玻璃基板傳遞系統(tǒng)及其機(jī)械手的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種玻璃基板傳遞系統(tǒng)及其機(jī)械手，該機(jī)械手包括基板叉、移動(dòng)組件以及真空吸盤，其中，基板叉用于叉取玻璃基板，移動(dòng)組件與基板叉連接，用于使得基板叉在工作空間內(nèi)移動(dòng)，真空吸盤設(shè)于基板叉上，用于吸取玻璃基板，真空吸盤設(shè)有流體回路，流體回路內(nèi)裝有冷卻流體，以對(duì)真空吸盤進(jìn)行散熱。本發(fā)明提供的玻璃基板傳遞系統(tǒng)及其機(jī)械手及時(shí)對(duì)真空吸盤進(jìn)行降溫，避免因真空吸盤過(guò)熱影響產(chǎn)品質(zhì)量，提升了產(chǎn)品良率。
【專利說(shuō)明】玻璃基板傳遞系統(tǒng)及其機(jī)械手

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及液晶顯示器制造【技術(shù)領(lǐng)域】，具體涉及一種機(jī)械手，還涉及一種玻璃基板傳遞系統(tǒng)。

【背景技術(shù)】
[0002]1X0產(chǎn)線皆會(huì)配置機(jī)械手，機(jī)械手經(jīng)常需要在高溫爐與其它制程機(jī)臺(tái)之間往返作業(yè)，機(jī)械手很容易在高溫爐作業(yè)中受熱導(dǎo)致溫度上升，若此時(shí)立即去其他制程機(jī)臺(tái)作業(yè)，很可能會(huì)因機(jī)械手過(guò)熱的高溫而影響產(chǎn)品質(zhì)量，導(dǎo)致玻璃基板亮度不均勻，造成各種痕跡的現(xiàn)象。
[0003]請(qǐng)參閱圖1，圖1是機(jī)械手位于高溫爐內(nèi)的工作示意圖。
[0004]其中，高溫爐310內(nèi)部溫較高，機(jī)械手100伸入高溫爐310作業(yè)時(shí)，隨時(shí)間的延長(zhǎng)溫度逐漸升高。
[0005]請(qǐng)一并參閱圖2和圖3，圖2是機(jī)械手搬運(yùn)玻璃基板的工作示意圖，圖3是圖2所示的機(jī)械手的側(cè)面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0006]在多數(shù)情況下，機(jī)械手100從高溫爐310中退出后，通常是尚未降溫就進(jìn)行玻璃基板200的搬運(yùn)工作，此時(shí)，機(jī)械手100上的真空吸盤130會(huì)將高溫傳給玻璃基板200，導(dǎo)致玻璃基板200上產(chǎn)生壞點(diǎn)，影響產(chǎn)品質(zhì)量。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]本發(fā)明提供一種玻璃基板傳遞系統(tǒng)及其機(jī)械手，能夠解決現(xiàn)有技術(shù)中機(jī)械手會(huì)導(dǎo)致玻璃基板上產(chǎn)生壞點(diǎn)，影響產(chǎn)品質(zhì)量的問(wèn)題。
[0008]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明采用的一個(gè)技術(shù)方案是提供一種機(jī)械手，包括:
[0009]基板叉，用于叉取玻璃基板；
[0010]移動(dòng)組件，與所述基板叉連接，用于使得所述基板叉在工作空間內(nèi)移動(dòng)；
[0011]真空吸盤，設(shè)于所述基板叉上，用于吸取所述玻璃基板，所述真空吸盤設(shè)有流體回路，所述流體回路內(nèi)裝有冷卻流體，以對(duì)所述真空吸盤進(jìn)行散熱。
[0012]根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例，所述真空吸盤為一圈結(jié)構(gòu)或同心設(shè)置的多圈結(jié)構(gòu)。
[0013]根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例，所述流體回路設(shè)于所述圈結(jié)構(gòu)的內(nèi)部，或者所述流體回路設(shè)于所述圈結(jié)構(gòu)之間。
