專利名稱：清理和涂刷擠壓頭的設(shè)備和方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明要求于1998年1月9日遞交的題目為“用于擠壓涂覆的方法和設(shè)備”的美國專利申請(qǐng)No.60/070，986的權(quán)益，此公開文本在此做為參考。
本發(fā)明還涉及并在此參考同時(shí)遞交的在審的以及轉(zhuǎn)讓的專利申請(qǐng)序號(hào)[54183-P003US-986100]，題目INTELLIGENT CONTROLSYSTEM FOR EXTRUSION HEAD DISPENSEMENT；序號(hào)[54183-P008US-986104]，題目“LINEAR DEVELOPER”；序號(hào)[54183-P013US-986110]，題目“MOVING HEAD，COATING APPARATUS ANDMETHOD”；序號(hào)[54183-P014US-987565]，題目“SYSTEM ANDMETHOD FOR INTERCHANGEABLY INTERFACING WETCOMPONENTS WITH A COATING APPARATUS”，以及序號(hào)[54183-P016US-987567]，題目“SYSTEM AND METHOD FOR ADJUSTING AWORKING DISTANCE TO CORRESPOND WITH THE WORKSPACE”，這些公開文本在此均做為參考。
本發(fā)明還涉及并在此做為參考的及在審的和轉(zhuǎn)讓的專利申請(qǐng)序號(hào)[54183-P001US-985245]，題目“LINEAR EXTRUSION COATINGSYSTEM AND METHOD”；以及序號(hào)[54183-P012US-986109]，題目“SYSTEM AND METHOD FOR PROVIDING COATING OFSUBSTRATES”。
本發(fā)明通常涉及一種用于清理和涂刷一擠壓頭的方法和設(shè)備，具體涉及以一種適于自動(dòng)涂覆設(shè)備的完全并空間上有效率的方式進(jìn)行這種清理和涂刷。
擠壓涂覆是一種公知的方法，它是在微電子及顯示器技術(shù)領(lǐng)域中直接將處理涂覆物沉積在基板、極板、平板顯示器以及相似物(通稱基板)上。根據(jù)一典型的現(xiàn)有技術(shù)設(shè)備，基板在一擠壓涂覆頭之下直線傳送，而使用一基于微處理的電液泵出設(shè)備從擠壓頭中的一線性孔精確分配出處理流體。這樣一種設(shè)備在美國專利No.4，696，885中描述，題目為“METHOD OF FORMING A LARGE SURFACE AREAINTEGRATED CIRCUIT”。根據(jù)特定的應(yīng)用場(chǎng)合，這種處理流體包括感光性樹脂、聚酰亞胺、顏色過濾材料等。這種擠壓涂覆技術(shù)非常適于研究和開發(fā)活動(dòng)以及大批量的生產(chǎn)需要。
盡管這種類型的公知擠壓設(shè)備與其他的液體沉積技術(shù)(如自旋涂覆)相比具有顯著的優(yōu)點(diǎn)，但它們通常承受相似的問題，具體的是，涂覆頭不能在特定的應(yīng)用場(chǎng)合在基板的導(dǎo)向邊形成均勻的涂覆。在這些設(shè)備中，每個(gè)基板不象一個(gè)幅帶涂覆工藝是一個(gè)離散部分，而且因此涂覆沉積在每個(gè)新基板處開始并結(jié)束。對(duì)這種局部逐漸的處理，在擠壓頭和每個(gè)新基板之間必須重新形成一個(gè)涂覆“卷邊”，從而“弄濕”表面。但當(dāng)此卷邊開始與基板接觸時(shí)，它可以引起從涂覆導(dǎo)向邊擾動(dòng)某一可測(cè)量的距離(如5-20mm)。有時(shí)這種類型的一導(dǎo)向邊異常地使基板完全報(bào)廢，從而增大材料和處理成本并減小處理效率。
在本領(lǐng)域一直試圖解決此問題，建立一種在一線性或所謂的槽型擠壓頭中的均勻涂覆狀況，而且這種類型的設(shè)備在美國專利Nos.4，938，994中描述，題目為“METHOD AND APPARATUS FOR PATCHCOATING PRINTED CIRCUIT BOARDS”，以及在Nos.5，183，508中描述，題目為“APPARATUS FOR PATCH COATING PRINTEDCIRCUIT BOARDS”。在這些專利中，一受控制流速的液體傳至擠壓頭中的一液體盛放腔中，并通過施加槽從沿此槽的每個(gè)點(diǎn)產(chǎn)生均勻流速的液體。與此擠壓頭相連的一位移活塞產(chǎn)生一流體脈沖，以在傳送此受控制的流體流量之前、同時(shí)或之后控制液體涂覆卷邊的變形。此技術(shù)可以向基板在平均每個(gè)單位面積上施加一層高精度控制量的液體。現(xiàn)有技術(shù)的機(jī)器還包括一個(gè)在施加步驟之間清理擠壓頭的槽密封單元。但現(xiàn)有技術(shù)的設(shè)備在一涂覆操作開始對(duì)擠壓頭的狀況不產(chǎn)生影響，其中此狀況與一涂覆操作中間的擠壓頭狀況相似。因此仍存在向一個(gè)穩(wěn)定狀態(tài)的涂覆速度逐漸過渡的問題，從而產(chǎn)生了邊緣擾動(dòng)。因此，現(xiàn)有技術(shù)不能充分地解決影響涂覆均勻性的導(dǎo)向邊擾動(dòng)的問題。
為了避免在涂覆操作后滴下或弄臟已聚積在擠壓頭周圍的涂覆材料，通常需要在一新的涂覆操作開始之前清理擠壓頭。在現(xiàn)有技術(shù)中，擠壓機(jī)構(gòu)的清理通常手動(dòng)完成，這會(huì)使涂覆操作中斷并分離和阻隔涂覆操作。在擠壓操作過程中擠壓頭上殘留的涂覆材料會(huì)產(chǎn)生不希望的涂覆材料的沉積，或者產(chǎn)生積累在殘余材料、基板上和/或涂覆設(shè)備的局部上的污物。因此在現(xiàn)有技術(shù)存在手動(dòng)清理操作不連續(xù)并不可靠的問題。
因此，需要一種機(jī)構(gòu)，能在批量對(duì)基板進(jìn)行槽型涂覆時(shí)克服產(chǎn)生導(dǎo)向邊異常的問題。
還需要一種能有效和連續(xù)清理一擠壓頭以防止在基板或其他表面上滴下涂覆材料的機(jī)構(gòu)。
以上這些和其他目的、特征以及技術(shù)優(yōu)點(diǎn)由一種提供能在選定的時(shí)間自動(dòng)清理和涂刷擠壓或分配頭的清理和涂刷組件的設(shè)備和方法而取得。
本發(fā)明的一優(yōu)選實(shí)施例包括一個(gè)工作站，工作站包括一清理站和一涂刷站，在此在將一擠壓頭帶至所述工作站時(shí)最好可以自動(dòng)進(jìn)行清理和涂刷操作。
在本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例中，一個(gè)清理操作可以包括一強(qiáng)力清理過程，其中包括已干的涂覆材料的特別粘或重的流體積累物可以從擠壓頭的外部被清理掉，此積累物不能由流體單獨(dú)清理。最好，此強(qiáng)力清理操作在一擦拭站進(jìn)行。強(qiáng)力清理操作最好包括在清理站部件和擠壓頭之間的直接機(jī)械接觸。在一優(yōu)選實(shí)施例中，此機(jī)械接觸表現(xiàn)為擦拭件，它們沿?cái)D壓機(jī)的外部接觸一充分長的距離，以去除所有的材料積累物。
最好，擦拭件包括許多與擠壓頭接觸的硬毛，從而將涂覆材料從擠壓頭傳至硬毛上。或者，擦拭件包括一個(gè)表面，表面包括布、海綿、或其他適當(dāng)材料，與擠壓頭接觸并通過一個(gè)吸收和擦拭接觸組合去除材料。
不論是硬毛或其他裝置，強(qiáng)力清理機(jī)構(gòu)最好與一流體噴射或沖洗一起接觸擠壓頭，以幫助從擠壓頭外部去除涂覆材料。最好，流體可以保持在一個(gè)容器中并連續(xù)泵向硬毛或其他接觸裝置以及擠壓頭之間的接觸點(diǎn)?？梢允褂靡粋€(gè)恒定池量的流體，它最好在選定的間隔替換。在一優(yōu)選實(shí)施例中，與擦拭件一起使用的流體是一個(gè)強(qiáng)力溶劑，可以使清理操作導(dǎo)向粘性材料的清理物。使用這種溶劑可以通過分解仍保留在擠壓頭表面上的涂覆材料而幫助清理過程并通過分解已傳至擦拭件上的涂覆材料而保持擦拭件的清潔?；蛘撸梢允褂靡环N化學(xué)性質(zhì)為惰性或其他流體對(duì)清理機(jī)構(gòu)與擠壓頭的接觸提供潤滑以及帶走已去除的涂覆材料。
最好，相對(duì)運(yùn)動(dòng)在硬毛或其他接觸裝置和擠壓頭之間進(jìn)行，以在要清理多余材料的表面上取得最完全的擦拭。在一優(yōu)選實(shí)施例中，至少一個(gè)圓柱形擦拭件可以繞一個(gè)平行于擠壓頭的軸線靠在擠壓頭表面上轉(zhuǎn)動(dòng)，從而在一緊湊的空間中提供所需的相對(duì)運(yùn)動(dòng)。此圓柱形擦拭件的軸線最好固定，從而幫助提供一最小的范圍，但是可以在彈簧載荷或在某種形式的控制運(yùn)動(dòng)下直線或傾斜運(yùn)動(dòng)，以在擠壓頭外部上取得較大的表面積，或可以調(diào)整由此施加的清理壓力。
或者，擦拭件和擠壓頭之間的所需的相對(duì)運(yùn)動(dòng)可以通過擠壓頭或擦拭件或兩者的直線運(yùn)動(dòng)取得。此外，擦拭件可以經(jīng)歷一直線運(yùn)動(dòng)和繞一垂直于擠壓頭的軸線從而提供旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)的轉(zhuǎn)動(dòng)的組合，并產(chǎn)生更大的要清理的表面范圍。最好擦拭件包括機(jī)械柔性，可以在擠壓頭方向產(chǎn)生某些數(shù)量的擦拭件的直線運(yùn)動(dòng)。
在一優(yōu)選實(shí)施例中，材料從轉(zhuǎn)動(dòng)的擦拭件上去除，通過設(shè)置葉片或其他堅(jiān)固的表面與去除涂覆材料的擦拭件表面接觸，擦拭件從擠壓頭表面去除材料。最好，葉片或其他表面設(shè)置在擦拭件下側(cè)，以便不與擠壓頭干涉，但也可以位于擦拭件可到達(dá)的任何位置中。葉片最好是金屬的，但也可以由彈性和硬材料組成。
在一優(yōu)選實(shí)施例中，一沖洗站用做清理站的一部分，清理站可以用做擠壓頭的唯一的清理站，因此如果需要上述擦拭站可以在此實(shí)施例中省去，或可以用做一子工作站，在擠壓頭已在一擦拭站清理后可以在子工作站進(jìn)行更精細(xì)的擠壓頭清理。對(duì)此沖洗站的流體最好貯存在一容器中，此容器最好與擦拭站的容器區(qū)分開?；蛘?，沖洗和擦拭站的流體可以共用一個(gè)容器。
