專利名稱：用于粘著到物品上的粘著體的制作方法
用于粘著到物品上的粘著體
本發(fā)明涉及用于粘合到物品(object)上的粘著體(sticker)，其具有頂面和 底面，具有設(shè)置在頂面上的并具有用于存儲光學(xué)結(jié)構(gòu)體(optical stmcture)的 區(qū)域的基底，具有設(shè)置在該底面上的接觸面，且具有連接至該接觸面、并 且意圖將該粘著體粘合至該物品的粘結(jié)工具(bonding means)。
例如，這種粘著體用于識別物品例如包裝盒。在它最簡單的形式中， 這種情況下的粘著體可為二維的和平面的，從而能夠以標(biāo)簽的方式將它通 過形成接觸面的底面粘合到物品上。
為了粘合該粘著體，提供了一種連接至該接觸面的粘結(jié)工具。所述粘 結(jié)工具可為例如以粘合劑組合物或粘合劑片材的形式施用至該接觸面的壓 敏粘合劑(PSA)。為了將該粘著體粘合到物品上，將粘著體通過它的帶有粘 結(jié)工具的接觸面壓到物品上。
在這種粘著體中，在粘著體的與底面相對的頂面上，通常設(shè)置有具有 用于存儲光學(xué)結(jié)構(gòu)體的區(qū)域的基底。在最簡單的情況下，基底的頂面本身 可形成該粘著體的頂面，并且該基底的底面可形成接觸面。在這種情況下， 將粘結(jié)工具直接應(yīng)用于基底的底面。或者，也可通過例如保護膜將基底的 頂面和/或底面加襯里。而且，這種類型的基底通常具有吸收層和/或鏡面層 (mirror layer)。
可將信息以光學(xué)結(jié)構(gòu)體的形式存儲在該粘著體的基底中。在該基底中， 可存儲涉及例如要識別的物品的來源、性質(zhì)和/或生產(chǎn)的信息。所討論的信 息也可以是為了保證物品不是贗品的目的而賦予個性的信息(individualizing information)。該信息通常可為光學(xué)寫入和光學(xué)讀取的。在這種情況下，可
種可能性，優(yōu)選通過在基底中寫入點陣而產(chǎn)生計算機產(chǎn)生的全息圖 (hologram)。這可通過例如使用激光來完成。
在現(xiàn)有技術(shù)中，所述基底常常由聚合物膜和吸收層和/或鏡面層組成。 與用于該基底的材料相關(guān)的基底柔性帶來(harbor) 了所述粘合劑粘合至不均 勻基底時的困難。這是因為在那種情況下，當(dāng)它粘合到基底時，所述基底-以及與它一起的光學(xué)結(jié)構(gòu)體的排列同樣地呈現(xiàn)與基底的形式相貼附(conformation)的不均勻的形式。因為上述光學(xué)結(jié)構(gòu)體是方向依賴的衍射光 柵(diffraction grating),并且使由該光柵衍射的光線產(chǎn)生干涉，從而從該光 學(xué)結(jié)構(gòu)體讀取信息，所以信息再現(xiàn)的質(zhì)量非常嚴(yán)重地依賴于該結(jié)構(gòu)本身的 變形。當(dāng)將該粘著體粘合到例如玻璃時，該結(jié)構(gòu)中的不均勻性的產(chǎn)生基本上 都僅僅是材料或所使用的粘結(jié)工具本身的不均一性(inhomogeneity)的結(jié)果。另一方面，如果所述粘著體粘結(jié)至粗糙或柔軟的表面，例如由紙板 (cardboard)制成的包裝盒的表面常常就是這種情況，那么所述粘著體可能至 少部分地采取偏離平面的表面形式，由此導(dǎo)致非平面的光學(xué)結(jié)構(gòu)體。這種 情況的可能結(jié)果是不能再可靠地讀取光學(xué)信息。在這方面，該區(qū)域中僅 200nm的高度差的不均勻性是至關(guān)重要的。因此本發(fā)明所面臨的技術(shù)問題是提供一種意圖粘合至物品的粘著體， 其保證以良好的質(zhì)量再現(xiàn)包含在光學(xué)結(jié)構(gòu)體中的信息，甚至在產(chǎn)生粘結(jié)的 表面的不均勻性情況下也是這樣。根據(jù)本發(fā)明，對于上述類型的粘著體，通過在粘合狀態(tài)時，使基底的 至少 一個分區(qū)域(subregion)與物品力分離(force-decoupled)而解決了該問題。本發(fā)明的基本觀念在于使粘著體基底與物品至少部分地分離。本申請 中的力分離是指在力分離的區(qū)域內(nèi)物品的任何不均勻性都不能傳送至該粘 著體?？赡軙⑽锲返牟痪鶆蛐詡魉椭猎撜持w的力不能作用于力分離區(qū) 域，或者說在該區(qū)域內(nèi)這些力的作用不足以導(dǎo)致任何不均勻性轉(zhuǎn)移到粘著 體，更具體地轉(zhuǎn)移到該基底，所述不均勻性的轉(zhuǎn)移會有害地影響該信息的 易讀性。因此所述力分離保證了即使在不均勻物品的情況下，在任何時候 存儲在基底中的信息的易讀性都是可靠的。當(dāng)然，在本申請中，可將整個 基底和更具體地整個粘著體與物品力分離。因此該基底的力分離區(qū)域，甚至是在粘著體已經(jīng)粘合到物品上之后， 也自由地保持它最初的形式，通常為基本上平面的形式。在該區(qū)域內(nèi)，粘 著體沒有與基底的任何不均勻性相貼附，尤其是甚至小的不均勻性也沒有， 從而即使在不均勻的基底的情況下，也可能可靠地再現(xiàn)基底中存儲的信息。 更具體地，在這種情況下對易讀性沒有有害影響，所述有害影響是基底偏 離平面形式，因此存儲在其中的光學(xué)結(jié)構(gòu)體偏離平面形式的結(jié)果。甚至是在粘合該粘著體之前，也可將該光學(xué)結(jié)構(gòu)體更具體地存儲在基 底中。但是也可想到，直到在該粘著體已經(jīng)粘合之后才在基底中存儲光學(xué) 結(jié)構(gòu)體。在它的最簡單的形式中，該粘著體可以是二維的并且是基本上平 面的設(shè)計。例如，也可能的是該基底的頂面本身形成粘著體的頂面。同才羊 可以想到的是，該基底的底面本身形成接觸面。