[0014]根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例，所述機(jī)械手還包括散熱組件，所述散熱組件設(shè)于所述基板叉、所述移動(dòng)組件或所述真空吸盤的側(cè)邊，用于在所述真空吸盤受熱且非吸持所述玻璃基板時(shí)移動(dòng)至所述真空吸盤上方，以對(duì)所述真空吸盤進(jìn)行散熱。
[0015]根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例，所述散熱組件包括依次連接的氣體噴嘴、氣管以及氣泵，所述氣體噴嘴用于向所述真空吸盤噴射常溫潔凈氣體或低溫潔凈氣體，其中，所述氣體噴嘴為一個(gè)，所述一個(gè)氣體噴嘴移動(dòng)至所述真空吸盤的中間上方向所述真空吸盤噴射常溫潔凈氣體或低溫潔凈氣體；或者
[0016]所述氣體噴嘴為多個(gè)，所述多個(gè)氣體噴嘴移動(dòng)至圍繞所述真空吸盤向所述真空吸盤噴射常溫潔凈氣體或低溫潔凈氣體。
[0017]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明采用的另一個(gè)技術(shù)方案是提供一種玻璃基板傳遞系統(tǒng)，包括:
[0018]高溫爐及其他制程機(jī)臺(tái)；
[0019]基板叉，用于叉取玻璃基板；
[0020]移動(dòng)組件，與所述基板叉連接，用于使得所述基板叉在工作空間內(nèi)移動(dòng)；
[0021]真空吸盤，設(shè)于所述基板叉上，用于吸取所述玻璃基板，所述真空吸盤設(shè)有流體回路，所述流體回路內(nèi)裝有冷卻流體，以對(duì)所述真空吸盤進(jìn)行散熱。
[0022]根據(jù)本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例，所述玻璃基板傳遞系統(tǒng)還包括散熱組件，所述散熱組件設(shè)于所述高溫爐、所述其他制程機(jī)臺(tái)、所述基板叉、所述移動(dòng)組件或所述真空吸盤的側(cè)邊，用于在所述真空吸盤受熱且非吸持所述基板時(shí)移動(dòng)至所述真空吸盤上方，以對(duì)所述真空吸盤進(jìn)行散熱。
[0023]本發(fā)明的有益效果是:區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)的情況，本發(fā)明提供的玻璃基板傳遞系統(tǒng)及其機(jī)械手及時(shí)對(duì)真空吸盤進(jìn)行降溫，避免因真空吸盤過(guò)熱影響產(chǎn)品質(zhì)量，提升了產(chǎn)品良率。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0024]為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖，其中:
[0025]圖1是機(jī)械手位于高溫爐內(nèi)的工作示意圖；
[0026]圖2是機(jī)械手搬運(yùn)玻璃基板的工作示意圖；
[0027]圖3是圖2所示的機(jī)械手的側(cè)面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0028]圖4是本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例的機(jī)械手的簡(jiǎn)化結(jié)構(gòu)示意圖；
[0029]圖5是圖4所示的機(jī)械手的一種工作狀態(tài)示意圖；
[0030]圖6是圖4所示的機(jī)械手的另一種工作狀態(tài)示意圖；
[0031]圖7是圖4所示的機(jī)械手的局部放大圖；
[0032]圖8是本發(fā)明另一優(yōu)選實(shí)施例的機(jī)械手的簡(jiǎn)化結(jié)構(gòu)示意圖；
[0033]圖9是本發(fā)明另一優(yōu)選實(shí)施例的機(jī)械手的簡(jiǎn)化結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0034]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅是本發(fā)明的一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0035]請(qǐng)一并參閱圖4，圖4是本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例的機(jī)械手的簡(jiǎn)化結(jié)構(gòu)示意圖。