沖洗站的流體最好用于在還沒有進(jìn)行擦拭操作時(shí)從擠壓頭上去除任何經(jīng)過涂覆操作后剩下的非粘性涂覆材料。或者，沖洗站的流體可以去除在已進(jìn)行擦拭操作之后除了留在擠壓頭上的任何殘余涂覆材料之外的任何用于擦拭站的溶劑。
用于沖洗站的流體最好是自干型的，從而避免在開始涂覆或涂刷擠壓頭之前需要對(duì)擠壓頭進(jìn)行任何進(jìn)一步的處理?；蛘撸梢允褂梅亲愿尚腿軇┮约笆褂酶稍镅b置，以確保沖洗流體完全從擠壓頭上去除。這種用于從擠壓頭上干燥沖洗溶劑的裝置包括但不限于產(chǎn)生經(jīng)過擠壓頭的快速氣流，以及在擠壓頭附近產(chǎn)生熱量。但是應(yīng)理解使用這種氣流應(yīng)注意小心控制，以不在擠壓支管中產(chǎn)生可能引起涂覆不規(guī)則的氣泡。
在一優(yōu)選實(shí)施例中，沖洗站的流體存放在一個(gè)工作站之下的容器中，容器具有一“V”形或類似形狀的橫截面，一擠壓頭接觸在V形中。而沖洗流體或溶劑通過一流體分配結(jié)構(gòu)從容器中泵出，以確保在要清理的擠壓頭表面上覆蓋完整而均勻的沖洗流體。最好，流體從容器中向上通過豎直設(shè)置的孔進(jìn)入沖洗站材料中，然后進(jìn)入一窄槽中產(chǎn)生一個(gè)均勻的流體幕簾，從而完全覆蓋要清理的表面。其他可能的幾何形狀包括但不限于使用沿沖洗站長度的一個(gè)單獨(dú)的豎槽與向清理表面引導(dǎo)流體的一第二槽連通，一在流體容器開始從容器向上豎直引導(dǎo)的單獨(dú)的槽，但適當(dāng)?shù)卦谝贿m當(dāng)?shù)碾A段彎曲以向要清理的表面引導(dǎo)流體。在一變化的實(shí)施例中，流體容器可以位于與要清理的表面同樣的豎直高度，從而使一單獨(dú)的直槽可以將壓力流體直接從容器導(dǎo)向要清理的表面。應(yīng)理解在不偏離在此實(shí)施的本發(fā)明機(jī)構(gòu)的范圍下可以有多種可能的流體流動(dòng)幾何構(gòu)形。
在另一優(yōu)選實(shí)施例中，用于向要清理的表面引導(dǎo)沖洗流體的裝置包括使用一種滲透性或燒結(jié)材料，當(dāng)此材料經(jīng)受適當(dāng)?shù)膲毫r(shí)可以向擠壓頭表面提供一個(gè)流體流動(dòng)幕簾，從而在要清理的表面上覆蓋完整的沖洗流體。
在另一實(shí)施例中，可以是移動(dòng)的與流體容器相通并導(dǎo)向擠壓頭的多個(gè)流體噴頭用于取得在要清理的表面上覆蓋完整的流體。利用這些噴頭可以在只要流體與整個(gè)要清理的表面接觸時(shí)在要清理的表面上產(chǎn)生重疊或非重疊的噴射圖案。
在一變化實(shí)施例中，放入擠壓頭的沖洗站可以具有許多可能的形狀，包括但不限于半圓形、正方形、矩形、橢圓形等。
在一變化的優(yōu)選實(shí)施例中，擦拭和沖洗操作可以利用整體的或單獨(dú)的流體容器在一單個(gè)的工作站中進(jìn)行。盡管都設(shè)置成固定的，但擦拭件和沖洗噴射機(jī)構(gòu)可以設(shè)置成彼此不干涉?；蛘?，擦拭件和/或沖洗流體噴射機(jī)構(gòu)可以移動(dòng)，以便都能接近擠壓頭而在操作時(shí)不與其他部件干涉。
在本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例中，使用一最好接近清理站的涂刷站，用于產(chǎn)生一連續(xù)的涂覆卷邊或擠壓頭的穩(wěn)定流動(dòng)狀態(tài)。擠壓頭最好但不是必須在送至涂刷站之前在一個(gè)或多個(gè)清理站被清理。一擠壓頭最適于用一完整而連續(xù)的涂覆卷邊以及不帶有在擠壓頭外部上的任何多余的涂覆材料開始涂覆操作?；蛘?，尤其是如果擠壓頭開始其在一特定生產(chǎn)過程中的第一次涂覆操作時(shí)擠壓或涂覆頭可以直接與涂刷站接觸而不用首先到達(dá)清理站。擠壓頭或者可以直接到達(dá)涂刷站而不用在如果擠壓頭很干凈而不需要在任何清理站進(jìn)行清理操作時(shí)首先到達(dá)清理站。清理操作之間的涂覆操作的數(shù)量可以取決于各種因素而變化，包括使用的涂覆材料，利用的擠壓頭間隙(擠壓頭與涂覆的基板之間的距離)，以及基板的尺寸。
在一優(yōu)選實(shí)施例中，涂刷站包括一浸在一池溶劑中的轉(zhuǎn)動(dòng)的圓柱形輥?zhàn)樱佔(zhàn)优c一個(gè)從輥?zhàn)由锨謇韽耐扛差^傳遞的涂覆材料的涂刷接觸。擠壓頭接近輥?zhàn)樱瑪D壓頭最好是金屬的或其他類似要涂覆的基板的表面的其他材料，并開始將涂覆流體擠壓到輥?zhàn)由?。從擠壓頭上初始釋放流體可以對(duì)一特定的時(shí)間段是不連續(xù)的。在不用涂刷過程時(shí)，這種不連續(xù)會(huì)在要涂覆的表面上產(chǎn)生導(dǎo)向邊異常。擠壓頭保持在輥?zhàn)由弦酝?dāng)涂覆時(shí)相同的方式擠壓流體，直到經(jīng)過足夠長的時(shí)間或在涂刷輥?zhàn)由蠑D壓足夠多的涂覆流體，以確保涂覆卷邊準(zhǔn)備進(jìn)行實(shí)際的涂覆操作。另一種確定完成涂刷過程的選擇包括使用傳感機(jī)構(gòu)感應(yīng)一個(gè)完整的涂覆卷邊的存在，包括但不限于設(shè)置成用于觀察涂覆卷邊的顯示裝置，或擠壓頭中的接觸或壓力傳感器。另一種用于確定完成涂刷過程的機(jī)構(gòu)包括使用一顯示裝置或接觸式傳感器，來感應(yīng)輥?zhàn)由匣蚱渌克⒈砻嫔系耐扛病?br> 最好當(dāng)在擠壓頭擠壓范圍中有完整和均勻的涂覆卷邊時(shí)進(jìn)行擠壓頭的涂刷。在擠壓頭包括一個(gè)擠壓槽時(shí)，當(dāng)在槽的整個(gè)長度上產(chǎn)生恒定的流速時(shí)完成涂刷，而且在槽的橫截面上涂覆卷邊完整而均勻。
涂刷輥?zhàn)咏邮艹练e在其上的涂覆材料，有效伴隨擠壓頭在等于一相應(yīng)于輥?zhàn)油獗砻娴倪\(yùn)動(dòng)的直線距離的一段距離的運(yùn)動(dòng)。輥?zhàn)舆B續(xù)轉(zhuǎn)動(dòng)，從而快速將沉積的涂覆材料暴露給溶劑，溶劑分解此涂覆材料。與輥?zhàn)咏佑|最好在輥?zhàn)又碌淖詈檬且煌克⒒蛉~片的輥?zhàn)忧謇硌b置從涂刷輥?zhàn)由先コ嗟耐扛膊牧?。溶劑池和涂刷以及其他材料去除裝置的效果是完全清理輥?zhàn)?，以便從池中露出的輥?zhàn)颖砻娌糠挚梢詼?zhǔn)備從擠壓頭接受更多的涂覆材料。此過程連續(xù)進(jìn)行直到擠壓頭上的涂覆卷邊準(zhǔn)備好用于實(shí)際的涂覆操作。
在一變化的實(shí)施例中，一涂刷表面和擠壓頭之間所需的相對(duì)運(yùn)動(dòng)可以由不同于轉(zhuǎn)動(dòng)的圓形輥?zhàn)拥母鞣N裝置取得，包括但不限于繞在兩個(gè)或多個(gè)輥?zhàn)由系膸?，帶在擠壓頭下經(jīng)過，跟隨擠壓頭經(jīng)過要涂覆的材料的一段距離。這樣一種帶可以以與一踏車相同的方式工作，其中一組平行的輥?zhàn)釉谙嗤姆较蛑修D(zhuǎn)動(dòng)，驅(qū)動(dòng)擠壓頭之下的帶進(jìn)入一溶劑池中，然后最好與一帶清理裝置接觸，此裝置最好是一涂刷。帶可以連續(xù)轉(zhuǎn)動(dòng)，從而盡管需要一較大的范圍但能完成與輥?zhàn)酉嗤墓δ堋?br> 或者，用于涂覆流體沉積的一個(gè)表面可以在擠壓頭下直線前后移動(dòng)，其中在其上具有涂覆材料的表面的每一部分在擠壓頭之下移回之前得到清理以接受更多的涂覆流體。而另一個(gè)變化的實(shí)施例包括具有一個(gè)相對(duì)于一幾乎固定的涂刷表面移動(dòng)的擠壓頭，其中已在其上沉積有涂覆流體的涂刷表面的部分可以在這種流體沉積后盡可能快地被清理，從而使這部分涂刷表面準(zhǔn)備下一次擠壓頭的經(jīng)過。
在一優(yōu)選實(shí)施例中，用于涂刷站的流體是一種強(qiáng)力溶劑，最好能完全分解用于多次這種涂刷操作的沉積在涂刷表面上的涂覆表面。
在經(jīng)過預(yù)選數(shù)量的涂覆操作后，在涂刷站中用過的溶劑可以由新供應(yīng)的溶劑替換，或者，流體可以是化學(xué)性質(zhì)為惰性，并僅僅機(jī)械地幫助涂刷或其他涂刷表面清理裝置從涂刷表面上去除涂覆流體。在此情況下，用過的流體最好比涂覆流體輕，以便涂覆流體可以沉在一共用的流體腔的底部?；蛘?，涂覆流體由適當(dāng)?shù)难b置經(jīng)過過濾流出涂刷站并貯存下來，用于以后從流體站中去除以及可能的回收和再用。
在一優(yōu)選實(shí)施例中，一涂刷與涂刷表面接觸以幫助從所述表面上去除涂覆流體。許多其他涂刷表面清理機(jī)構(gòu)可以設(shè)置成接近或接觸涂刷表面，包括但不限于一最好相對(duì)于所述涂刷表面或直線或傾斜運(yùn)動(dòng)的海綿，以及一個(gè)位于涂刷表面附近用于去除任何位于涂刷表面之上的涂覆流體的鋒利的邊部。
可以取決于許多條件確定何時(shí)停止涂刷過程，包括但不限于用于由擠壓頭在涂刷表面上分配流體所用的時(shí)間，由擠壓頭所用的流體量，以及由傳感器裝置確定涂覆頭準(zhǔn)備好用于實(shí)際的涂覆操作。
在一變化的優(yōu)選實(shí)施例中，流體涂刷操作可以在沖洗站或擦拭站中進(jìn)行。以此方式涂刷擠壓頭需要涂覆流體在一預(yù)選的時(shí)間段擠壓出，或者擠壓出一預(yù)選量的流體，這樣可以取得一個(gè)穩(wěn)定的流速和可靠的連續(xù)卷邊。在此實(shí)施例中，流體被擠入一清理站中，此清理站或者是沖洗件或者是擦拭件，此工作站將擠壓出的涂覆流體吸入其溶劑池中。溶劑吸收最好在化學(xué)性質(zhì)上適于完全分解擠出的涂覆材料。或者，擠壓出的涂覆材料可以通過過濾裝置或通過區(qū)分開不同密度的流體的能力從池中剩余的流體中分離。
因此，本發(fā)明的一個(gè)技術(shù)優(yōu)點(diǎn)在于一擠壓頭可以通過將擠壓頭放入一個(gè)或多個(gè)清理站中而自動(dòng)清理，清理站在一涂覆設(shè)備中或附近占據(jù)較小的范圍。
本發(fā)明的另一個(gè)技術(shù)優(yōu)點(diǎn)在于可以取決于例如要去除的流體的粘度和化學(xué)成分等因素使用不同的清理操作。
本發(fā)明的還一個(gè)技術(shù)優(yōu)點(diǎn)在于可以提供一涂刷機(jī)構(gòu)，以確保在進(jìn)行一涂覆操作之前在擠壓頭形成一穩(wěn)定的流動(dòng)條件和合適的涂覆頭。
本發(fā)明的又一個(gè)技術(shù)優(yōu)點(diǎn)在于在擠壓頭上適當(dāng)涂刷所述卷邊可以防止當(dāng)涂覆一基板時(shí)產(chǎn)生導(dǎo)向邊異常。