為了確保在基底中存儲光學(xué)結(jié)構(gòu)體的整個區(qū)域中信息的最優(yōu)易讀性， 根據(jù)一種優(yōu)選的實施方式，為了預(yù)作準(zhǔn)備，可至少帶有用于存儲光學(xué)結(jié)構(gòu) 體的區(qū)域的基底的分區(qū)域與物品力分離。因此在這種情況下，將存儲光學(xué) 結(jié)構(gòu)體的區(qū)域力分離，結(jié)果在存儲信息的整個區(qū)域中都沒有與該物品不均 勻性的不利的貼附。
根據(jù)一種實施方式，通過在粘合狀態(tài)時，用粘結(jié)工具將僅接觸面的分 區(qū)域直接連接到物品，而以特別簡單的方式實現(xiàn)了該基底的分區(qū)域的力分 離。因此，接觸面僅部分粘結(jié)至物品。在沒有通過粘結(jié)工具直接連接至物
品的區(qū)域中形成了 "不含組合物的區(qū)域(composition-free zone)"。將該基底的 分配為不含組合物的區(qū)域的區(qū)域力分離，并且因此在該區(qū)域中，能使粘著 體不產(chǎn)生與該物品的不均勻性有害的貼附。
為了確保粘著體與物品的連接是牢固的，并且即使在使用該物品的過 程中也不分開，根據(jù)一種優(yōu)選的實施方式，為了預(yù)作準(zhǔn)備，在粘合狀態(tài)時， 接觸面的至少 一個邊緣區(qū)域通過粘結(jié)工具直接連接至物品。這種實施方式 確保粘著體不會通過邊緣從物品意外地脫離。在這種情況下，更具體地， 對于特定的牢固連接，可通過粘結(jié)工具將接觸面的兩個相對的邊緣區(qū)域， 或者所有的邊緣區(qū)域直接連接到物品。
為了確保在基底中用于存儲光學(xué)結(jié)構(gòu)體的整個區(qū)域的信息最優(yōu)的易讀 性，根據(jù)一種特別優(yōu)選的實施方式，為了預(yù)作準(zhǔn)備，在粘合狀態(tài)時，接觸 面的與用于存儲光學(xué)結(jié)構(gòu)體的區(qū)域相對的區(qū)域不直接連接至物品。因此， 在平面粘著體的情況下，接觸面的位于用于存儲光學(xué)結(jié)構(gòu)體的區(qū)域之下的 區(qū)域不直接粘結(jié)至物品。因此保證對于整個用于存儲光學(xué)結(jié)構(gòu)體的區(qū)域， 沒有與基底的任何不均勻性的貼附。因此，可能以甚至更加可靠的方式獲 得光學(xué)結(jié)構(gòu)體的易讀性，甚至是在粘合到非平面基底的行為之后也是如此。
為了安全地確保整個光學(xué)結(jié)構(gòu)體在任何時間的可讀性，接觸面的與用 于存儲光學(xué)結(jié)構(gòu)體的區(qū)域相對的、在粘合狀態(tài)時不直接連接至物品的區(qū)域，可具有與用于存儲光學(xué)結(jié)構(gòu)體的區(qū)域相同的尺寸。這確保用于存儲光學(xué)結(jié)
地影響存儲在該區(qū)域中的光學(xué)結(jié)構(gòu)體的易讀性。
為了獲得甚至進一步增加的安全，當(dāng)讀取該光學(xué)結(jié)構(gòu)體時，如果接觸
至該物品)，大于用于存儲光學(xué)結(jié)構(gòu)體的區(qū)域-換句話說，更具體地，其覆蓋 所述區(qū)域，可能更加有利。在這種情況下，不僅接觸面的與用于存儲光學(xué) 結(jié)構(gòu)體的區(qū)域相對的區(qū)域不直接粘結(jié)至物品，而且，接觸面的附加區(qū)域， 更具體地是接觸面的鄰近區(qū)域也不直接粘結(jié)至物品。這防止了由于與物品 直接接觸的區(qū)域中產(chǎn)生的任何貼附(即基底與鄰近基底區(qū)域的物品不均勻性 的貼附)的傳纟番，可能對該光學(xué)結(jié)構(gòu)體的易讀性產(chǎn)生有害影響的可能性。為 此目的，應(yīng)該將接觸面的附加的、鄰近的、未粘結(jié)的區(qū)域更具體地置于4妄 觸面的直接粘結(jié)區(qū)域和與用于存儲光學(xué)結(jié)構(gòu)體的區(qū)域相對的區(qū)域之間。
以在實踐中特別簡單的方式，能夠?qū)崿F(xiàn)接觸面的部分粘結(jié)，條件是該 粘結(jié)工具僅覆蓋部分接觸面。但是，也可想到該粘結(jié)工具完全覆蓋接觸面。
更加尤其是，當(dāng)該粘著體例如早在它的生產(chǎn)過程中就借助于它底面上的粘 結(jié)工具設(shè)置在在全部區(qū)域上，并且根據(jù)本發(fā)明將該粘著體接著進行轉(zhuǎn)換時， 可能是這樣。
