專利名稱：浸漬下沉鍍膜裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于納米材料制備領(lǐng)域，特別涉及一種用于納米薄膜制備的浸 漬下沉鍍膜裝置。
背景技術(shù)：
溶膠-凝膠法制備薄膜的工藝通常有旋轉(zhuǎn)涂覆法，浸漬提拉法。旋 轉(zhuǎn)涂覆法是將溶膠滴在基片上，基片固定在一個高速繞自身中心旋轉(zhuǎn)的平 臺上，在旋轉(zhuǎn)的過程中，溶膠就會涂覆在基片上了。但是這種方法有一定 的局限性，僅適用于在平面基片上成膜，受離心力及基片半徑等因素的影 響，薄膜的均勻度不是很高，而且此種鍍膜工藝對溶膠的利用率不高，一 次性鍍膜基片數(shù)量少，效率低。
浸漬提拉法是把固定在提拉板上的基片浸漬在溶膠中，基片在提拉機 的拉力作用下緩慢勻速上升，溶膠均勻的涂覆在基片上。但是此工藝也有 不足之處基片在提拉過程中易受環(huán)境因素而產(chǎn)生擺動，會使膜厚不均， 影響薄膜質(zhì)量浸漬下沉鍍膜裝置。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的缺點，提供了一種操作方便簡 單，能夠快速、大批量、大面積的制備均勻薄膜而且還可以實現(xiàn)任意形狀 的均勻鍍膜的浸漬下沉鍍膜裝置。
為達妾tt述目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是包括下箱體以及設(shè)置在 下箱體內(nèi)的帶有閥門的滴漏裝置，在下箱體上設(shè)置有支撐軸，支撐軸上套 裝有工作軸，工作軸上設(shè)置有固定基片用的基片夾具，基片夾具的正下方設(shè)置有盛水的容器，且滴漏裝置與該容器相連通，在容器內(nèi)放置有漂浮臺， 且在漂浮臺上開設(shè)有用于放置燒杯的凹槽。
本發(fā)明的下箱體包括下基板以及通過支撐軸與下基板連為一體的上
基板；滴漏裝置包括安裝在上基板上與容器相連通的上滴漏管，上滴漏管 的下端依次連接有中間容器和下滴漏管，且在上、下滴漏管上分別設(shè)置有 上、下滴漏閥門，在下滴漏管的下端還設(shè)置有接水容器；基片夾具上還設(shè) 置有緊固螺栓；相鄰兩基片之間設(shè)置有墊片，且在最外側(cè)兩墊片外側(cè)還設(shè) 置有磁鐵片。
本發(fā)明采用下沉浸漬制備鍍膜，鍍膜用基片不動，盛溶膠的燒杯緩慢 下沉從而實現(xiàn)在基片上鍍膜。它具有容器下沉速度穩(wěn)定，速度控制范圍廣， 操作方便簡單，能夠方便、快速、大批量、大面積的制備均勻薄膜而且還 可以實現(xiàn)任意形狀的均勻鍍膜，設(shè)計簡單，操作方便，鍍膜用設(shè)備成本低。


圖1是本發(fā)明的整體結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施例方式
下面結(jié)合附圖對本發(fā)明作進一步詳細說明。
參見圖1，本發(fā)明包括由下基板1以及通過支撐軸8與下基板1連為 一體的上基板10組成的下箱體，在下箱體內(nèi)設(shè)置有帶有閥門的滴漏裝置， 在下箱體上設(shè)置有支撐軸20，支撐軸20上套裝有工作軸19,工作軸19 上設(shè)置有固定基片15用的基片夾具18，基片夾具18上還設(shè)置有緊固螺栓 17，相鄰兩基片15之間設(shè)置有墊片14，且在最外側(cè)兩墊片14外側(cè)還設(shè)置 有磁鐵片16，基片夾具18的正下方設(shè)置有盛水的容器11，所述的滴漏裝 置包括安裝在上基板10上與容器11相連通的上滴漏管6，上滴漏管6的 下端依次連接有中間容器5和下滴漏管3，且在上、下滴漏管6、 3上分別設(shè)置有上、下滴漏閥門7、 4，在下滴漏管3的下端還設(shè)置有接水容器2， 且滴漏裝置與該容器11相連通，在容器11內(nèi)放置有漂浮臺13，且在漂浮 臺13上開設(shè)有用于放置燒杯12的凹槽。
工作時，先把鍍膜用的基片15用墊片14間隔，把磁鐵片16放在兩 側(cè)墊片14的外側(cè)，把基片15和墊片14緊密的固定起來，接著把他們放 在基片夾具18上，擰緊緊固螺栓17把基片15固定在基片夾具18上了。
