另外的入口。
12. 如上述權(quán)利要求中任一項中所述的噴嘴，其中至少部分室表 面在室的側(cè)向和縱向上都是彎曲的。
13. 如權(quán)利要求ll中所述的噴嘴，其中至少部分室表面通常為球 形或部分球形。
14. 一種噴嘴裝置，其包括渦流室，該渦流室在室的下游端具有 至少一個出口孔以及至少一個流體入口 ，流體可以通過該出口孔離開 室，其中至少部分室表面在室的側(cè)向和縱向上是彎曲的。
15. 如權(quán)利要求14中所述的噴嘴，其中室表面包括至少一個大體 為部分球形的區(qū)域。
16. 如權(quán)利要求14中所述的噴嘴，其中至少室的上游部分包括通 常為部分球形的表面區(qū)域，其中通常部分球形的表面區(qū)域的極軸大致上與室的縱軸對準(zhǔn)。
17. 如權(quán)利要求16中所述的噴嘴，其中所述室進(jìn)一步包括下游部 分，該下游部分具有通常為部分球形的表面區(qū)域。
18. 如權(quán)利要求17中所述的噴嘴，其中室通常為球形。
19. 如權(quán)利要求17中所述的噴嘴，其中上游部分的通常為部分球 形的表面區(qū)域具有比下游部分通常為部分球形的表面區(qū)域大的半徑。
20. 如權(quán)利要求16或19中所述的噴嘴，其中上游部分的通常為 部分球形的表面區(qū)域通過室的中間部分與下游部分的通常為部分球形 的表面區(qū)域分開。
21. 如權(quán)利要求16中所述的噴嘴，其中室包括具有通常為圓錐形 表面區(qū)域的下游部分。
22. 如權(quán)利要求14到20中任一項中所述的噴嘴，其中室具有多 個出口孑L，每個出口孔位于室的通常為部分球形的單獨的表面區(qū)域內(nèi)。
23. 如權(quán)利要求22中所述的噴嘴，其中每個出口孔布置在其相應(yīng) 的部分球形的表面區(qū)域的極軸上。
24. 如權(quán)利要求14到22中任一項中所述的噴嘴，其中室包括形
25. 如權(quán)利要求23中所述的噴嘴，其中環(huán)形截面表面區(qū)域圍繞該 至少一個出口孔位于室的下游部分。
26. 如權(quán)利要求23到25中任一項中所述的噴嘴，其中室的下游 部分進(jìn)一步包括通常為部分球形的表面區(qū)域，該通常為部分球形的表 面區(qū)域位于環(huán)形截面表面區(qū)域內(nèi)。
27. 如權(quán)利要求14到16中任一項中所述的噴嘴，其中至少一個 入口設(shè)置在室的上游端區(qū)域。
28. 如權(quán)利要求27中所述的噴嘴，其中至少一個入口構(gòu)造為引導(dǎo) 流體沿一路徑進(jìn)入室，該路徑沿室的縱向延伸。
29. 如權(quán)利要求27或28中所述的噴嘴，其中在室的上游端區(qū)域 設(shè)置兩個或多個入口。
30. 如權(quán)利要求27到29中任一項中所述的噴嘴，其中該入口或 每個入口構(gòu)造為引導(dǎo)流體非切向地進(jìn)入室至緊鄰入口的室表面，該配 置使得進(jìn)入室的流體在與室的表面接觸之前被從入口引導(dǎo)穿過室的至 少一部分。
31. 如權(quán)利要求29或30中所述的噴嘴，其中室具有兩個或多個 入口，該室被這樣構(gòu)造，即使得從所述入口中的至少兩個來的流體流 在通常相反的圓周方向上在室內(nèi)旋轉(zhuǎn)。
32. 如上述任一項權(quán)利要求中所述的噴嘴，其中有四個或多個入。
33. —種噴嘴裝置，其包括一個渦流室，該渦流室具有至少一個在該室的下游端的出口孔以及至少兩個流體入口，流體可以通過該出 口孔離開室，所述至少兩個入口中的每一個都構(gòu)造為引導(dǎo)流體沿切向 至緊鄰相應(yīng)入口的室表面，其中至少兩個入口這樣配置，即在使用中 它們引導(dǎo)流體流進(jìn)入室，從而使流體流在大致相反的室圓周方向上轉(zhuǎn)動。
34. 如權(quán)利要求33中所述的噴嘴，其中所述至少兩個入口從相同 側(cè)進(jìn)入室。