為了獲得粘著體的接觸面與基底的部分粘結(jié)，實踐中特別簡單的方式 是，可將部分粘結(jié)工具覆蓋上無粘性材料。這種襯里還導(dǎo)致基底變硬，由 此進一步減少將物品不均勻性傳遞到基底上的危險。這種類型的襯里材料 可為例如如下的膜，該膜至少一側(cè)上是無粘性的，將該膜在期望粘著體的 接觸面不與物品直接粘結(jié)的點施用至粘結(jié)工具。當(dāng)接觸面彎曲被粘結(jié)工具 完全覆蓋時該實施方式是更加特別有利的。
也可以想到，粘結(jié)工具具有的表面特征(t叩ograph)使得在粘合狀態(tài)時僅 粘著體的接觸面的分區(qū)域通過粘結(jié)工具直接連接到物品。根據(jù)這種實施方 式，因此連接至接觸面的粘結(jié)工具具有當(dāng)粘著體粘合時導(dǎo)致粘著體的接觸 面和物品之間的直接接觸的隆起或凹陷，所述隆起和凹陷僅在特定的區(qū)域 開有。因此，僅在這些區(qū)域才產(chǎn)生通過粘結(jié)工具的直接連接?？赏ㄟ^例如 通過印刷方法(例如，苯胺印刷(flexographic printing))施用該粘結(jié)工具來產(chǎn)生 所述表面特征。對于該基底，已經(jīng)證明至少25pm的厚度是合適的，優(yōu)選為 25^m~l80^n。在這種情況下，原則上可能的是，對于基底和/或?qū)τ谡持w，
更具體地，在通過僅接觸面由粘結(jié)工具直接粘結(jié)至物品的分區(qū)域而獲 得基底的力分離的情況下，已經(jīng)證明25pm~75 pm的基底厚度是特別合適的。 在這種情況下，簡單地通過粘著體的僅部分粘結(jié)獲得足夠的力分離，結(jié)果 25 pm 75 pm的基底厚度作為可能支持該力分離的尺寸是足夠的。
根據(jù)一種進一步的實施方式，通過厚度為大于50pm，優(yōu)選為 75pm 18(^m的基底獲得該基底的至少一個分區(qū)域的力分離。在該情況下， 與基底增加的厚度相關(guān)的實際增加的硬度足以獲得阻止粘著體與物品不均 勻性相貼附的力分離。因此，已經(jīng)認(rèn)識到，在給出的粘著體厚度之上，可 能的是，粘著體的柔性減少至這種程度，使得不均勻性被大大地補償并且 確保了信息(例如全息信息)的正確再現(xiàn)。更具體地，增加的基底硬度也使傳 播到鄰近的基底區(qū)域中的任何基底不均勻性減少。在這種情況下，通過僅 接觸面的部分粘結(jié)產(chǎn)生的附加力分離不再是必要的。但是當(dāng)然，為了最優(yōu) 化力分離而組合兩種手段也是可能的。
根據(jù)一種可供選擇的或者附加的實施方式，該力分離通過由基底和厚 度大于75pm的粘結(jié)工具形成的組件實現(xiàn)。在這種情況下，該組件的厚度減 少粘著體的柔性，其方式確保了力分離足以防止與物品不均勻性有害的貼
附。同樣，在這種情況下，通過接觸面的僅部分粘結(jié)獲得的額外的力分離 是不必要的。但是盡管如此，為了優(yōu)化該力分離這當(dāng)然也是另外可能的。
根據(jù)進一步的教導(dǎo)，該基底可具有多層構(gòu)造。通過合適的層的選擇， 可能進一步提高基底的硬度，從而也可以以這種方式實現(xiàn)期望的力分離。 更具體地，可加入另外的僅用于增加硬度的合適材料的層。但是原則上， 也可以想到，為了存儲另外的信息的目的而提供另外的層。更具體地可通 過粘結(jié)工具將基底的各個層彼此連接。
在多層構(gòu)造的情況下，該基底可更具體地具有厚度為至少25pm,優(yōu)選 為25fim 180pm的載體層，以及厚度大于25pm,更具體地為50(im 180(im的 附加載體。這種類型的多層構(gòu)造容許該粘著體達到這樣一種硬度，其降低 與基底中不均勻性的貼附，這是力分離的結(jié)果。更具體地，該載體層可在 這種情況下設(shè)計為載體膜(carrier film)的形式。該載體層可由適合于光學(xué)結(jié)構(gòu)體的寫入的材料制成，而該附加載體可具有合適的彈性，以確保粘著體 具有足夠的硬度。以這種方式，該多層構(gòu)造導(dǎo)致與物品不均勻性相貼附的 進一步減少。
在這種多層構(gòu)造的情況下，該載體層的厚度可為至少25(im,優(yōu)選 25jLim 75|im，還優(yōu)選為36jnm 75)Lim。更加尤其是當(dāng)通過接觸面與物品的僅 部分粘結(jié)獲得力分離時，已經(jīng)證明載體層的這種厚度值是合適的。
在多層構(gòu)造的情況下，載體層的厚度也可為大于50nm，優(yōu)選 75jum 18(Vm。這種構(gòu)造，以及更加具體地，大于5(Vm,優(yōu)選75(im 180jim 的指定層厚度的載體層，和大于25^m，更具體地50(im 180^im的指定層厚度 的另外的載體的組合，導(dǎo)致硬度值，并且因此導(dǎo)致基底的力分離，所述力 分離確保該基底以及，因此確保存儲在其中的光學(xué)結(jié)構(gòu)體，連續(xù)地基本上 保持它們的典型平面形式，甚至是在粘合到不均勻的物品上之后也是這樣。 以這種方式獲得的力分離足以安全地確保存儲信息的讀取，甚至是在非平 面基底的情況下也是如此。另外的措施，例如粘著體與物品的僅部分粘結(jié)， 在此處不是必要的。但是，為了優(yōu)化力分離，當(dāng)然能夠另外使用這些措施。