以上總體描述了本發(fā)明的技術(shù)優(yōu)點(diǎn)和特征，以便可以理解本發(fā)明的細(xì)節(jié)。從本發(fā)明下面的權(quán)利要求中將描述本發(fā)明另外的特征和優(yōu)點(diǎn)。應(yīng)理解本領(lǐng)域的技術(shù)人員在不背離本發(fā)明范圍和實(shí)旨的前提下可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行改變。本發(fā)明的技術(shù)人員還可以理解在不背離本發(fā)明宗旨和范圍的情況下這種改變位于本發(fā)明范圍中。
為了更完全地理解本發(fā)明以及其優(yōu)點(diǎn)，下面參照附圖描述本發(fā)明，其中

圖1示出本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例的一清理和涂刷組件的立體圖。
圖2示出本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例的一清理和涂刷組件的剖視圖。
圖3示出本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例的一清理和涂刷組件的實(shí)施方式。
圖4示出本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例的清理和涂刷組件位于一擠壓頭附近的實(shí)施方式。
圖5示出本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例的一擠壓頭位于一涂刷裝置附近的一正視圖。
圖6A示出本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例的一涂刷輥?zhàn)拥囊粋?cè)視圖。
圖6示出本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例的一涂刷站的一剖視圖。
圖7示出本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例的一擠壓頭清理組件的一剖視圖。
圖8示出本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例的一擠壓頭擦拭站的局部立體圖。
圖9示出本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例的一擠壓頭位于一擦拭站中的清理位置。
圖10示出本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例的一擦拭站。
圖11示出本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例的沖洗站的一剖視圖。
圖12示出本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例的沖洗站的剖視圖。
圖13示出本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例的一沖洗站的一立體圖。
圖14示出本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例的一沖洗站的一立體圖。
圖1示出根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例的一清理和涂刷組件的一立體圖。在此實(shí)施例中清理和涂刷組件100包括一由擦拭器103構(gòu)成的第一清理站，一由沖洗器102構(gòu)成的第二清理站，以及一涂刷裝置或站101和一保養(yǎng)槽104。保養(yǎng)槽104最好用于在一擠壓頭、涂覆頭或分配頭上進(jìn)行不能在涂刷或清理站上進(jìn)行的維修和/或清理。
在圖1中所示的各個(gè)站的順序的有利之處在于一個(gè)擠壓頭或其他類型的分配頭可以在擦拭站103開始，并繼續(xù)在離開保養(yǎng)槽104的方向中移動(dòng)并在涂刷站101進(jìn)行涂刷操作而結(jié)束。但是不需要特別的機(jī)械裝置布置。各個(gè)站可以以任何便于一個(gè)特別的擠壓頭的處理或適于特別的涂覆操作的順序設(shè)置。
圖2示出本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例的一清理和涂刷組件200的剖視圖。各個(gè)工作站以同圖1中相同的順序設(shè)置，其中從右至左分別是保養(yǎng)槽104，擦拭站103，沖洗站102以及涂刷站101。此優(yōu)選實(shí)施例的驅(qū)動(dòng)裝置或電機(jī)201在右邊遠(yuǎn)處示出。在一優(yōu)選實(shí)施例中，擦拭、沖洗以及涂刷站都從一個(gè)共同的驅(qū)動(dòng)裝置接收其各自操作所需的動(dòng)力。每個(gè)工作站則都使用適當(dāng)?shù)臋C(jī)械聯(lián)接件將主機(jī)械動(dòng)力源與擦拭和涂刷站中的旋轉(zhuǎn)裝置以及沖洗和擦拭站中的泵液裝置相連?；蛘撸謇砗屯克⒔M件100中的每個(gè)工作站可以有單獨(dú)和獨(dú)立的驅(qū)動(dòng)裝置。在不偏離本發(fā)明范圍的前提下可以進(jìn)行各種使許多不同的裝置組合用于不同的驅(qū)動(dòng)裝置的組合的變化型式。
圖3示出了本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例的清理和涂刷組件100的實(shí)施方式。在一涂覆設(shè)備的可能的實(shí)施例中，涂覆設(shè)備的濕部件設(shè)置在一個(gè)可移動(dòng)地連接在一個(gè)包含涂覆設(shè)備的裝置的平衡塊的工作站上的流體車上，這在上述參考的名為“SYSTEM AND METHOD FORINTERCHANGEABLY INTERFACING WET COMPONENTS WITHA COATING APPARATUS”的專利申請(qǐng)中詳細(xì)描述。在此情況下，清理和涂刷組件100最好設(shè)置在如圖3所示的流體車上，在此實(shí)施例中，清理和涂刷組件的特征可以用一個(gè)特定的擠壓頭以及特定的涂覆液構(gòu)成，因?yàn)橥扛惨汉蛿D壓或分配頭都與一特定的流體車300相連。
當(dāng)擠壓頭和涂覆液相同時(shí)本發(fā)明中可能的變化包括確定是否一擦拭站是必要的，因?yàn)椴潦谜居糜诟承缘牧黧w。如果要包括一擦拭站，擦拭器的尺寸以及與相對(duì)的彼此設(shè)置的擦拭器的鄰近距離可以調(diào)整以適合分配頭。沖洗站的尺寸同樣可以調(diào)整以適合在此工作站要使用的擠壓頭。此外，在所有的擦拭、沖洗和涂刷站的溶劑的選擇在當(dāng)要由其溶解的涂覆液相同時(shí)可以最有效地得到選擇。但本發(fā)明不限于用于流體車上。在一個(gè)包括一可移動(dòng)連接的流體車的涂覆設(shè)備的變化的實(shí)施例中，清理和涂刷站100可以放置在包括例如夾住要涂覆的基板的夾頭的工作站上并與許多不同的擠壓頭和涂覆液一起使用。
本發(fā)明可以用于較寬范圍的涂覆設(shè)備結(jié)構(gòu)，并且決不限于用于上述流體車上。在一個(gè)變化的優(yōu)選實(shí)施例中，涂覆設(shè)備可以是一整件設(shè)備。相應(yīng)地，清理和涂刷組件可以一體地構(gòu)造在一個(gè)涂覆設(shè)備結(jié)構(gòu)中?；蛘?，盡管位于可接近擠壓頭下一個(gè)位置附近，清理和涂刷組件可以獨(dú)立于夾頭、擠壓頭以及流體輸送設(shè)備。
在一優(yōu)選實(shí)施例中，清理和涂刷組件是固定的，至少在一個(gè)單獨(dú)的涂覆操作中如此，而擠壓頭移過清理和涂刷組件，由于特定的擠壓頭和涂覆操作的需要到達(dá)并進(jìn)入每個(gè)工作站中。在此實(shí)施例中，清理和涂刷組件位于由一個(gè)夾頭支撐的基板之上的擠壓涂覆路徑的范圍之外。在選定的時(shí)間，例如在涂覆操作之間，一個(gè)機(jī)構(gòu)可以將此擠壓頭移出涂覆操作的范圍之外以接近清理和涂刷組件。
在一變化的實(shí)施例中，當(dāng)擠壓頭需要清理和/或涂刷時(shí)清理和涂刷組件移入擠壓路徑的涂覆操作路徑范圍中，并當(dāng)擠壓頭準(zhǔn)備開始一涂覆操作時(shí)從此路徑范圍中移出。由此實(shí)施例，組件只能位于兩個(gè)位置一個(gè)是為擠壓頭服務(wù)區(qū)，第二個(gè)放置在涂覆操作路徑之外。所需的清理和涂刷組件的運(yùn)動(dòng)可以由許多移動(dòng)裝置完成，包括但不限于一個(gè)連在一個(gè)或多個(gè)氣缸上的傳送裝置，一個(gè)電機(jī)，液壓和手動(dòng)操作。
在擠壓頭與清理和涂刷站之間相對(duì)運(yùn)動(dòng)的需要不需要通過只移動(dòng)兩個(gè)實(shí)體中的一個(gè)而滿足?？梢杂性S多構(gòu)形，其中采用許多運(yùn)動(dòng)組合，包括清理和涂刷組件以及擠壓頭彼此相對(duì)的直線和傾斜運(yùn)動(dòng)的組合，以使二者一起為擠壓頭工作，并使它們足以分開以便不干涉清理和涂刷組件而進(jìn)行涂覆操作。這種組件或工作站移動(dòng)以及擠壓頭移動(dòng)的組合以及直線運(yùn)動(dòng)和傾斜運(yùn)動(dòng)的組合用于下述的一個(gè)變化的實(shí)施例中。
圖4示出在本發(fā)明一變化的實(shí)施例的擠壓頭410附近的清理和涂刷站420的實(shí)施方式。在此實(shí)施例中，通過繞一軸線411轉(zhuǎn)動(dòng)一擠壓頭410直到擠壓頭的分配槽位于涂刷輥?zhàn)?21附近而使擠壓頭410接近涂刷站420。涂刷站420最好沿一涂刷站和一涂覆站之間的一直線軸移動(dòng)。在涂覆過程中，涂刷站420在圖4的構(gòu)形中移到右邊至其涂覆位置，以便不與由擠壓頭410進(jìn)行的涂覆相涉。而對(duì)涂刷，涂刷站420移至其涂刷位置(在圖4的構(gòu)形中向左)，以到達(dá)擠壓頭410對(duì)涂覆卷邊進(jìn)行涂刷。
圖5示出根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例位于一涂刷裝置附近的一擠壓頭501的正視圖500。擠壓頭501將涂覆材料504擠壓在浸在流體通道503中的涂刷輥?zhàn)?02上。當(dāng)涂刷輥?zhàn)?04將沉積在輥?zhàn)?02上的涂覆流體504浸入流體通道503中時(shí)，流體通道503用于清理涂刷輥?zhàn)?04的表面。當(dāng)涂刷輥?zhàn)?02在流體通道503中轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，多個(gè)機(jī)械裝置(未示出)用于進(jìn)一步清理涂刷輥?zhàn)?。?dāng)涂覆液或材料的液卷邊在擠壓頭的擠壓幾何形狀或擠壓槽505上充滿并均勻時(shí)，可以對(duì)擠壓頭501適當(dāng)?shù)赝克ⅰ?br> 當(dāng)進(jìn)行實(shí)際涂覆操作時(shí)，擠壓頭501上的擠壓槽505與輥?zhàn)?02上的最近點(diǎn)之間的間隙盡可能接近擠壓頭槽與一基板之間的頭部間隙。仔細(xì)保持間隙506的尺寸可以保持在涂刷頭部時(shí)產(chǎn)生的涂覆活動(dòng)的仿真精度。