[0036]本發(fā)明提供的機(jī)械手100包括基板叉110、移動(dòng)組件120、真空吸盤130以及散熱組件150。
[0037]其中，基板叉110用于叉取玻璃基板200，移動(dòng)組件120與基板叉110連接，用于使得基板叉110在工作空間內(nèi)移動(dòng)，真空吸盤130設(shè)于基板叉110上，用于吸取玻璃基板200，散熱組件150設(shè)于基板叉110、移動(dòng)組件120或真空吸盤130的側(cè)邊，用于在真空吸盤130受熱且非吸持玻璃基板200時(shí)移動(dòng)至真空吸盤130上方，以對(duì)真空吸盤130進(jìn)行散熱。
[0038]其中，散熱組件150包括依次連接的氣體噴嘴、氣管以及氣泵，氣體噴嘴用于向真空吸盤130噴射常溫潔凈氣體或低溫潔凈氣體。
[0039]在一種實(shí)施例中，氣體噴嘴可為一個(gè)，一個(gè)氣體噴嘴移動(dòng)至真空吸盤130的中間上方并向真空吸盤130噴射常溫潔凈氣體或低溫潔凈氣體。
[0040]在另一種實(shí)施例中，氣體噴嘴可為多個(gè)，多個(gè)氣體噴嘴移動(dòng)至圍繞真空吸盤130并向真空吸盤130噴射常溫潔凈氣體或低溫潔凈氣體。
[0041]請(qǐng)一并參閱圖5和圖6，圖5和圖6示出了機(jī)械手的兩種工作狀態(tài)示意圖。
[0042]一般情況下，散熱組件150位于機(jī)械手100的側(cè)邊，當(dāng)機(jī)械手100從高溫爐310中退出且處于非吸持玻璃基板200狀態(tài)時(shí)，散熱組件150從機(jī)械手100的側(cè)邊移至真空吸盤130的上方，對(duì)真空吸盤130噴射常溫潔凈氣體或低溫潔凈氣體。
[0043]請(qǐng)一并參閱圖7，圖7是圖4所示的機(jī)械手的局部放大圖。
[0044]機(jī)械手100上設(shè)有多個(gè)真空吸盤130，每一真空吸盤130可為一圈結(jié)構(gòu)，或者，每一真空吸盤130可為同心設(shè)置的多圈結(jié)構(gòu)。圖7中示出了真空吸盤130呈兩圈結(jié)構(gòu)的情況。
[0045]進(jìn)一步地，該真空吸盤130設(shè)有流體回路140，流體回路140內(nèi)裝有冷卻流體，流體回路140設(shè)于真空吸盤130圈結(jié)構(gòu)的內(nèi)部，或者流體回路140設(shè)于真空吸盤130圈結(jié)構(gòu)之間，以時(shí)實(shí)對(duì)真空吸盤130進(jìn)行散熱。
[0046]請(qǐng)同時(shí)參閱圖1、圖4-圖6，本發(fā)明還提供一種玻璃基板傳遞系統(tǒng)300，該玻璃基板傳遞系統(tǒng)300包括高溫爐310及其他制程機(jī)臺(tái)(圖未示)以及上述的機(jī)械手100。機(jī)械手100的具體結(jié)構(gòu)參照上文，此處不再重復(fù)贅述。
[0047]其中，散熱組件150可設(shè)于高溫爐310、其他制程機(jī)臺(tái)、基板叉110、移動(dòng)組件120或真空吸盤130的側(cè)邊，用于在真空吸盤130受熱且非吸持玻璃基板200時(shí)移動(dòng)至真空吸盤130上方，以對(duì)真空吸盤130進(jìn)行散熱。
[0048]請(qǐng)一并參閱圖8，圖8是本發(fā)明另一優(yōu)選實(shí)施例的機(jī)械手的簡(jiǎn)化結(jié)構(gòu)示意圖。
[0049]在本實(shí)施例中，機(jī)械手100包括基板叉110、移動(dòng)組件120、真空吸盤130。
[0050]其中，基板叉110用于叉取玻璃基板200，移動(dòng)組件120與基板叉110連接，用于使得基板叉110在工作空間內(nèi)移動(dòng)，真空吸盤130設(shè)于基板叉110上，用于吸取玻璃基板200，該真空吸盤130設(shè)有流體回路140，流體回路140內(nèi)裝有冷卻流體，以時(shí)實(shí)對(duì)真空吸盤130進(jìn)行散熱。
[0051]本實(shí)施例中，流體回路140設(shè)于真空吸盤130圈結(jié)構(gòu)的內(nèi)部，即流體回路140貫通基板叉110和真空吸盤130的圈結(jié)構(gòu)的內(nèi)部，以時(shí)實(shí)對(duì)真空吸盤130進(jìn)行散熱。