在進一步優(yōu)選的方式中，粘結(jié)工具的厚度選擇為大于25pm，厚度更具 體地為30 90)im。以這種方式，也可能通過調(diào)節(jié)粘合劑的厚度而調(diào)節(jié)粘著體 的硬度。
此外，可調(diào)節(jié)該粘結(jié)工具的硬度和/或它的流變能力，使得該粘結(jié)工具 能夠補償粗糙基底和平面粘著體之間的距離波動，而不出現(xiàn)脫離的情況。
該基底優(yōu)選具有聚合物膜，更具體地雙軸取向的聚合物膜。能夠有效 地制備這種膜，并且其能夠容易地粘合到物品。而且，已知可特別容易地 通過如下方法將信息寫入雙軸取向的聚合物膜例如以計算機產(chǎn)生的全息 圖的形式通過局部抵償聚合物膜的取向，借助于能量的局部引入，例如通 過激光束，由此在該膜中產(chǎn)生可光學(xué)讀取的局部改變。
此外，和在常規(guī)的方式中，優(yōu)選地，該基底另外具有吸收層和/或鏡面 層，例如鋁層。
在多層構(gòu)造的情況下，用于該基底，更具體地用于該載體層的合適材 料，包括例如聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚丙烯(PP)或其它材料。
可將該光學(xué)結(jié)構(gòu)體更具體地設(shè)計為衍射結(jié)構(gòu)。借助于這種結(jié)構(gòu)，可能 在小的空間中存儲大量的信息。此處優(yōu)選的是，將該光學(xué)結(jié)構(gòu)體設(shè)計為全息結(jié)構(gòu)，更具體地設(shè)計為計算機產(chǎn)生的全息圖。除了大的信息存儲容量之 外，還能夠通過例如激光迅速地寫入和讀取計算機產(chǎn)生的全息圖。
在特別簡單的方式中，可能使用該粘著體將寫入的信息與要識別的物 品單獨匹配。
為了分析上述這種材料的硬度，根據(jù)DIN53448測定各種材料的拉伸沖 擊強度。獲得的測量值如下
厚度為50lim的標(biāo)準(zhǔn)PET薄膜的拉伸沖擊強度為大于1885 KJ/m2。
在上述根據(jù)本發(fā)明的實施方式之一中所用的PET薄膜的厚度為75pm的 情況下，測得的拉伸沖擊強度為大于2400 KJ/m2。
在5 Opm厚的標(biāo)準(zhǔn)PET薄膜和厚度為25 (im的粘結(jié)工具的組合的情況下， 測得的拉伸沖擊強度為大于2965 KJ/m2。測量的其它材料，厚度為96jim、 125pm和180iim的PET薄膜，以及由厚度為50jim厚的PET薄膜、25)im厚的粘 結(jié)工具和附加載體組成的材料各自的拉伸沖擊強度都大于5200KJ/m2。因此 使用的材料的硬度適合用于通過力分離實現(xiàn)上述改善從光學(xué)結(jié)構(gòu)體讀取信 息的效果。
參考以下進一 步的示例性實施方式更加詳細地說明本發(fā)明。在圖示的 橫截面圖中，
圖l是本發(fā)明第一實施方式的粘著體， 圖2是本發(fā)明第二實施方式的粘著體， 圖3是本發(fā)明第三實施方式的粘著體， 圖4是本發(fā)明第四實施方式的粘著體， 圖5是本發(fā)明第五實施方式的粘著體，和 圖6是本發(fā)明第六實施方式的粘著體。
圖l示出了具有頂面la和底面lb的粘著體Al。粘著體A1具有支撐載體層 的基底2，該基底具有設(shè)置在基底2的底面上并且意圖存儲光學(xué)結(jié)構(gòu)體，更 具體地存儲計算機產(chǎn)生的全息圖的區(qū)域3。在常規(guī)的方式中，基底2還具有 吸收層和/或鏡面層，其在圖中未示出。
在本實施例中，基底2的載體層由雙軸取向的聚合物膜，更具體地由聚 對苯二曱酸乙二醇酯(PET)組成?；?具有平面的形式，并且在俯視圖中是 基本上方形的。在圖l中所示的實施例中，基底2具有20 mn^的面積(square area)和50pm的厚度?；?的表面本身形成粘著體A1的頂面la。用于存儲光學(xué)結(jié)構(gòu)體的區(qū)域3以帶的形式在中心垂直于

圖1中圖樣的平 面延伸，穿過基底的整個長度。為了存儲光學(xué)結(jié)構(gòu)體，區(qū)域3的寬度比基底
2小，更具體地具有約2mm 5mm的寬度。不同大小的用于存儲光學(xué)結(jié)構(gòu)體 的區(qū)域3當(dāng)然也是可能的。
在圖1中所示的實施例中，基底2的底面本身形成用于施用物品(未示出) 的接觸面4。所述物品可為例如由紙板制成的包裝材料，更具體地例如香煙 包裝盒。
在基底2的下面，有覆蓋基底2的整個底面的一層粘結(jié)工具5，在本實施 例中為壓敏粘合劑組合物(P S A)。該示例性實施方式示出該層的厚度為 25jim。
設(shè)置在粘結(jié)工具層5的兩個長的相對的邊緣區(qū)域都是粘結(jié)工具帶6。所 述粘結(jié)工具帶6具有無粘性側(cè)6a和粘性側(cè)6b。用于該粘結(jié)工具帶的合適的材 料是例如可以以名稱"tesa-film"獲得的那種類型的粘合劑片材。粘結(jié)工具帶6 各自都通過它們的無粘性側(cè)6a施用至粘結(jié)工具層5，并以那種方式與它連 接。粘結(jié)工具帶6的粘合劑側(cè)6b沿粘著體Al向外指向下。在所示的實施例中， 該粘結(jié)工具帶6的寬度為5.0 mm， 厚度為58iim，并且垂直于圖樣的平面延伸， 即，與用于存儲光學(xué)結(jié)構(gòu)體的區(qū)域3平行，穿過基底2的整個長度。