從擠壓頭501擠壓出涂覆液504最好連續(xù)進(jìn)行，直到以前確定的表示一個(gè)合適的涂覆卷邊位于擠壓點(diǎn)上的一組條件得以實(shí)現(xiàn)。最好，用于結(jié)束涂刷操作的條件經(jīng)過一段預(yù)定的時(shí)間?；蛘?，結(jié)束涂刷的條件是擠壓一預(yù)定量的流體。用于確定結(jié)束涂刷操作的條件的參數(shù)可以包括但不限于擠壓槽505的寬度，涂覆液504的粘度，以及擠壓頭和隨后要用于涂覆操作的基板之間的頭部間隙。
另一個(gè)用于確定完成涂刷過程的選擇包括使用擠壓頭501中的感應(yīng)機(jī)構(gòu)以感應(yīng)一個(gè)完整的涂覆卷邊的存在，包括但不限于設(shè)置成觀察涂覆頭的一顯示裝置，或擠壓頭中的接觸或壓力傳感器。另一個(gè)用于確定完成涂刷過程的機(jī)構(gòu)包括使用一個(gè)顯示裝置或接觸傳感器感應(yīng)輥?zhàn)?02上或其他涂刷表面上的涂覆。確定輥?zhàn)?02上的涂覆材料504處于適當(dāng)?shù)男问娇梢杂糜诒砻鲾D壓頭的涂刷成功完成。
圖6示出本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例的涂刷站的一剖視圖。涂刷輥?zhàn)?01浸在一溶劑池中并在圖6中順時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng)。擠壓頭(未示出)最好以盡可能接近擠壓頭在要在下一個(gè)涂覆操作中涂覆的基板之上的高度的一個(gè)高度放置在輥?zhàn)?01之上。輥?zhàn)?01當(dāng)其頂部轉(zhuǎn)向涂刷603時(shí)從擠壓頭接收涂覆材料。涂刷603從輥?zhàn)?01上去除大多數(shù)涂覆材料。于是輥?zhàn)由弦呀?jīng)過涂刷603的點(diǎn)與刮具605相遇，刮具605最好從正與其相接觸的輥?zhàn)?01的部分上去除幾乎所有剩余的涂覆材料。由涂刷603和刮具605從輥?zhàn)?01上去除的涂覆材料分散到溶劑池中(未示出)并逐漸溶入所述池中。在其逆時(shí)針轉(zhuǎn)向(圖6中)已經(jīng)過刮具605的輥?zhàn)?01上的點(diǎn)則與刮片602相遇，刮片602最好基本從輥?zhàn)?01上的此點(diǎn)去除所有剩余的溶劑。
除了靠在輥?zhàn)?01上轉(zhuǎn)動(dòng)外，涂刷603還最好靠在一個(gè)葉片604上與涂刷輥?zhàn)?01同方向(在此為逆時(shí)針)轉(zhuǎn)動(dòng)，葉片604最好去除仍附著在涂刷603上的任何涂覆材料，這樣已轉(zhuǎn)過葉片604的涂刷部分就很清潔，可以有效地從輥?zhàn)由先コ牧?，在轉(zhuǎn)過葉片604后涂刷603的周邊上的一點(diǎn)將與其接觸。
最好，輥?zhàn)?01周邊上已轉(zhuǎn)過涂刷603、刮具605和刮片602的一點(diǎn)上殘留的涂覆材料在此點(diǎn)它從一擠壓頭接受涂覆材料之前溶在溶劑中。盡管最好要從擠壓頭上接受涂覆液的涂刷輥?zhàn)?01上的此點(diǎn)應(yīng)完全不帶有涂覆液，但涂刷站通常在即使殘留一些少量的涂覆液時(shí)仍可以有效工作。涂刷603、刮具605、刮片602以及溶劑池中的浸液會(huì)有效防止涂覆材料沉積在輥?zhàn)由?，而且在其之間最好去除幾乎所有的輥?zhàn)由系耐扛惨骸?br> 圖6的描述集中在一個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)的缸體涂刷輥?zhàn)由稀５景l(fā)明不限于此實(shí)施例。在各種變化的實(shí)施例中一涂刷表面和擠壓頭之間的所需相對(duì)運(yùn)動(dòng)可以由不同于一旋轉(zhuǎn)的圓形輥?zhàn)拥母鞣N裝置取得，包括但不限于一個(gè)纏繞在兩個(gè)或多個(gè)輥?zhàn)由系膸?，輥?zhàn)釉跀D壓頭下經(jīng)過，就好象擠壓頭經(jīng)過了一段要涂覆的材料的距離。這樣一種帶可以以與一種踏車相同的方式工作，其中一組平行的輥?zhàn)油较蜣D(zhuǎn)動(dòng)，在擠壓頭下驅(qū)動(dòng)帶進(jìn)入一個(gè)流體池中，然后最好與一個(gè)帶清理裝置接觸，最好是一個(gè)刮片和/或涂刷。帶可以連續(xù)轉(zhuǎn)動(dòng)，這樣盡管需要一個(gè)較大的落腳點(diǎn)，但可以完成與輥?zhàn)酉嗤墓δ堋?br> 或者，對(duì)涂覆液沉積的一個(gè)表面可以線性地在擠壓頭下前后移動(dòng)，其中其上具有涂覆材料的表面的每一部分在擠壓頭下向后移動(dòng)以接受更多的涂覆液之前被清理。另一種變化的實(shí)施例涉及使擠壓頭相對(duì)一通常固定的涂刷表面移動(dòng)，其中在這種液體沉積后其上沉積有涂覆液的涂刷表面的部分盡可能快地被清理，從而為下一次擠壓頭的經(jīng)過準(zhǔn)備此部分涂刷表面。
在一優(yōu)選的實(shí)施例中，用于涂刷站中的液體是一種能完全溶解沉積在用于許多這種涂刷操作的涂刷表面上的涂覆液的強(qiáng)力溶劑。在預(yù)先選定數(shù)量的涂覆操作后，用于涂刷站中的溶劑由一個(gè)新的供應(yīng)取代?；蛘?，液體可以是化學(xué)性質(zhì)為惰性并幫助涂刷或其他涂刷表面清理裝置從涂刷表面上去除涂覆液。在此情況下所用的液體最好比涂覆液輕，這樣涂覆液會(huì)沉積在一普通的液體腔底部。或者，涂覆液會(huì)由適當(dāng)?shù)难b置從涂刷站過濾掉并貯存下來用于以后從液體站取出并可以回收或再循環(huán)利用。
在圖6的實(shí)施例中，清理表現(xiàn)為一涂刷輥?zhàn)?01的涂刷表面由涂刷603、刮具605、以及刮片602的組合完成。但本發(fā)明不限于這些涂刷表面清理裝置。許多其他的涂刷表面清理機(jī)構(gòu)可以設(shè)置成接近或接觸涂刷表面，包括但不限于最好相對(duì)于所述涂刷表面或者直線或者傾斜運(yùn)動(dòng)的海綿、葉片、高壓射流或刮片。
在圖6的實(shí)施例中，清理一個(gè)涂刷表面清理裝置涂刷603通過使用設(shè)置成從涂刷刮去殘余涂覆材料的葉片604完成。使用用于清理反過來清理涂刷表面的機(jī)構(gòu)的多個(gè)裝置，包括但不限于涂刷、葉片、圓柱形或其他形狀的海綿、高壓射流或刮片。
在本發(fā)明另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，擠壓頭的涂刷可以在一個(gè)擠壓清理站內(nèi)進(jìn)行，從而避免需要一個(gè)單獨(dú)的涂刷站。這在下面描述擠壓頭清理站時(shí)詳細(xì)討論。
圖6A示出了本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例的涂刷輥?zhàn)?11。為了與隨分配頭兩端的距離增大的分配頭中的預(yù)期的下垂相匹配，希望一個(gè)輥?zhàn)踊蛘哂捎跈C(jī)構(gòu)設(shè)計(jì)的結(jié)果或者在輥?zhàn)颖恢蔚奈恢迷谥胁肯麓埂?br> 圖6A示出了由于本身重量及主要在點(diǎn)613和614被支撐的結(jié)果而下垂的輥?zhàn)?11。重力的影響使輥?zhàn)?11在除了點(diǎn)613和614處基本沿其全長彎曲或下垂。下垂或彎曲沿輥?zhàn)?01的長度隨著與支撐點(diǎn)613和614的距離而增大。下垂可以通過觀察沿輥?zhàn)?11的長度在虛線615和實(shí)線616之間的任何點(diǎn)的距離而看見。虛線615是表示沿輥?zhàn)由媳砻娴母叨赛c(diǎn)，就好象輥?zhàn)油耆莿傂圆⑶移渖媳砻嫱耆P直。盡管幾乎沿輥?zhàn)尤L都有下垂，在輥?zhàn)又凶畲蟮淖冃位蛳麓钩霈F(xiàn)在幾乎為支撐點(diǎn)的中點(diǎn)處并在圖6A中由612標(biāo)注出。
在一優(yōu)選實(shí)施例中，輥?zhàn)?11的材料、特性及尺寸可以選擇，以與要盡可能近地放置在輥?zhàn)?11上的一分配頭中預(yù)期的下垂匹配。一旦輥?zhàn)訕?gòu)造好后改變其中的下垂的方法包括但不限于以要么壓縮要么拉伸(沿輥?zhàn)虞S線在兩端壓或拉)的方式從兩側(cè)沿輥?zhàn)虞S線施加力，并沿其長度在其之下的許多點(diǎn)上支撐輥?zhàn)?11。
圖7示出了本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例的擠壓頭清理組件的一剖視圖。在一優(yōu)選實(shí)施例中，清理組件700包括一擦拭站710和一沖洗站730，最好它們都與一公共驅(qū)動(dòng)裝置或電機(jī)701相連，對(duì)于沖洗站730，與驅(qū)動(dòng)裝置701的連接涉及用于驅(qū)動(dòng)在沖洗站730中循環(huán)沖洗劑的泵的裝置。
擦拭站710最好包括兩個(gè)圓柱形涂刷711，與浸在最好包括一強(qiáng)溶劑的液體池(未示出)中的擠壓頭(未示出)的兩個(gè)外表面接觸。兩個(gè)涂刷711最好反向轉(zhuǎn)動(dòng)，在圖7中包括左擦拭件順時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng)而右擦拭件逆時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng)，從而當(dāng)擠壓頭設(shè)置在兩個(gè)涂刷711之間時(shí)將從由兩個(gè)涂刷711從擠壓頭上去除下的涂覆材料導(dǎo)向涂刷711之間及其之下的一個(gè)區(qū)域中。去除的涂覆材料則最好溶于溶劑池中。
