專利名稱：一種帶納米級凹槽的光學(xué)保護膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種薄膜，具體涉及一種帶納米級凹槽的光學(xué)保護膜，屬于包裝材料技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
棱鏡片等光學(xué)元件因其特殊的光學(xué)性能被越來越廣泛的應(yīng)用于顯微鏡、望遠鏡、 醫(yī)療器械等精密光學(xué)儀器中。目前，在對精密制品進行加工、搬運等時，為了避免對這些精密制品帶來損傷等，都是采用臨時粘貼表面保護膜的方式來實現(xiàn)被粘體的表面保護。一直以來，表面保護大多采用在基材膜的表面上設(shè)有粘合劑的粘合膜。但是往往由于光學(xué)元件的表面存在數(shù)十微米的凹凸，因此與其他被粘體相比，與粘結(jié)層的接觸面積非常小，很難穩(wěn)定地粘貼于棱鏡表面，或者會因粘合力太強而不能從被粘物上順暢剝離，出現(xiàn)在分離保護膜時留下殘膜與殘膠的現(xiàn)象，一定程度上影響棱鏡的使用和光學(xué)上的精度?，F(xiàn)有技術(shù)中還會采用表面平滑的保護膜，因膜間摩擦系數(shù)小，抗震性能差，因此保護作用有所欠缺，導(dǎo)致精密光學(xué)元件的損傷。因此，有必要設(shè)計制造出一種自粘性和抗震性優(yōu)異的光學(xué)保護膜。

實用新型內(nèi)容本實用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足，設(shè)計一種保護性能優(yōu)異、剝離順暢且能保持棱鏡片表面清潔、自粘性和抗震性優(yōu)異的光學(xué)保護膜。為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案是提供一種帶納米級凹槽的光學(xué)保護膜， 包括防護層和粘結(jié)層，其特征在于，所述防護層與粘結(jié)層相接觸的防護層內(nèi)表面設(shè)置有納米級凹槽。為了生產(chǎn)過程操作簡單，且能使保護膜獲得不同的表面摩擦力和抗震性能，納米級曲面凹槽排列方式為陣列式或隨機式，密度不限；納米級曲面凹槽為半球形，半球直徑為 1 lOOnm。為了保證保護膜材料良好的機械性能，防護層為低密度聚乙烯、高密度聚乙烯、流延聚丙烯、茂金屬聚乙烯和嵌段聚丙烯中的至少一種。為了使保護膜具有一定的自粘性，避免使用膠水等膠黏劑而造成的殘膠現(xiàn)象，所述粘結(jié)層為乙烯聚醋酸乙烯共聚物。本實用新型的優(yōu)點和有益效果在于在保護膜中粘結(jié)層上引入納米級凹槽，能增大層間接觸面積，增強層間粘合力，且層間貼合時形成的小型氣囊會提高保護膜的抗震性能；粘結(jié)層具有比較高的表面能，能夠很好的粘附在制品表面，有效避免使用膠水等膠黏劑而造成的殘膠現(xiàn)象，且該保護膜機械性能良好。

圖1是本實用新型光學(xué)保護膜的縱剖面結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是本實用新型光學(xué)保護膜防護層的立體示意圖；[0011]圖3是本實用新型光學(xué)保護膜防護層的另一立體示意圖；圖中1、防護層；2、粘結(jié)層；3、納米級凹槽。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖和實施例，對本實用新型的具體實施方式
作進一步描述。以下實施例僅用于更加清楚地說明本實用新型的技術(shù)方案，而不能以此來限制本實用新型的保護范圍。實施例1參見圖1，在共擠流延擠出機上將低密度聚乙烯與乙烯聚醋酸乙烯共聚物進行共擠出成型，其中，在共擠流延擠出機上擠出時，在防護層的與粘結(jié)層接觸的防護層內(nèi)表面壓出隨機排列的納米級半球形凹槽，半球直徑為lnm。實施例2參見圖1，共擠流延擠出機上將嵌段聚丙烯的改性材料與乙烯聚醋酸乙烯共聚物進行共擠出成型，其中，在共擠流延擠出機上擠出時，在防護層的與粘結(jié)層接觸的防護層內(nèi)表面壓出呈矩陣式排列的納米級半球形凹槽，半球直徑為50nm。實施例3參見圖1，在共擠流延擠出機上將高密度聚乙烯與流延聚丙烯的混合材料與乙烯聚醋酸乙烯共聚物進行共擠出成型，其中，在共擠流延擠出機上擠出時，在防護層的與粘結(jié)層接觸的防護層內(nèi)表面壓出隨機排列的納米級半球形凹槽，半球直徑為lOOnm。以上所述僅是本實用新型的優(yōu)選實施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實用新型技術(shù)原理的前提下，還可以做出若干改進和潤飾，這些改進和潤飾也應(yīng)視為本實用新型的保護范圍。
權(quán)利要求1.一種帶納米級凹槽的光學(xué)保護膜，包括防護層和粘結(jié)層，其特征在于，所述防護層與粘結(jié)層相接觸的防護層內(nèi)表面設(shè)置有納米級曲面凹槽。
2.如權(quán)利要求1所述的保護膜，其特征在于，所述納米級曲面凹槽排列方式為陣列式或隨機式，密度不限；所述納米級曲面凹槽為半球形，所述半球直徑為1 lOOnm。
3.如權(quán)利要求2所述的保護膜，其特征在于，所述粘結(jié)層為乙烯聚醋酸乙烯共聚物。
專利摘要本實用新型公開了一種帶納米級凹槽的光學(xué)保護膜，包括防護層和粘結(jié)層，防護層與粘結(jié)層相接觸的防護層內(nèi)表面設(shè)置有納米級曲面凹槽，納米級曲面凹槽排列方式為陣列式或隨機式，密度不限。在保護膜中粘結(jié)層上引入納米級凹槽，能增大層間接觸面積，增強層間粘合力，且層間貼合時形成的小型氣囊會提高保護膜的抗震性能，粘結(jié)層具有比較高的表面能，能夠很好的粘附在制品表面，有效避免使用膠水等膠黏劑而造成的殘膠現(xiàn)象，且該保護膜機械性能良好。
文檔編號C09J7/02GK202186960SQ20112023086
公開日2012年4月11日 申請日期2011年7月4日 優(yōu)先權(quán)日2011年7月4日
發(fā)明者周永南 申請人:江陰市通利包裝材料有限公司