在粘結(jié)工具帶6之間的中心延伸并且與其平行的是覆蓋帶(cover strip)7a,其為無粘性設(shè)計，并且它的一側(cè)連接到粘結(jié)工具層5。在該實施例 中，它的寬度為6.0mm,厚度為55pm,類似于帶6，也延伸穿過基底2的整 個長度。因此覆蓋帶7a在用于存儲光學(xué)結(jié)構(gòu)體的區(qū)域3的下面延伸，并且與 所述區(qū)域平行。在本實施例中，所述覆蓋帶7a由聚丙烯(PP)組成。在覆蓋帶 7a和粘結(jié)工具帶6之間都有2.0 mm的縫隙。
為了粘合粘著體Al,將它的底面lb壓到物品上。作為粘結(jié)工具層5和粘 結(jié)工具帶6的結(jié)果，施用到基底2的接觸面4的粘結(jié)工具具有了表面特征，這 意味著當(dāng)粘合粘著體A1時，僅接觸面4的分區(qū)域，即設(shè)置粘結(jié)工具帶6的區(qū) 域直接通過粘結(jié)工具連接至物品。在這種情況下，作為將柔性粘著體A1壓 到物品上的結(jié)果，覆蓋帶7a以隔板的方式防止粘結(jié)工具層5和物品之間在中 間區(qū)域上不需要的接觸，并且因此防止該區(qū)域的直接粘結(jié)。
因此粘合到物品的粘著體Al僅沿著粘結(jié)工具帶6直接連接到物品。位于 接觸面4的粘結(jié)工具帶6之間的區(qū)域(以及因此基底2的該區(qū)域)與物品力分離，并且因此該區(qū)域即使在粘合到非平面物品之后還自由地保持它最初的 平面形式。因此，基底與不均勻性的任何有害地影響光學(xué)結(jié)構(gòu)體易讀性的 貼附都不會在該區(qū)域發(fā)生。用于存儲光學(xué)結(jié)構(gòu)體的區(qū)域3的寬度在這種情況下設(shè)計為使得，在粘合 狀態(tài)時，與用于存儲光學(xué)結(jié)構(gòu)體的區(qū)域3相對的接觸面4的區(qū)域不通過粘結(jié) 工具直接連接至物品，并且因此，帶有用于存儲光學(xué)結(jié)構(gòu)體的區(qū)域3的基底2的該區(qū)域與物品力分離。因此確保了用于存儲光學(xué)結(jié)構(gòu)體的整個區(qū)域3的可靠的可讀性。此外，不通過粘結(jié)工具直接連接至物品的區(qū)域比與其相對的用于存儲光學(xué)結(jié)構(gòu)體的區(qū)域3寬。這確保了基底2中的不均勻性在延伸至 超過通過粘結(jié)工具帶6直接連接至物品區(qū)域的區(qū)域上、在用于存儲光學(xué)結(jié)構(gòu) 體的區(qū)域3的方向上的任何傳播，都對光學(xué)結(jié)構(gòu)體的易讀性不具有有害影 響。因此，甚至是當(dāng)粘著體A1粘合到非平面基底時，也確保基底2在接觸面 4的與物品不直接連接的區(qū)域上，以及更具體地在用于存儲光學(xué)結(jié)構(gòu)體的區(qū) 域3上，自由地保持平面形式。與基底的不均勻性的貼附都僅發(fā)生在基底2 的通過粘結(jié)工具帶6直接與物品連接的邊緣區(qū)域上。但是，由于這沒有影響用于存儲光學(xué)結(jié)構(gòu)體的區(qū)域3，所以安全地確保 了存儲的光學(xué)結(jié)構(gòu)體的可靠再現(xiàn)。此外，作為覆蓋帶7a的結(jié)果，基底獲得了增加的硬度。這防止了將可 能發(fā)生在粘結(jié)工具帶6的區(qū)域中的與不均勻性的貼附傳遞到基底的帶有用 于存儲光學(xué)結(jié)構(gòu)體的區(qū)域3的區(qū)域上。圖2示出了第二粘著體A2。在該圖中，與圖l中所示相同的數(shù)字標(biāo)號指 代相同的部件(item)。粘著體A2與圖1中所示的粘著體Al不同之處僅在于 該基底具有多層構(gòu)造。因此，圖2的基底具有膜形式的載體層8，其又具有 根據(jù)圖1的實施方式設(shè)計的用于存儲光學(xué)結(jié)構(gòu)體的區(qū)域3 。載體層8是平面的，在俯視圖中的面積為20mm2。在載體層8的下面有 同樣的、面積相同的、通過粘結(jié)工具層10完全連接至載體層8的平面附加載 體9。因此，在圖2中所示的粘著體A2的情況下，該基底具有載體層8和通過 粘結(jié)工具層10附接至載體層8的附加載體9。此外，又在常規(guī)的方式，該基 底具有吸收層和/或鏡面層，其在圖中未示出。在圖2中所示的實施例中，載 體層8的厚度為50iim,粘結(jié)工具層10的厚度為25pm,以及附加載體9的厚度為75|im。
載體層8也由雙軸取向的聚合物膜組成，更具體地由聚對苯二曱酸乙二 醇酯(PET)組成。本實施例中的附加載體9同樣由PET組成。
而圖2的載體層8形成粘著體A2的頂面，附加載體9的底面形成用于施用 至物品的接觸面ll,所述物品在圖中未示出。設(shè)置于附加載體9下面的是覆 蓋附加載體9的整個底面的一層粘結(jié)工具12,所述粘結(jié)工具又是例如壓敏粘 合劑組合物(PSA)。在該實施例中，粘結(jié)工具層12的厚度為25pm。