在擦拭站710中每個(gè)涂刷711最好靠在一個(gè)涂刷清理裝置上轉(zhuǎn)動(dòng)，此裝置最好是一個(gè)設(shè)置成當(dāng)其轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)與涂刷接觸的葉片或其他實(shí)體件，從而從每個(gè)涂刷上去除涂覆液。以此方式去除的涂覆材料最好由一股溶劑流帶走并溶入溶劑池中。此溶劑最好經(jīng)過處理并過濾以保持溶劑的化學(xué)強(qiáng)度處于一充足的水平，以繼續(xù)處理從擠壓頭上去除的涂覆材料的溶解?；蛘?，溶解的材料可以保持在擦拭站中溶解，直到溶劑被更換。
沖洗站730包括一個(gè)清理槽731，在沖洗過程中擠壓頭放入槽中，還包括一個(gè)液體容器，以及一個(gè)用于覆蓋整個(gè)要在擠壓頭上清理的表面的液體傳送設(shè)備。將在下面詳細(xì)討論沖洗站。
圖8示出了本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例的擠壓頭擦拭站的局部立體圖。
圖9示出了在本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例的擦拭站中的清理位置中的擠壓頭901。擠壓頭901在清理位置中示出緊挨著擦拭裝置903，擦拭裝置903與在擠壓頭901上要清理的表面904接觸。
在一優(yōu)選實(shí)施例中，擦拭裝置903是涂刷，并且使用兩個(gè)這樣的涂刷，在擠壓頭901兩側(cè)各有一個(gè)?；蛘撸梢允褂萌魏螖?shù)量的擦拭裝置903并設(shè)置成沿?cái)D壓頭901的外表面在許多點(diǎn)上與要清理的表面904接觸。在擠壓頭兩側(cè)上使用的擦拭裝置的數(shù)量不需要相同。
在一優(yōu)選實(shí)施例中，擦拭裝置903是涂刷，包括與擠壓頭表面904接觸的硬毛，選擇成既用于最佳的涂覆材料的去除，又用于防止損壞所述的擠壓頭表面904的需要?；蛘?，擦拭裝置可以包括清理機(jī)構(gòu)，包括但不限于轉(zhuǎn)動(dòng)的圓柱形海綿，從擠壓頭表面刮去材料的柔性邊，或者只有當(dāng)在擠壓頭表面上被削尖時(shí)才噴射溶劑液的高壓非接觸射流。
在一優(yōu)選實(shí)施例中，擦拭裝置的軸線相對(duì)于擦拭站外殼固定。最好，許多的擦拭裝置的固定軸線的位置以及其本身的尺寸可以根據(jù)特定的擠壓頭尺寸而調(diào)整?；蛘撸潦醚b置903的軸線位置和尺寸可以設(shè)置成包括可以容裝所有擦拭裝置將清理的擠壓頭的數(shù)值。
在一變化的實(shí)施例中，擦拭裝置的軸線可以移動(dòng)以容納不同尺寸的擠壓頭。軸線可以在彈簧載荷下根據(jù)擠壓頭901在清理位置中的位移移動(dòng)。或者，擦拭裝置可以在某些形式的活動(dòng)控制下移動(dòng)，控制形式包括但不限于氣動(dòng)、電動(dòng)、液壓、重力。
在一優(yōu)選實(shí)施例中，擦拭站包括用于從一容器向擦拭站循環(huán)溶液以對(duì)其清理并噴射或傳導(dǎo)溶液至擠壓頭901上要清理的表面904上的泵出裝置。以此方式，擦拭作用及溶劑的化學(xué)作用一起最佳地清理擠壓頭表面904。
在一擦拭站的優(yōu)選實(shí)施例中，強(qiáng)力溶劑用于滿足清理高粘性液體的需要。這種強(qiáng)力溶劑能有效溶解粘性液體但具有一旦擦拭站工作完成后在擠壓頭表面904上留下殘余溶劑的效果。在一變化的實(shí)施例中，可以使用一種自干燥溶劑，在幫助擦拭裝置去除涂覆液后可以完全蒸發(fā)而不需要外界幫助。
在一優(yōu)選實(shí)施例中，如上所述，需要圓柱形擦拭裝置、最好是涂刷的轉(zhuǎn)動(dòng)而在擦拭裝置和擠壓或涂覆頭之間提供相對(duì)運(yùn)動(dòng)?；蛘?，所需的相對(duì)運(yùn)動(dòng)可以由不同幾何尺寸的不同裝置的擦拭裝置提供，包括直線運(yùn)動(dòng)，旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)或者是直線運(yùn)動(dòng)和旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)的組合。相對(duì)運(yùn)動(dòng)還可以由涂覆頭靠在一個(gè)幾乎或完全固定的擦拭裝置上的運(yùn)動(dòng)或由涂覆頭和擦拭裝置之間的組合運(yùn)動(dòng)提供。
如前所述，擠壓頭的涂刷最好在涂刷站(圖6)進(jìn)行。但是在一變化的優(yōu)選實(shí)施例中，擠壓頭可以在位于擦拭站時(shí)進(jìn)行涂刷工作。至擠壓頭的液體傳送裝置從擠壓頭槽902擠出涂覆材料直到在擠壓槽902上的涂覆頭適當(dāng)?shù)匦纬?。在所述涂刷過程中釋放的涂覆材料最好被吸入擦拭站溶劑池中并溶解。以此方式對(duì)擠壓頭涂刷避免了需要擠壓頭在涂刷站進(jìn)行單獨(dú)的停頓。涂刷操作可以與擦拭操作連續(xù)進(jìn)行或與其同時(shí)發(fā)生。
圖10示出了本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例的擦拭站。示出兩個(gè)擦拭件1002，其運(yùn)動(dòng)與連在每個(gè)擦拭件1002上的鏈輪1001上的齒相互鎖住。流體入口1003使溶劑流體可以進(jìn)入擦拭站中，而流體出口1004使用過的流體可以離開擦拭站。
圖11示出了本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例的沖洗站1100的剖視圖。擠壓頭1101的端部放入沖洗站1100的一個(gè)基本為V形的槽1102中?？梢岳斫釼形槽1102是用于從流體容器1103向擠壓頭1101上的要清理的表面分配溶劑流體的優(yōu)選結(jié)構(gòu)，并且圖中所示可以幫助本領(lǐng)域技術(shù)人員理解本發(fā)明。但是根據(jù)本發(fā)明的精神可以使用其他結(jié)構(gòu)的沖洗站。
溶劑流體最好開始時(shí)保留在一個(gè)流體容器1103中。最好，流體泵出或壓力裝置(未示出)向流體容器提供足夠的壓力以使流體可以以適當(dāng)?shù)乃俣鹊竭_(dá)要清理的表面。
在一優(yōu)選實(shí)施例中，溶劑最好從容器1103向上沿幾乎豎直的槽1104泵至流體支管1105。在支管或槽1105中的流體則導(dǎo)向要清理的表面。噴射路徑1106表示從流體支管1105向要清理的表面的一個(gè)流體路徑。路徑1106可以是流體支管1105幾何形狀、流體粘度、流體速度以及擠壓表面至流體支管1105的出口距離的綜合產(chǎn)物。最好是一個(gè)矩形槽的流體支管1105的幾何形狀、流體壓力和速度以及擠壓頭表面的位置最好設(shè)置成使一個(gè)連續(xù)的流體幕簾沿噴射路徑1106沿?cái)D壓頭的整個(gè)長度沖擊要清理的表面。在圖11中，長度尺寸是在進(jìn)入及離開紙面的方向中。沿噴射路徑1106沿?cái)D壓頭1101提供一個(gè)連續(xù)的流體幕簾可以幫助確保均勻和完整的擠壓頭的清理。
豎直槽1104、支管1105以及噴射路徑1106的組合只是一種可能的將溶劑容器1103連至擠壓頭1101上的流體流動(dòng)結(jié)構(gòu)?；蛘?，槽1104不需要幾乎是豎直的，而是只需要設(shè)置成將壓力流體或者導(dǎo)至一支管1105，或者導(dǎo)向要清理的表面。槽1104可以具有任何橫截面的幾何形狀，包括但不限于圓形、橢圓形或矩形。將流體從流體容器1103導(dǎo)至擠壓頭1101的流體流動(dòng)結(jié)構(gòu)可以包括許多不同的路徑、橫截面幾何形狀及尺寸。相應(yīng)地，本發(fā)明不限于圖11中所示的結(jié)構(gòu)。
在另一優(yōu)選實(shí)施例中，用于將流體導(dǎo)向擠壓頭1101上要清理的表面的裝置包括將溶劑從溶劑池1103導(dǎo)入一個(gè)滲透的或燒結(jié)材料中(未示出)。當(dāng)受壓力時(shí)，燒結(jié)材料向擠壓頭1101上要清理的表面提供一個(gè)流體流動(dòng)幕簾。
在一優(yōu)選實(shí)施例中，使用一個(gè)泵將溶劑從一個(gè)容器中泵向擠壓頭表面。所述泵的動(dòng)力源可以是用于整個(gè)清理和涂刷組件的公用驅(qū)動(dòng)裝置或電機(jī)201(圖2)，或者可以用于沖洗站1100。
在一優(yōu)選實(shí)施例中，用于沖洗站1100的溶劑包括一種化學(xué)成分，它可以使溶劑快速揮發(fā)并同時(shí)能分解任何殘余的擦拭站溶劑及某些粘性較小的涂覆流體。此實(shí)施例的溶劑最好在當(dāng)操作結(jié)果需要既在擦拭站又在沖洗站為擠壓頭服務(wù)時(shí)使用。此實(shí)施例溶劑的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)在于不需要額外的步驟從擠壓頭上去除沖洗溶劑，因?yàn)樗梢宰园l(fā)干燥和揮發(fā)。
或者，沖洗站可以使用一種更有作用但自干燥或揮發(fā)性較弱的溶劑，它可以比完全自干燥的溶劑去除更多的粘性涂覆流體。此溶劑具有能直接分解更大范圍的涂覆流體的優(yōu)點(diǎn)，并能使擠壓頭為此更大范圍的涂覆流體略過在擦拭站的工作。這種更有力的沖洗溶劑可以需要額外的干燥以確保從擠壓頭表面完全去除沖洗溶劑。
如前所述，擠壓頭的涂刷最好在涂刷站(圖6)進(jìn)行。但在一變化的優(yōu)選實(shí)施例中，擠壓頭可以在位于沖洗站1100時(shí)進(jìn)行涂刷操作。傳至擠壓頭的流體傳送裝置從擠壓頭槽1107中擠出涂覆材料，直到在擠壓槽1107中適當(dāng)形成涂覆卷邊。在所述涂刷過程中進(jìn)行的涂覆材料最好在沖洗站溶劑容器中被吸收并分解。以此方式對(duì)擠壓頭涂刷避免需要擠壓頭在涂刷站中進(jìn)行單獨(dú)的停頓。涂刷操作可以與沖洗操作連續(xù)進(jìn)行或與之同時(shí)進(jìn)行。
圖12示出了本發(fā)明一變化的優(yōu)選實(shí)施例的沖洗站的剖視圖。圖中示出擠壓頭1101放入沖洗站的清理槽1102中。當(dāng)需要額外對(duì)擠壓頭1102干燥時(shí)，最好在擠壓頭1101中的槽1202之下的一個(gè)通道中最好在以1201所示的方向中產(chǎn)生氣流。氣流加速蒸發(fā)擠壓頭上的任何殘余沖洗溶劑。以所述方式的額外干燥最好在當(dāng)使用較弱蒸發(fā)或自干燥沖洗溶劑的情況下進(jìn)行。
在一優(yōu)選實(shí)施例中，沖洗溶劑或者在流體容器中或者在某些在容器及流體噴到擠壓頭上的點(diǎn)之間的點(diǎn)上加熱。加熱溶劑可以加快流體的清理作用并使流體更快速地蒸發(fā)，這樣最好避免需要?dú)饬鞲稍餂_洗溶劑。
另外或是或者，可以向溶劑清理作用傳遞超聲能，從而對(duì)清理操作供能并加速操作。擠壓頭會(huì)振動(dòng)并從而開始超聲清理作用，或者或是另外，超聲能可以由不間斷的沖洗溶劑流體在沖洗站中產(chǎn)生并傳遞給擠壓頭上的清理作用。