然后，關(guān)閉上滴漏閥門7，給容器11中注入適量的水，在燒杯12中 注入鍍膜用的溶膠，把燒杯12放在漂浮臺13的凹槽中，漂浮臺13放置 在到容器11中，打開上滴漏閥門7,容器11中的水就順著上滴漏管6下 流至中間容器5中，容器11中的液面下沉，燒杯12和漂浮臺13隨液面 下沉至一定的高度后，調(diào)節(jié)工作軸19的高度，讓基片15浸漬在燒杯12 內(nèi)的溶膠中，此時打開下滴漏閥門4，中間容器5中的水順著下滴漏管3 下流至接水容器2中，調(diào)節(jié)下滴漏閥門4控制水的流速和流量，從而控制 燒杯12的下沉速度，實現(xiàn)在基片15上均勻鍍膜。
本發(fā)明由一個基片固定裝置和基于液體浮力原理的可升降的用于放 置盛鍍膜用溶膠的容器。下拉機是本發(fā)明人在設(shè)計制作提拉機過程中根據(jù) 相對運動的原理而提出的。即不采取基片向上運動的方式，而采用盛溶膠 的容器下沉的方式來實現(xiàn)在基片上鍍膜。下沉鍍膜裝置的優(yōu)點在于避免了 基片在提拉過程中受環(huán)境因素影響易擺動而造成薄膜厚度不均的問題，實 現(xiàn)了目前一次性大批量鍍膜的效果，可在任意形狀的基片上實現(xiàn)均勻鍍 膜，方便、快捷、高效。下沉鍍膜裝置鍍膜時的速度控制范圍廣泛，下沉 速度可以達到lnm/s到lcm/s ，該裝置設(shè)計簡單，操作方便，成本低廉。
權(quán)利要求
1、一種浸漬下沉鍍膜裝置，其特征在于包括下箱體以及設(shè)置在下箱體內(nèi)的帶有閥門的滴漏裝置，在下箱體上設(shè)置有支撐軸(20)，支撐軸(20)上套裝有工作軸(19)，工作軸(19)上設(shè)置有固定基片(15)用的基片夾具(18)，基片夾具(18)的正下方設(shè)置有盛水的容器(11)，且滴漏裝置與該容器(11)相連通，在容器(11)內(nèi)放置有漂浮臺(13)，且在漂浮臺(13)上開設(shè)有用于放置燒杯(12)的凹槽。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的浸漬下沉鍍膜裝置，其特征在于所說的 下箱體包括下基板(1)以及通過支撐軸(8)與下基板(1)連為一體的 上基板(10)。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的浸漬下沉鍍膜裝置，其特征在于所 說的滴漏裝置包括安裝在上基板(10)上與容器(11)相連通的上滴漏管(6),上滴漏管(6)的下端依次連接有中間容器(5)和下滴漏管(3)， 且在上、下滴漏管(6、 3)上分別設(shè)置有上、下滴漏閥門(7、 4)，在下 滴漏管(3)的下端還設(shè)置有接水容器(2)。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的浸漬下沉鍍膜裝置，其特征在于所說的 基片夾具(18)上還設(shè)置有緊固螺栓(17)。
5、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的浸漬下沉鍍膜裝置，其特征在于所說的 相鄰兩基片(15)之間設(shè)置有墊片(14)，且在最外側(cè)兩墊片(14)外側(cè) 還設(shè)置有磁鐵片(16)。
全文摘要
一種浸漬下沉鍍膜裝置，包括下箱體以及設(shè)置在下箱體內(nèi)的帶有閥門的滴漏裝置，在下箱體上設(shè)置有支撐軸，支撐軸上套裝有工作軸，工作軸上設(shè)置有固定基片用的基片夾具，基片夾具的正下方設(shè)置有盛水的容器，且滴漏裝置與該容器相連通，在容器內(nèi)放置有漂浮臺，且在漂浮臺上開設(shè)有用于放置燒杯的凹槽。本發(fā)明采用下沉浸漬制備鍍膜，鍍膜用基片不動，盛溶膠的燒杯緩慢下沉從而實現(xiàn)在基片上鍍膜。它具有容器下沉速度穩(wěn)定，速度控制范圍廣，操作方便簡單，能夠方便、快速、大批量、大面積的制備均勻薄膜而且還可以實現(xiàn)任意形狀的均勻鍍膜，設(shè)計簡單，操作方便，鍍膜用設(shè)備成本低。
文檔編號B05C3/09GK101637750SQ20091002356
公開日2010年2月3日 申請日期2009年8月11日 優(yōu)先權(quán)日2009年8月11日
發(fā)明者伍媛婷, 徐文杰, 李二元, 王海震, 王秀峰 申請人:陜西科技大學