工具的表面特征，并且已經(jīng)參考圖l進行了說明。它們的實施方式與圖l的 相同，更具體地，它們的尺寸與圖l的尺寸相同。同樣地，以與對粘著體A1 所述相同的方式，將粘著體A2粘合到物品。這會產(chǎn)生已經(jīng)根據(jù)圖l闡明的優(yōu)點。
此外，已經(jīng)很明顯的是，圖2中所示的粘著體A2，因為它的多層構(gòu)造及 其相關(guān)的與圖1中所示的粘著體Al相比更大的厚度，所以具有增加的硬度。 這種硬度導(dǎo)致光學(xué)結(jié)構(gòu)體的可讀性進一步提高，這是因為基底與物品的不 均勻性的貼附甚至更低。
下面描述本發(fā)明粘著體的進一步的實施方式。在所有的圖中，相同的 數(shù)字標(biāo)號指代相同的部件。該實施方式通過每種情況下的多層基底而說明， 所述多層基底大體上如圖2中所示由載體層8、通過粘結(jié)工具10與它連接的 附加載體9和設(shè)置在底面上的粘結(jié)工具層12組成。由于其多層構(gòu)造，這種基 底有利地具有增加的硬度。但是，應(yīng)該注意的是以下事實，下文中所述的
單基底2的情況，這種基底大體上如圖l中所示。
同樣，后文中所說明的基底以本身已知的方式具有吸收層和/或鏡面層， 沒有示出所述吸收層和/或鏡面層進一步的細節(jié)。
圖3中所示的粘著體A3基本上對應(yīng)于圖2中所示的粘著體A2。在該情況 下，粘著體A3與粘著體A2的差別僅在于覆蓋帶7b的寬度，以及因此也在于 覆蓋帶7b和粘結(jié)工具帶6之間的距離。在圖3中所示的實施例中，覆蓋帶7b 的寬度為9.0 mm。這將與粘結(jié)工具帶6之間的距離都降低到了0.5 mm。圖3 中所示的剩余組件的尺寸與圖2中的相應(yīng)部件的尺寸相同。
粘著體A3的功能和優(yōu)點基本上對應(yīng)于粘著體A2的功能和優(yōu)點。根據(jù)圖3，覆蓋帶？b和粘結(jié)工具帶6之間的距離的減少進一步降低了當(dāng) 將粘著體A3壓到物品上時，粘結(jié)工具層12和物品之間接觸的危險，并且因 此進一步降低了它們之間不需要的粘著的危險。此外，作為覆蓋帶7b加寬 的結(jié)果，進一步增加了基底的硬度，結(jié)果它與物品的任何不均勻性的貼附 更少。更具體地，有效地防止了可轉(zhuǎn)移到粘結(jié)工具帶6的區(qū)域中的基底的不 均勻性傳播到帶有用于存儲光學(xué)結(jié)構(gòu)體的區(qū)域3的基底的中間部分。當(dāng)然，根據(jù)圖3的實施方式也可用于大體上如圖1所示類型的、設(shè)置有 粘結(jié)工具層5的簡單基底2。圖4示出了本發(fā)明的粘著體A4的進一步的實施方式。粘著體A4與圖2中 所示的粘著體A2的不同僅在于，設(shè)置薄覆蓋帶13來代替覆蓋帶7a。在本實 施例中，覆蓋帶13由聚丙烯(PP)組成，并且也在粘結(jié)工具帶6之間的中心延 伸，并且與它們平行。在根據(jù)圖4的實施例中，帶13的寬度為8.0mm,厚度為12(im，并且與粘 結(jié)工具帶6相同，也延伸穿過基底的整個長度。因此，在覆蓋帶13和粘結(jié)工 具帶6之間都有1.0mm的縫隙。至于圖4中所示實施方式的其它部件，其相 對于例如圖2中的實施方式的相應(yīng)部件并沒有改變。已經(jīng)很明顯的是，即使使用與圖2和3的實施方式相比比較薄的圖4的覆 蓋帶13，也能夠獲得滿意的結(jié)果。因此，甚至是覆蓋帶13也確保防止粘著 體A4與物品在粘結(jié)工具帶6之外的區(qū)域粘著。在該實施方式中，更具體地，基底的平面形式保持在特別良好的效果， 由此使光學(xué)信息具有特別良好的可讀性。基底的多層構(gòu)造及其相關(guān)的增加 的硬度意味著即使不存在隔板，基底的中間區(qū)域也不會降低到物品上。當(dāng)然，同樣地，根據(jù)圖4的實施方式也能夠用于大體上如圖1所示類型 的、設(shè)置有粘結(jié)工具層5的簡單基底2。圖5示出根據(jù)一種進一步的實施方式的粘著體A5。圖5中所示的粘著體 A5與圖4的粘著體A4的不同之處在于沒有設(shè)置粘結(jié)工具帶6。所不同的是， 設(shè)置在基底的接觸面11的全區(qū)域上的粘結(jié)工具層12僅被已經(jīng)在圖4的粘著 體A4的情況下設(shè)置的覆蓋帶13所覆蓋。至于圖4，該覆蓋帶具有8.0mm的寬 度和12pm的厚度。圖5中所示的實施方式的其它部件與圖4中的實施方式的 相應(yīng)部件相同。當(dāng)粘著體A5粘合到物品時，基底以及因此光學(xué)結(jié)構(gòu)體沿覆蓋帶13有輕微的提高，這是因為粘結(jié)工具層12的附近區(qū)域在施加壓力下降低到了物品 上。但是，已經(jīng)很明顯的是，這不會有害地影響光學(xué)結(jié)構(gòu)體的可讀性。更 具體地，基底的降低區(qū)域處于用于存儲光學(xué)結(jié)構(gòu)體的區(qū)域3之外。