取決于要清理的涂覆流體的類型，在清理和涂刷組件中使用的工作站可以改變。當(dāng)要清理一種粘性涂覆流體時(shí)，組件最好包括一個(gè)擦拭站，因?yàn)椴潦眉闹苯訖C(jī)械接觸對(duì)粘性流體有幫助。擦拭站最好包括一種用于分解粘性流體的強(qiáng)力溶劑。如果用于擦拭站中的溶劑是非自干燥型的，或者如果在擦拭操作之后在擠壓頭上留有涂覆流體，在清理和涂刷組件中最好使用一個(gè)沖洗站。
或者，清理和涂刷組件包括一整套涂刷和清理站，但涉及的涂覆操作會(huì)決定由擠壓取得的涂覆站以及順序。
沖洗站最好使用在離開沖洗站后不需要額外的作用的溶劑。避免需要另外的作用可以通過使用一種快速揮發(fā)溶劑、加熱溶劑以及沖洗過程的超聲攪拌的任何組合而取得。在一種粘性涂覆流體的情況下，沖洗站最好既能去除擠壓頭上的殘余涂覆流體，又能去除其上的擦拭站流體。
清理和涂刷組件最好包括一種用于對(duì)涂覆流體卷邊進(jìn)行涂刷的涂刷站?；蛘撸梢詫?duì)一涂刷流體卷邊進(jìn)行涂刷同時(shí)擠壓頭位于任一個(gè)清理站中。在清理站中涂刷最好可以用于特定粘度的流體。如果提前獲悉涂刷將在一個(gè)清理站時(shí)特定粘度的流體而進(jìn)行，所述涂刷站可以從清理和涂刷組件中略去，或者針對(duì)對(duì)擠壓頭的服務(wù)簡(jiǎn)單地在操作中略去。
對(duì)較弱粘性的涂覆流體，可以不需要擦拭站。因此，擦拭站可以從清理和涂刷組件中省略掉，其中組件與一種特定的流體相連一段延長的時(shí)間?；蛘?，擦拭站可以包括在組件中但在針對(duì)對(duì)擠壓頭服務(wù)的操作中略去。當(dāng)略去擦拭操作時(shí)，擠壓頭最好首先由沖洗站服務(wù)，然后同時(shí)或隨后涂刷。
取決于擠壓頭中的涂覆材料以及用于清理站中的溶劑，可以有一個(gè)較廣范圍的操作結(jié)果，通常，擠壓頭的處理包括最小在一個(gè)清理站停止，或者是擦拭站或者是沖洗站。其他的服務(wù)停頓可以根據(jù)涂覆流體的需要而增加?？赡艿牟僮鹘Y(jié)果包括但不限于擦拭、沖洗以及涂刷(在涂刷站)；擦拭和涂刷(在涂刷站)；在擦拭站擦拭同時(shí)涂刷；以及在沖洗站沖洗同時(shí)涂刷。
當(dāng)擠壓頭的特征是公知的并與一個(gè)特定的清理和涂刷組件相關(guān)時(shí)，組件中所有工作站的許多特征可以根據(jù)所述的擠壓頭和涂覆材料而調(diào)整。針對(duì)沖洗站，可以根據(jù)擠壓頭調(diào)整的特征包括但不限于溶劑的選擇，流體傳送設(shè)備，沖洗流體傳至擠壓頭的速度，工作站中槽的尺寸，沖洗流體溫度，以及選擇使用或不使用超聲攪拌以催化清理過程。
針對(duì)擦拭站，可以根據(jù)擠壓頭和涂覆材料而調(diào)整的特征包括但不限于選擇擦拭件的成分及幾何形狀，擦拭件的數(shù)量，在工作中擦拭件的相對(duì)位移，擦拭件移動(dòng)或轉(zhuǎn)動(dòng)速度，擦拭件清理裝置，要使用的溶劑，溶劑傳送裝置，以及用于保持已暴露給涂覆材料的溶劑化學(xué)強(qiáng)度的裝置。
同樣，涂刷站和涂刷操作的特征可以根據(jù)要使用的擠壓頭和涂覆材料而調(diào)整。涂刷操作可以在涂刷站以外的地方進(jìn)行，包括但不限于擦拭和沖洗站?？梢愿鶕?jù)要使用的擠壓頭以及涂覆材料調(diào)整的涂刷站的特征包括但不限于要使用的溶劑池，涂刷表面的幾何形狀和成分，涂刷表面相對(duì)于擠壓槽的相對(duì)速度，用于在涂覆材料在其中分解后保持溶劑的化學(xué)效用的機(jī)構(gòu)，溶劑池的溫度，以及涂刷過程的持續(xù)時(shí)間。如果涂刷操作在涂刷站外進(jìn)行，但在清理站中進(jìn)行，調(diào)整最好包括從擠壓頭擠出涂覆材料同時(shí)進(jìn)行另一個(gè)操作如擦拭或沖洗，以節(jié)省時(shí)間。
本發(fā)明用于清理和涂刷一個(gè)擠壓頭的機(jī)構(gòu)包括用于在清理和涂刷組件中在各個(gè)工作站上控制工作參數(shù)以及用于調(diào)整各個(gè)工作站彼此之間以及以整個(gè)涂覆設(shè)備之間工作的裝置。用于控制這些參數(shù)的裝置可以一體安裝在清理和涂刷組件中，位于涂覆設(shè)備上，遠(yuǎn)離組件和涂覆設(shè)備，或分布在這三個(gè)位置之間。
在擦拭站，要控制的中間參數(shù)包括擦拭裝置的轉(zhuǎn)動(dòng)速度，包括速度和體積流量的流體流動(dòng)控制，溶劑池的溫度控制，擦拭過程的時(shí)間，以及擦拭裝置的直線和傾斜定位。例如，清理粘性流體會(huì)從擦拭件的低轉(zhuǎn)速，溶劑的低流動(dòng)速度、以及高溫溶劑中獲益。較快速的擦拭件轉(zhuǎn)動(dòng)以及較快速的溶劑流動(dòng)會(huì)在處理低粘性流體時(shí)有效并能在較短時(shí)間內(nèi)完成清理工作。
在沖洗站，要控制的中間參數(shù)包括但不限于導(dǎo)向擠壓頭的沖洗溶劑的速度和體積流量，沖洗溶劑的溫度，在擠壓頭清理表面?zhèn)鲗?dǎo)的超聲波的控制，以及沖洗過程的時(shí)間。清理較粘的流體會(huì)從向沖洗過程加入清理催化劑如熱量和超聲波而受益。這些催化劑在清理較低粘性流體時(shí)是無害的但沒有必要。
在涂刷站，要控制的中間參數(shù)包括但不限于涂刷表面相對(duì)于擠壓頭上擠壓槽的速度，擠壓頭和涂刷表面之間的間隙，以及從擠壓頭擠壓出的涂覆材料的速度。例如，以擠壓頭擠壓的涂覆材料的速度最好隨流體粘性的增加而減小。涂刷表面相對(duì)于擠壓頭的速度可以根據(jù)涂覆材料擠壓速度而調(diào)整，并相應(yīng)地對(duì)較高粘性的流體降低。
本發(fā)明的機(jī)構(gòu)提供了在包括擠壓頭的涂覆設(shè)備的控制和在清理和涂刷組件中的工作站里的操作之間的協(xié)調(diào)。協(xié)調(diào)最好包括但不限于使控制裝置能向設(shè)備接通和關(guān)閉電源，包括但不限于擦拭件的轉(zhuǎn)動(dòng)，擦拭和沖洗站中的流體流動(dòng)，以及涂刷輥?zhàn)拥霓D(zhuǎn)動(dòng)。另一個(gè)最好包括協(xié)調(diào)的過程是在整個(gè)涂刷站上對(duì)擠壓頭涂刷的過程。當(dāng)涂刷時(shí)，從擠壓頭擠壓的涂覆材料的速度最好與涂刷表面的移動(dòng)速度一致，在一優(yōu)選實(shí)施例中此移動(dòng)速度是一涂刷輥?zhàn)拥霓D(zhuǎn)速。
或者，涂刷輥?zhàn)拥乃俣纫约霸诟鱾€(gè)工作站其他的操作參數(shù)可以獨(dú)立。具體地，涂刷輥?zhàn)右约安潦醚b置具有恒定速度而不論擠壓頭或涂覆設(shè)備的任何其他部分的操作參數(shù)如何。
應(yīng)該從上述描述中理解，本發(fā)明可以允許用于擠壓涂覆機(jī)構(gòu)的自動(dòng)服務(wù)的設(shè)置可以放置在一個(gè)相對(duì)小的范圍中，從而容易設(shè)置在一個(gè)擠壓涂覆頭的運(yùn)動(dòng)范圍中。相應(yīng)地，可以容易地周期性并在整個(gè)涂覆過程中對(duì)這樣一種擠壓頭服務(wù)，從而提供了一種改進(jìn)的擠壓涂覆。
盡管以上詳細(xì)描述了本發(fā)明及其優(yōu)點(diǎn)，但應(yīng)理解在不脫離本發(fā)明范圍及后面權(quán)利要求限定的宗旨的前提下，可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行許多改變、替換和變化。
權(quán)利要求
1．一種對(duì)一涂覆操作準(zhǔn)備一擠壓頭的設(shè)備，所述設(shè)備包括用于清理擠壓頭的裝置；用于對(duì)擠壓頭涂刷的裝置；用于在一小范圍中并便于一涂覆設(shè)備而設(shè)置清理裝置和涂刷裝置的裝置，以使在涂覆操作之間快速準(zhǔn)備擠壓；以及用于使擠壓頭能接近準(zhǔn)備設(shè)備的裝置。
2．如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，清理裝置包括用于擦拭擠壓頭的裝置。
3．如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，清理裝置包括用于沖洗擠壓頭的裝置。
4．如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，清理裝置包括擦拭裝置；以及沖洗裝置。
5．如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，準(zhǔn)備設(shè)備設(shè)置在一涂覆設(shè)備中。
6．如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，準(zhǔn)備設(shè)備設(shè)置在一個(gè)可去除地連接在一涂覆設(shè)備上的框架上。
7．如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，涂刷裝置包括當(dāng)擠壓頭位于一個(gè)容器之上時(shí)從擠壓頭擠壓涂覆材料而收集所述涂覆材料的裝置。
8．如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，涂刷裝置包括當(dāng)擠壓頭位于一個(gè)清理擠壓頭的裝置之上時(shí)從擠壓頭擠壓涂覆材料的裝置。
9．如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，涂刷裝置包括從擠壓頭擠壓涂覆材料到一相對(duì)于所述擠壓頭可移動(dòng)的涂刷表面，從而形成一相對(duì)可移動(dòng)的涂刷表面。
10．如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，還包括將擠壓頭放置在要涂覆的一個(gè)表面之上基本與擠壓頭相等高度的所述涂刷表面之上的一個(gè)高度上的裝置。
11．如權(quán)利要求9所述的設(shè)備，其特征在于，相對(duì)可移動(dòng)的涂刷表面是一個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)缸體，所述缸體具有兩端。
12．如權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其特征在于，轉(zhuǎn)動(dòng)缸體在兩端被支撐并在兩端之間由于重力而下垂。