35. 如權(quán)利要求33或34中所述的噴嘴，其中所述至少兩個入口 設(shè)置在垂直于室的縱軸的共同平面上。
36. 如權(quán)利要求33到35中任一項中所述的噴嘴，其中所述入口 中的至少一個入口具有比入口中的至少另一個大的橫截面積。
37. 如權(quán)利要求33到36中任一項中所述的噴嘴，其中有兩個以 上的入口，入口中的至少兩個的配置使得在使用中，它們引導(dǎo)流體流 進(jìn)入室，從而使流體流在大致相反的室圓周方向上轉(zhuǎn)動。
38. 如權(quán)利要求37中所述的噴嘴，其中多個入口設(shè)置在垂直于室 的縱軸的多個不同平面上，以便沿室隔開。
39. 如權(quán)利要求38中所述的噴嘴，其中在每個不同平面上的至少 兩個入口的配置使得在使用中，它們引導(dǎo)流體流進(jìn)入室，從而導(dǎo)致流 體流在大致相反的室圓周方向上轉(zhuǎn)動。
40. —種噴嘴裝置，其包括一個渦流室，該渦流室具有至少一個 在室的下游端的出口孔以及至少兩個流體入口 ，流體通過該出口孔離 開室，其中流體入口中的至少一個具有比流體入口中的至少另一個大 的橫截面積。
41. 如權(quán)利要求40和權(quán)利要求1到39中任一項中所述的噴嘴裝置。
42. 如上述權(quán)利要求中任一項中所述的噴嘴裝置，其中渦流室具 有設(shè)置在室的下游端中部的單個出口孔。
43. 如權(quán)利要求1到41中任一項中所述的噴嘴裝置，其中渦流室具有多個出口孔。
44. 如上述權(quán)利要求中任一項中所述的噴嘴裝置，其中渦流室的 該出口孔、或者每個出口孔為噴嘴裝置的最終噴劑孔。
45. 如上述權(quán)利要求中任一項中所述的噴嘴裝置，其中渦流室的 該出口孔、或者每個出口孔引導(dǎo)流體離開室進(jìn)入噴嘴裝置的延續(xù)部分， 該延續(xù)部分位于噴嘴裝置的一個或多個最終出口孔的上游。
46. 如上述權(quán)利要求中任一項中所述的噴嘴裝置，其中渦流室具 有一個以上的入口 ，所有入口配置為從流體源輸送相同的溶液進(jìn)入室。
47. 如權(quán)利要求l到45中任一項中所述的噴嘴裝置，其中渦流室 具有一個以上的入口 ，這些入口中的至少一個配置為從第一流體源輸送溶液進(jìn)入室，至少另一個入口配置為從第二流體源輸送不同的流體 進(jìn)入室。
48. 如權(quán)利要求47中所述的噴嘴裝置，其中不同的流體是氣體。
49. 如上述權(quán)利要求中任一項中所述的噴嘴裝置，該噴嘴裝置包 括相互并聯(lián)配置的兩個或多個渦流室。
50. 如上述權(quán)利要求中任一項中所述的噴嘴裝置，該噴嘴裝置包 括串聯(lián)配置的兩個或多個渦流室。
51. 如權(quán)利要求50中所述的噴嘴裝置，其包括和一個膨脹室串聯(lián) 的兩個渦流室，該膨脹室配置在兩個渦流室之間的流動路徑中。
52. 如上述權(quán)利要求中任一項中所述的噴嘴裝置，其中通過該出 口孔或每個出口孔離開室的流體形成霧化噴劑，該霧化噴劑具有不帶 中部空心的完整圓錐形。
53. —種大致上如此前參照各附圖所描述并在各附圖中圖示的噴 嘴裝置。
54. —種分配器，其包括一個按照上述權(quán)利要求中任一項的噴嘴 裝置。
全文摘要
一種具有一個渦流室(310)的噴嘴裝置，該渦流室(310)具有至少一個流體入口(312、314)。該入口構(gòu)造為引導(dǎo)流體沿非切向進(jìn)入室至室表面。其中有兩個或多個入口，入口中的一個具有比另一個大的橫截面積。還披露的是具有渦流室的噴嘴裝置，其中入口配置為反切向，噴嘴裝置具有渦流室，該渦流室的表面在室的縱向和側(cè)向上都彎曲。
文檔編號B05B1/34GK101098758SQ200580046134
公開日2008年1月2日 申請日期2005年11月17日 優(yōu)先權(quán)日2004年12月1日
發(fā)明者H·阿布杜爾雅利爾 申請人:英克羅有限公司