此外，在根據(jù)圖5提供的薄覆蓋帶13的情況下，降低的程度無論如何都是小的，因此即使當(dāng)光學(xué)結(jié)構(gòu)體受到降低的影響時，該光學(xué)結(jié)構(gòu)體本身也是可讀取的。同樣地，圖5的實施方式同樣能夠用于大體上如圖1所示類型的、設(shè)置 有粘結(jié)工具層5的簡單基底2 。原則上，當(dāng)然也可想到粘結(jié)工具層5或12都僅部分地覆蓋基底，從而以 這種方式接觸面4或11與物品之間僅有部分直接粘結(jié)。更具體地，根據(jù)圖4 和5的實施方式，作為薄覆蓋帶13的結(jié)果，獲得了同等的效果。圖6示出一種進一步的實施方式的粘著體A6。該粘著體A6具有大體上 例如圖2中所示類型的、有多層構(gòu)造的基底。但是，與圖2的實施方式截然 不同的是，該基底，或者它的各個層的面積僅為約12 mm2。該基底的各個 層的厚度以及粘結(jié)工具層12的厚度也與圖2的相同。也與圖2的實施方式相 同的是該實施方式的用于存儲光學(xué)結(jié)構(gòu)體的區(qū)域3。在圖6的粘著體A6的情況下，有三個粘結(jié)工具帶14、 15,其彼此平行地 在粘結(jié)工具層12的底面上延伸，并且都垂直于圖樣的平面延伸，穿過基底 的整個長度。該帶可由例如可以以名稱"tesa-film"獲得的粘合劑片材組成。 在這種情況下，兩個粘著工具帶14各自沿基底的兩個相對的邊緣延伸，而 第三粘結(jié)工具帶15在其它兩個帶14之間的中心延伸。帶14, 15各自具有無 粘性面14a, 15a和粘性面14b, 15b。在所示的實施例中，粘結(jié)工具帶14, 15 都具有約38iim的厚度。在所示的實施例中，沿著基底的邊緣延伸的兩個帶14具有3.5 mm的寬 度，而設(shè)置在中間的第三個帶15具有3mm的寬度。因此，在設(shè)置在中間的 帶15和設(shè)置在基底邊緣上的兩個帶14之間都有1.0 mm縫隙。沿基底的邊緣延伸的兩個帶14都通過它們的無粘性面14a施用到粘結(jié) 工具層12,而它們的粘性面14b都從粘著體A6的底面lb指向外。相反，在邊 緣上延伸的帶14之間的中心延伸的粘結(jié)工具帶15，通過它的粘性面15b施用 至粘結(jié)工具層12，而它的非粘性面15a從粘著體A6的底面指向外。以與圖1 5的粘著體相同的方式，將圖6中所示的粘著體A6通過它的底 面lb壓到物品(未示出)上。在這種情況下，也僅在在基底的邊緣延伸的兩個粘結(jié)工具帶14的區(qū)域中，接觸面11與物品有直接粘結(jié)。相反，在中心粘結(jié)工具帶15的區(qū)域中，沒有借助于粘結(jié)工具的與物品的直接連接。如圖1 3的情況一樣，中心粘結(jié)工具帶15基本上用作相對于物品的隔板。在這種情況下，已經(jīng)很明顯的是，通過使用相同的材料用于設(shè)置在中心的用作隔板的粘結(jié)工具帶15和在側(cè)面設(shè)置在邊緣的帶14，甚至是在它粘 合到非平面基底之后也可能獲得增加的基底平整度?；妆砻鎱^(qū)域的減少 同樣不會對光學(xué)結(jié)構(gòu)體的易讀性產(chǎn)生任何問題。而且，通過僅使用一種帶 材料，還進一步簡化了粘著體的生產(chǎn)。當(dāng)然同樣可將圖6的實施方式，更具體地，較小的基底面積用于大體上 如圖l所示類型的、設(shè)置有粘結(jié)工具層5的簡單基底2。應(yīng)該指出，示例性實施方式中所指出的本發(fā)明粘著體的部件的尺寸， 僅是以舉例的方式給出的。各種不同的尺寸當(dāng)然也是可能的。更具體地， 可能將更厚的層用于粘著體的單個層，或者粘著體的層的分區(qū)域，并且以 這種方式，通過增加的硬度，來獲得整個基底或者基底的分區(qū)域與物品的 力分離。在這種為了力分離的目的的情況下，粘著體的額外的僅部分粘結(jié) 不再是強制性的。因此，可將粘著體的整個區(qū)域粘結(jié)到物品，而所必需的 力分離可僅通過粘著體的硬度來得到確保。類似地，所給出的任何材料都僅是以舉例的方式給出的。也可使用其 它材料。根據(jù)本發(fā)明的所有實施方式，可以可靠地確保的是，沒有由于物品的 不均勻性所導(dǎo)致的會有害地影響光學(xué)結(jié)構(gòu)體的易讀性的基底的不均勻性。
權(quán)利要求
1. 一種用于粘合到物品的粘著體，其具有頂面(1a)和底面(1b)，具有基底(2)，所述基底(2)設(shè)置在所述頂面(1a)上并具有用于存儲光學(xué)結(jié)構(gòu)體的區(qū)域(3)，具有設(shè)置在所述底面(1b)上的接觸面(4、11)，和具有連接至接觸面(4、11)、并意圖將粘著體(A1、A2、A3、A4、A5、A6)粘合至物品的粘結(jié)工具(5、6、12、14)，其特征在于，在粘合的狀態(tài)時，基底(2)的至少一個分區(qū)域與該物品力分離。
2.在粘合的狀態(tài)時，基底(2)的至少 一個分區(qū)域與該物品力分離。區(qū)域(3)的基底(2)的分區(qū)域與物品力分離。
3. 權(quán)利要求1和2任一項的粘著體，其特征在于，在粘合狀態(tài)時，4義 接觸面(4、 11)的分區(qū)域通過粘結(jié)工具(5、 6、 12、 14)直接連接至物品。