13．如權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其特征在于，轉(zhuǎn)動(dòng)缸體被選擇和支撐成可以與在使用所述轉(zhuǎn)動(dòng)缸體要涂刷的一個(gè)分配頭中預(yù)期的下垂一致而下垂。
14．如權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其特征在于，缸體設(shè)置在一個(gè)溶劑池中。
15．如權(quán)利要求14所述的設(shè)備，其特征在于，還包括缸體清理裝置。
16．如權(quán)利要求15所述的設(shè)備，其特征在于，缸體清理裝置包括一個(gè)與所述缸體接觸并可相對(duì)其轉(zhuǎn)動(dòng)的涂刷。
17．如權(quán)利要求9所述的設(shè)備，其特征在于，涂刷裝置容裝在一個(gè)涂刷站中，所述設(shè)備還包括將所述涂刷裝置移入一個(gè)所述擠壓頭可接近的位置中的裝置。
18．如權(quán)利要求9所述的設(shè)備，其特征在于，還包括分解從所述擠壓頭擠壓出的所述涂覆材料的裝置。
19．如權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其特征在于，擦拭裝置包括利用至少一個(gè)擦拭裝置和所述擠壓頭之間的機(jī)械接觸清理所述擠壓頭的裝置。
20．如權(quán)利要求19所述的設(shè)備，其特征在于，所述擦拭裝置包括用于靠在所述擠壓頭上要清理的一個(gè)表面上轉(zhuǎn)動(dòng)至少一個(gè)涂刷的裝置。
21．如權(quán)利要求20所述的設(shè)備，其特征在于，還包括用于清理所述至少一個(gè)涂刷的裝置。
22．如權(quán)利要求20所述的設(shè)備，其特征在于，所述擦拭裝置還包括一個(gè)溶劑池；以及用于將溶劑導(dǎo)向所述至少一個(gè)涂刷和所述擠壓頭之間的一個(gè)接觸區(qū)的裝置。
23．如權(quán)利要求22所述的設(shè)備，其特征在于，用于引導(dǎo)溶劑的裝置包括加熱溶劑的裝置。
24．如權(quán)利要求20所述的設(shè)備，其特征在于，所述至少一個(gè)涂刷包括兩個(gè)涂刷。
25．如權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其特征在于，沖洗裝置是一個(gè)沖洗站，包括一個(gè)盛放沖洗流體的流體容器；以及用于將所述流體導(dǎo)向擠壓頭的裝置。
26．如權(quán)利要求25所述的設(shè)備，其特征在于，還包括在所述流體與擠壓頭接觸之前加熱沖洗流體的裝置。
27．如權(quán)利要求25所述的設(shè)備，其特征在于，還包括在所述流體與擠壓頭接觸時(shí)超聲攪拌沖洗流體的裝置。
28．如權(quán)利要求25所述的設(shè)備，其特征在于，沖洗站還包括一個(gè)槽，其中擠壓頭在沖洗過程中保存在槽中，以重新收取沖洗溶劑。
29．如權(quán)利要求25所述的設(shè)備，其特征在于，引導(dǎo)所述沖洗流體的裝置包括將流體從所述溶劑流體容器導(dǎo)至所述擠壓頭的一流體引流結(jié)構(gòu)。
30．如權(quán)利要求29所述的設(shè)備，其特征在于，流體引流結(jié)構(gòu)包括設(shè)置在流體容器之上并與流體容器連通的豎直槽；以及一個(gè)與豎直槽連通將流體導(dǎo)至擠壓頭的槽。
31．如權(quán)利要求29所述的設(shè)備，其特征在于，流體引流結(jié)構(gòu)包括設(shè)置在流體容器和擠壓頭之間用于向所述擠壓頭產(chǎn)生一個(gè)沖洗流體流動(dòng)幕簾的燒結(jié)材料。
32．如權(quán)利要求25所述的設(shè)備，其特征在于，引導(dǎo)流體的裝置包括一個(gè)泵。
33．如權(quán)利要求25所述的設(shè)備，其特征在于，沖洗流體是自干燥型的。
34．如權(quán)利要求29所述的設(shè)備，其特征在于，還包括使用經(jīng)過擠壓頭表面的氣流干燥沖洗流體的裝置。
35．如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，使能裝置包括將準(zhǔn)備設(shè)置設(shè)置在擠壓頭移動(dòng)范圍中的裝置。
36．如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，涂覆設(shè)備包括移動(dòng)擠壓頭的裝置，所述移動(dòng)裝置具有一個(gè)擠壓頭移動(dòng)范圍。
37．如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，使能裝置包括將準(zhǔn)備設(shè)備移出擠壓頭移動(dòng)范圍以使擠壓頭可以無干涉地涂覆一個(gè)基板的裝置；以及將準(zhǔn)備設(shè)備移入擠壓頭移動(dòng)范圍以為擠壓頭服務(wù)的裝置，其中擠壓頭移動(dòng)裝置將要被服務(wù)的擠壓頭定位在所述準(zhǔn)備設(shè)備中，從而對(duì)擠壓頭提供服務(wù)。
38．如權(quán)利要求37所述的設(shè)備，其特征在于，用于移動(dòng)擠壓頭的裝置包括用于基本直線移動(dòng)擠壓頭的裝置。
39．如權(quán)利要求37所述的設(shè)備，其特征在于，移動(dòng)擠壓頭的裝置包括轉(zhuǎn)動(dòng)擠壓頭的裝置；以及使能裝置包括當(dāng)所述擠壓頭轉(zhuǎn)入一個(gè)準(zhǔn)備位置中時(shí)將所述準(zhǔn)備設(shè)備移入適于擠壓頭接近的位置中的裝置。
40．如權(quán)利要求39所述的設(shè)備，其特征在于，由準(zhǔn)備設(shè)備提供給擠壓頭的服務(wù)包括涂刷。
41．一種用于為與一涂覆設(shè)備相連的一擠壓頭服務(wù)的方法，所述方法包括以下步驟將所述擠壓頭位于一擠壓頭準(zhǔn)備設(shè)備附近；以及自動(dòng)為一涂覆操作準(zhǔn)備擠壓頭，其中準(zhǔn)備設(shè)備包括一個(gè)用于準(zhǔn)備步驟的工作站。
42．如權(quán)利要求41所述的方法，其特征在于，準(zhǔn)備步驟在每個(gè)涂覆操作之間進(jìn)行。
43．如權(quán)利要求41所述的方法，其特征在于，由于準(zhǔn)備步驟最后進(jìn)行，因此準(zhǔn)備步驟在許多涂覆操作進(jìn)行之后進(jìn)行。
44．如權(quán)利要求41所述的方法，其特征在于，包括在擠壓頭準(zhǔn)備設(shè)備上移動(dòng)擠壓頭的步驟。
45．如權(quán)利要求41所述的方法，其特征在于，包括在擠壓頭之下移動(dòng)擠壓頭準(zhǔn)備設(shè)備的步驟。
46．如權(quán)利要求41所述的方法，其特征在于，準(zhǔn)備步驟包括清理擠壓頭的步驟。
47．如權(quán)利要求46所述的方法，其特征在于，清理步驟包括用多個(gè)涂刷擦洗擠壓頭的步驟。
48．如權(quán)利要求47所述的方法，其特征在于，清理步驟還包括在擠壓頭引導(dǎo)流體的步驟，所述流體與所述擦洗步驟一起清理擠壓頭。
49．如權(quán)利要求47所述的方法，其特征在于，擦洗步驟包括靠在所述擠壓頭上轉(zhuǎn)動(dòng)多個(gè)圓柱形涂刷的步驟。
50．如權(quán)利要求47所述的方法，其特征在于，還包括以下步驟從所述柔性圓柱件去除涂覆材料，從而產(chǎn)生去除的涂覆材料；以及在一個(gè)溶劑流體池中分解所述去除的涂覆材料。
51．如權(quán)利要求46所述的方法，其特征在于，清理步驟包括在一指定的沖洗站沖洗擠壓頭上要清理的一個(gè)表面的步驟，從而形成一個(gè)清理表面。
52．如權(quán)利要求46所述的方法，其特征在于，沖洗步驟用流體接觸整個(gè)清理表面。
53．如權(quán)利要求46所述的方法，其特征在于，沖洗步驟包括以下步驟準(zhǔn)備一池溶劑流體；以及將所述溶劑流體導(dǎo)向清理表面。
54．如權(quán)利要求53所述的方法，其特征在于，引導(dǎo)步驟包括通過一沖洗站中的多個(gè)通道循環(huán)流體，所述流體出現(xiàn)在所述清理表面上。
55．如權(quán)利要求53所述的方法，其特征在于，還包括在所述清理表面上產(chǎn)生一個(gè)流體流動(dòng)幕簾。
56．如權(quán)利要求53所述的方法，其特征在于，引導(dǎo)步驟包括引導(dǎo)流體通過燒結(jié)材料。
57．如權(quán)利要求53所述的方法，其特征在于，還包括在所述沖洗步驟前加熱溶劑流體的步驟。
58．如權(quán)利要求53所述的方法，其特征在于，還包括當(dāng)所述流體與清理表面接觸時(shí)超聲攪拌流體的步驟。
59．如權(quán)利要求53所述的方法，其特征在于，包括產(chǎn)生經(jīng)過清理表面的氣流以蒸發(fā)清理表面上的溶劑流體的步驟，氣流被引導(dǎo)成在擠壓支管中不產(chǎn)生氣泡。
60．如權(quán)利要求41所述的方法，其特征在于，準(zhǔn)備步驟包括對(duì)擠壓頭涂刷。
61．如權(quán)利要求60所述的方法，其特征在于，涂刷步驟包括從擠壓頭擠壓涂覆材料直到適當(dāng)形成一涂覆卷邊的步驟，從而產(chǎn)生擠壓的涂覆材料。
62．如權(quán)利要求60所述的方法，其特征在于，涂刷步驟在一個(gè)能貯存擠壓的涂覆材料的容器上進(jìn)行。
63．如權(quán)利要求61所述的方法，其特征在于，涂刷步驟包括在從所述擠壓頭擠壓涂覆材料時(shí)在擠壓頭之下移動(dòng)一個(gè)涂刷表面的步驟。
64．如權(quán)利要求63所述的方法，其特征在于，還包括將擠壓頭定位在所述涂刷表面之上盡可能接近一個(gè)擠壓頭在一擠壓操作中在要涂覆的表面之上的一個(gè)高度的步驟。
65．如權(quán)利要求61所述的方法，包括在擠壓頭之下設(shè)置一個(gè)缸體，其中缸體是一個(gè)涂刷缸；以及轉(zhuǎn)動(dòng)缸體。
66．如權(quán)利要求65所述的方法，其特征在于，還包括將涂刷缸設(shè)置在一個(gè)溶劑池中的步驟。
67．如權(quán)利要求66所述的方法，其特征在于，還包括清理涂刷缸的步驟。
68．一種用于服務(wù)一個(gè)與一涂覆設(shè)備相連的擠壓頭的方法，所述方法包括以下步驟將所述擠壓頭定位在設(shè)備附近用于清理和涂刷擠壓頭；將擠壓頭與多個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)的清理裝置機(jī)械連接；引導(dǎo)用于分解擠壓頭上的涂覆材料的溶劑與所述清理裝置一起清理所述擠壓頭；以及涂刷擠壓頭，從而在擠壓頭上產(chǎn)生一個(gè)完整并均勻的涂覆卷邊。