4. 權(quán)利要求3的粘著體，其特征在于，在粘合狀態(tài)時，接觸面(4、 11) 的至少一個邊緣區(qū)域通過粘結(jié)工具(5、 6、 12、 14)直接連接至物品。
5. 權(quán)利要求3和4任一項的粘著體，其特征在于，在粘合狀態(tài)時，接觸 面(4、 11)的與用于存儲光學(xué)結(jié)構(gòu)體的區(qū)域(3)相對的區(qū)域不直接連接至物品。
6. 權(quán)利要求5的粘著體，其特征在于接觸面(4、 ll)的與用于存儲光學(xué) 結(jié)構(gòu)體的區(qū)域(3)相對的、且在粘合狀態(tài)時不直接連接至物品的區(qū)域具有與 用于存儲光學(xué)結(jié)構(gòu)體的區(qū)域(3)相同的尺寸。
7. 權(quán)利要求5的粘著體，其特征在于接觸面(4、 ll)的與用于存儲光學(xué) 結(jié)構(gòu)體的區(qū)域(3)相對的、且在粘合狀態(tài)時不直接連接至物品的區(qū)域大于用 于存儲光學(xué)結(jié)構(gòu)體的區(qū)域(3)。
8. 權(quán)利要求3 7中任一項的粘著體，其特征在于所述粘結(jié)工具(5、 6、 12、 14)僅覆蓋接觸面(4、 ll)的一部分。
9. 權(quán)利要求3 7中任一項的粘著體，其特征在于所述粘結(jié)工具(5、 6、 12、 14)完全覆蓋接觸面(4、 11)。
10. 權(quán)利要求3 9中任一項的粘著體，其特征在于所述粘結(jié)工具(5、 6、 12、 14)的一部分被無粘性材料(7a、 7b、 13、 15)所覆蓋。
11. 權(quán)利要求3 10中任一項的粘著體，其特征在于所述粘結(jié)工具(5、 6、 12、 14)的表面特征使得在粘合的狀態(tài)時，僅粘著體(A1、 A2、 A3、 A4、 A5、 A6)的接觸面(4、 11)的分區(qū)域通過粘結(jié)工具(5、 6、 12、 14)直接連接到物品。
12. 上述權(quán)利要求中任一項的粘著體，其特征在于所述基底(2)的厚度 為至少25jim,優(yōu)選為25拜 180(im。
13. 權(quán)利要求12的粘著體，其特征在于所述基底(2)的厚度為 25fim 75(im。
14. 權(quán)利要求1至12中任一項的粘著體，其特征在于所述基底(2)的厚度 為大于50(im，優(yōu)選為75p"n 180fim。
15. 上述權(quán)利要求中任一項的粘著體，其特征在于由基底(2)和粘結(jié)工 具(5、 6、 12、 14)形成的組件的厚度為大于75nm。
16. 上述權(quán)利要求中任一項的粘著體， 其特征在于所述基底(2)具有多層構(gòu)造。
17. 權(quán)利要求16的粘著體，其特征在于所述基底(2)具有載體層(8)，并 且具有附加載體(9)，所述載體層(8)的厚度為至少25(im,優(yōu)選為 25[im 180jim,所述附加載體(9)的厚度為大于25nm，優(yōu)選為50|_im 180|im。
18. 權(quán)利要求17的粘著體，其特征在于所述載體層(8)的厚度為至少 25jLim,優(yōu)選為25拜 75jim。
19. 權(quán)利要求17的粘著體，其特征在于所述載體層(8)的厚度為大于 50,，優(yōu)選為75, 180[im。
20. 上述權(quán)利要求中任一項的粘著體，其特征在于所述基底(2)具有聚 合物膜，更具體地為雙軸取向的聚合物膜。
21. 上述權(quán)利要求中任一項的粘著體，其特征在于所述光學(xué)結(jié)構(gòu)體"i殳計 為衍射結(jié)構(gòu)。
22. 權(quán)利要求21的粘著體，其特征在于所述光學(xué)結(jié)構(gòu)體設(shè)計為全息結(jié) 構(gòu)，更具體地為計算機產(chǎn)生的全息圖。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于粘合到物品的粘著體，其具有頂面(1a)和底面(1b)，具有設(shè)置在頂面(1a)上、并具有用于存儲光學(xué)結(jié)構(gòu)體的區(qū)域(3)的基底(2)，具有設(shè)置在底面(1b)上的接觸面(4、11)，并具有連接至接觸面(4、11)、用于將粘著體(A1、A2、A3、A4、A5、A6)粘合至物品的粘合劑(5、6、12、14)。技術(shù)問題是提供一種用于粘合至物品的粘著體，其保證以滿意的質(zhì)量再現(xiàn)包含在該光學(xué)結(jié)構(gòu)體中的信息，甚至在所粘結(jié)到的表面不均勻的情況下也是這樣，上述技術(shù)問題通過在粘合的狀態(tài)時，將基底(2)的至少一個分區(qū)域與物品力分離而得到了解決。
文檔編號C09J7/02GK101305065SQ200680041915
公開日2008年11月12日 申請日期2006年11月6日 優(yōu)先權(quán)日2005年11月9日
發(fā)明者喬恩·利博, 安諾?？āげ既R澤杰夫斯基, 戴維·塔夫, 斯蒂芬·斯塔德勒 申請人:蒂薩斯克里博斯有限責(zé)任公司