69．如權(quán)利要求68所述的方法，其特征在于，還包括在一指定的沖洗工作站沖洗擠壓頭的步驟。
70．如權(quán)利要求68所述的方法，其特征在于，對(duì)特定的粘性涂覆材料，服務(wù)步驟包括以下步驟利用擦拭設(shè)備擦拭擠壓頭，同時(shí)擠壓頭將涂覆材料擠入所述擦拭設(shè)備中，從而對(duì)其本身涂刷。
71．如權(quán)利要求68所述的方法，其特征在于，對(duì)較低粘性的材料，服務(wù)步驟包括以下步驟在一指定的沖洗站沖洗擠壓頭；以及在一指定的涂刷站涂刷擠壓頭。
72．用于準(zhǔn)備一個(gè)進(jìn)行涂覆操作的擠壓頭的設(shè)備，設(shè)備包括一用于從擠壓頭上要清理的表面去除粘性涂覆材料的擦拭站，從而形成一清理表面；一用于從所述清理表面去除最終清理溶劑的沖洗站；以及一用于在擠壓頭上產(chǎn)生一個(gè)完整而均勻的涂覆卷邊的涂刷站。
73．如權(quán)利要求72所述的設(shè)備，其特征在于，涂刷站包括局部浸入一溶劑池中的涂刷表面。
74．如權(quán)利要求72所述的設(shè)備，其特征在于，擦拭站包括多個(gè)定位成當(dāng)所述擠壓頭在擦拭站中到位時(shí)與擠壓頭接觸的可轉(zhuǎn)動(dòng)的圓柱形擦拭件。
75．如權(quán)利要求74所述的設(shè)備，其特征在于，擦拭件的尺寸和位置構(gòu)造成可以容裝要清理的擠壓頭。
76．如權(quán)利要求72所述的設(shè)備，其特征在于，沖洗站包括一池沖洗溶劑；將所述沖洗溶劑傳至擠壓頭上要清理的表面的沖洗溶劑。
77．如權(quán)利要求76所述的設(shè)備，其特征在于，還包括一個(gè)槽，在沖洗過程中擠壓頭位于此槽中，以減小準(zhǔn)備設(shè)備的豎直尺寸并可以有效回收沖洗流體。
78．如權(quán)利要求72所述的設(shè)備，其特征在于，還包括一個(gè)響應(yīng)于擠壓頭和一個(gè)涂覆站的特性用于在至少一個(gè)工作站控制操作參數(shù)的裝置。
79．如權(quán)利要求78所述的設(shè)備，其特征在于，還包括使準(zhǔn)備設(shè)備中的操作參數(shù)與一涂覆設(shè)備的操作參數(shù)協(xié)調(diào)一致的裝置。
80．如權(quán)利要求79所述的設(shè)備，其特征在于，協(xié)調(diào)操作參數(shù)的裝置包括用于協(xié)調(diào)從擠壓頭的涂覆材料的擠出與在一涂刷站的一涂刷表面的速度一致的裝置。
81．用于對(duì)一涂覆操作自動(dòng)準(zhǔn)備一擠壓頭的設(shè)備，所述設(shè)備包括清理擠壓頭的裝置；以及涂刷擠壓頭的裝置，其中所述清理裝置和所述涂刷裝置設(shè)置成接近一要涂覆的基板并位于一個(gè)小范圍中，從而在涂覆操作之間可以快速進(jìn)行擠壓頭的準(zhǔn)備。
82．如權(quán)利要求81所述的設(shè)備，其特征在于，清理裝置包括多個(gè)圓柱形涂刷，涂刷設(shè)置成占據(jù)較小的空間并使所述擠壓頭可以與所述多個(gè)清理涂刷接觸，其中所述圓柱形涂刷具有轉(zhuǎn)動(dòng)軸。
83．如權(quán)利要求81所述的設(shè)備，其特征在于，清理裝置還包括在所述擠壓頭主要清理的表面引導(dǎo)溶劑的裝置，其中涂刷與溶劑一起從所述要清理的表面上去除涂覆材料。
84．如權(quán)利要求82所述的設(shè)備，其特征在于，清理裝置還包括一溶劑池；以及通向所述溶劑池以使用過的溶劑被去除和新溶劑導(dǎo)入所述溶劑池的入口和出口。
85．如權(quán)利要求82所述的設(shè)備，其特征在于，所述圓柱形涂刷的轉(zhuǎn)軸相對(duì)于設(shè)備固定。
86．如權(quán)利要求82所述的設(shè)備，其特征在于，所述圓柱形涂刷的轉(zhuǎn)軸相對(duì)于設(shè)備可以移動(dòng)。
87．如權(quán)利要求81所述的設(shè)備，其特征在于，清理裝置包括沖洗所述擠壓頭的裝置。
88．如權(quán)利要求87所述的設(shè)備，其特征在于，沖洗裝置包括一個(gè)在沖洗過程中用于擠壓頭移動(dòng)的凹區(qū)，所述凹區(qū)具有一底部，其中所述凹區(qū)使所述沖洗裝置占據(jù)較小的范圍。
89．如權(quán)利要求88所述的設(shè)備，其特征在于，沖洗裝置還包括沿所述凹區(qū)的底部設(shè)置以允許在沖洗過程中回收流體的裝置。
90．如權(quán)利要求88所述的設(shè)備，其特征在于，沖洗裝置包括向所述擠壓頭上要清理的一個(gè)表面引導(dǎo)一個(gè)連續(xù)的溶劑流動(dòng)幕簾的裝置。
91．如權(quán)利要求88所述的設(shè)備，其特征在于，涂刷裝置包括一個(gè)圓柱形涂刷表面，以占據(jù)最小范圍。
92．如權(quán)利要求91所述的設(shè)備，其特征在于，圓柱形涂刷表面設(shè)置在一溶劑池中，涂刷裝置還包括用于轉(zhuǎn)動(dòng)圓柱形涂刷表面的裝置。
93．如權(quán)利要求91所述的設(shè)備，其特征在于，還包括從擠壓頭上快速去除溶劑以使擠壓頭以最小間隔重新進(jìn)行涂刷操作的裝置。
94．如權(quán)利要求93所述的設(shè)備，其特征在于，還包括安排所述擠壓頭的清理和涂刷以基本與從一夾具去除由所述擠壓頭涂覆的一基板以及將要由所述擠壓頭涂覆的一基板放入所述夾具中同時(shí)進(jìn)行的裝置，其中所述去除一涂覆的基板，所述放置一要涂覆的基板以及由擠壓頭涂覆所述要涂覆的基板代表一個(gè)涂覆設(shè)備的循環(huán)。
95．如權(quán)利要求94所述的設(shè)備，其特征在于，擠壓頭的清理裝置和涂刷裝置對(duì)每一個(gè)涂覆設(shè)備的循環(huán)致動(dòng)一次。
96．如權(quán)利要求94所述的設(shè)備，其特征在于，擠壓頭的清理裝置和涂刷裝置在前一個(gè)致動(dòng)所述清理裝置和所述涂刷裝置后只在完成多個(gè)涂覆設(shè)備循環(huán)后才致動(dòng)。
97．一種為一涂覆操作自動(dòng)準(zhǔn)備一擠壓機(jī)頭的方法，方法包括以下步驟清理擠壓頭；以及涂刷擠壓頭，其中清理和涂刷設(shè)備設(shè)置在一要涂覆的基板附近并且位于較小范圍中，從而使涂覆操作之間的擠壓頭準(zhǔn)備可以快速進(jìn)行。
98．如權(quán)利要求97所述的方法，其特征在于，包括以下步驟設(shè)置圓柱形涂刷以占據(jù)最小空間；以及轉(zhuǎn)動(dòng)所述圓柱形涂刷以清理擠壓頭，其中圓柱形涂刷具有轉(zhuǎn)軸。
99．如權(quán)利要求97所述的方法，其特征在于，清理步驟還包括在一擠壓頭上要清理的表面上引導(dǎo)溶劑的步驟，其中引導(dǎo)溶劑的步驟與所述轉(zhuǎn)動(dòng)圓柱形涂刷的步驟一起從擠壓頭上去除涂覆材料。
100．如權(quán)利要求98所述的方法，其特征在于，清理步驟還包括以下步驟在一清理站中設(shè)置一溶劑池；以及通過在所述溶劑池上設(shè)置入口和出口而使用過的溶劑可以去除而使新溶劑可以導(dǎo)入所述溶劑池。
101．如權(quán)利要求98所述的方法，其特征在于，包括使所述圓柱形涂刷的轉(zhuǎn)軸可以相對(duì)于清理設(shè)備移動(dòng)的步驟。
102．如權(quán)利要求98所述的方法，其特征在于，清理步驟包括沖洗所述擠壓頭的步驟。
103．如權(quán)利要求102所述的方法，其特征在于，沖洗步驟包括以下步驟在沖洗過程中設(shè)置一個(gè)用于擠壓頭移動(dòng)的凹區(qū)，所述凹區(qū)具有一底部，其中所述凹區(qū)使沖洗裝置可以占據(jù)一較小的范圍。
104．如權(quán)利要求103所述的方法，其特征在于，沖洗步驟還包括沿所述凹區(qū)的底部設(shè)置孔以在沖洗過程中可以回收用過的流體的步驟。
105．如權(quán)利要求103所述的方法，其特征在于，沖洗步驟包括將連續(xù)的溶劑流動(dòng)幕簾導(dǎo)向所述擠壓頭上要清理的一個(gè)表面。
106．如權(quán)利要求103所述的方法，其特征在于，涂刷步驟包括使用一圓柱形涂刷表面以占據(jù)最小范圍的步驟。
107．如權(quán)利要求106所述的方法，其特征在于，涂刷步驟還包括以下步驟將圓柱形涂刷表面設(shè)置在一溶劑池中；以及轉(zhuǎn)動(dòng)圓柱形涂刷表面。
108．如權(quán)利要求106所述的方法，其特征在于，還包括從擠壓頭快速去除溶劑以使所述擠壓頭以最小的間隔重新進(jìn)行涂覆操作的步驟。
109．如權(quán)利要求108所述的方法，其特征在于，還包括安排擠壓頭的清理和涂刷步驟以基本與從一夾具去除一由所述擠壓頭涂覆的基板的步驟以及將要由所述擠壓頭涂覆的一基板放入所述夾具中的步驟，其中所述去除一涂覆的基板的步驟、所述放置一要涂覆的基板的步驟以及涂覆要由所述擠壓頭涂覆的所述基板的步驟代表一涂覆設(shè)備的一個(gè)循環(huán)。
110．如權(quán)利要求109所述的方法，其特征在于，所述擠壓頭的清理和涂刷步驟對(duì)擠壓設(shè)備的每一次循環(huán)致動(dòng)一次。
111．如權(quán)利要求109所述的方法，其特征在于，所述擠壓頭的清理和涂刷步驟在清理和涂刷步驟的前一次致動(dòng)后在完成多個(gè)涂覆操作循環(huán)后才致動(dòng)。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種適于自動(dòng)清理一涂覆設(shè)備的一涂覆或擠壓頭的設(shè)備和方法。本發(fā)明包括一擦拭站,其中機(jī)械接觸和強(qiáng)力溶劑溶解的組合合起來從一擠壓頭的外部去除涂覆流體。最好是一沖洗站的一第二清理站還清理涂覆流體卷邊以及去除在一第一清理站使用的溶劑。在沖洗站使用的溶劑最好是自干燥型,從而避免需要任何額外的清理作用。本發(fā)明還可以在擠壓頭涂刷涂覆卷邊,以在開始涂覆一基板之前具有完全成形的卷邊,從而提供在所述基板上均勻的涂覆。涂刷操作最好包括將擠壓頭牢固保持在一轉(zhuǎn)動(dòng)的涂刷輥?zhàn)又贤瑫r(shí)最好以恒定的流速擠壓流體。當(dāng)適當(dāng)形成涂覆卷邊時(shí)從涂刷站上去除擠壓頭,而且擠壓的涂覆材料在涂刷站在一溶劑中分解。涂刷操作還可以在任一個(gè)清理站預(yù)先形成。
文檔編號(hào)B05D3/00GK1296427SQ99802852
公開日2001年5月23日 申請(qǐng)日期1999年1月8日 優(yōu)先權(quán)日1998年1月9日
發(fā)明者格雷戈里·M·吉布森, 約翰·E·哈維斯, 薩莫·瑪莫德·卡巴尼, 奧斯·T·斯諾德格拉斯 申請(qǐng)人:法斯塔有限公司