[0052]請(qǐng)一并參閱圖9，圖9是本發(fā)明另一優(yōu)選實(shí)施例的機(jī)械手的簡(jiǎn)化結(jié)構(gòu)示意圖。
[0053]在本實(shí)施例中，機(jī)械手100包括基板叉110、移動(dòng)組件120、真空吸盤130。
[0054]其中，基板叉110用于叉取玻璃基板200，移動(dòng)組件120與基板叉110連接，用于使得基板叉110在工作空間內(nèi)移動(dòng)，真空吸盤130設(shè)于基板叉110上，用于吸取玻璃基板200。該真空吸盤130設(shè)有流體回路140，流體回路140內(nèi)裝有冷卻流體，以時(shí)實(shí)對(duì)真空吸盤130進(jìn)行散熱。
[0055]本實(shí)施例中，流體回路140設(shè)于真空吸盤130圈結(jié)構(gòu)之間，即流體回路140貫通基板叉110和真空吸盤130的兩個(gè)圈結(jié)構(gòu)之間，對(duì)兩側(cè)的圈結(jié)構(gòu)進(jìn)行散熱以時(shí)實(shí)對(duì)真空吸盤130進(jìn)行散熱。
[0056]請(qǐng)同時(shí)參閱圖1、8、9，本發(fā)明還提供一種玻璃基板傳遞系統(tǒng)300，該玻璃基板傳遞系統(tǒng)300包括高溫爐310及其他制程機(jī)臺(tái)(圖未示)以及圖8或圖9所述的真空吸盤130。真空吸盤130的具體結(jié)構(gòu)參照上文，此處不再重復(fù)贅述。
[0057]綜上所述，本領(lǐng)域技術(shù)人員容易理解，本發(fā)明提供的玻璃基板傳遞系統(tǒng)300及其機(jī)械手100及時(shí)對(duì)真空吸盤130進(jìn)行降溫，避免因真空吸盤130過(guò)熱影響產(chǎn)品質(zhì)量，提升了產(chǎn)品良率。
[0058]以上所述僅為本發(fā)明的實(shí)施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說(shuō)明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的【技術(shù)領(lǐng)域】，均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種機(jī)械手，其特征在于，包括: 基板叉，用于叉取玻璃基板； 移動(dòng)組件，與所述基板叉連接，用于使得所述基板叉在工作空間內(nèi)移動(dòng)； 真空吸盤，設(shè)于所述基板叉上，用于吸取所述玻璃基板，所述真空吸盤設(shè)有流體回路，所述流體回路內(nèi)裝有冷卻流體，以對(duì)所述真空吸盤進(jìn)行散熱。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)械手，其特征在于，所述真空吸盤為一圈結(jié)構(gòu)或同心設(shè)置的多圈結(jié)構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的機(jī)械手，其特征在于，所述流體回路設(shè)于所述圈結(jié)構(gòu)的內(nèi)部，或者所述流體回路設(shè)于所述圈結(jié)構(gòu)之間。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)械手，其特征在于，所述機(jī)械手還包括散熱組件，所述散熱組件設(shè)于所述基板叉、所述移動(dòng)組件或所述真空吸盤的側(cè)邊，用于在所述真空吸盤受熱且非吸持所述玻璃基板時(shí)移動(dòng)至所述真空吸盤上方，以對(duì)所述真空吸盤進(jìn)行散熱。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的機(jī)械手，其特征在于，所述散熱組件包括依次連接的氣體噴嘴、氣管以及氣泵，所述氣體噴嘴用于向所述真空吸盤噴射常溫潔凈氣體或低溫潔凈氣體，其中，所述氣體噴嘴為一個(gè)，所述一個(gè)氣體噴嘴移動(dòng)至所述真空吸盤的中間上方向所述真空吸盤噴射常溫潔凈氣體或低溫潔凈氣體；或者 所述氣體噴嘴為多個(gè)，所述多個(gè)氣體噴嘴移動(dòng)至圍繞所述真空吸盤向所述真空吸盤噴射常溫潔凈氣體或低溫潔凈氣體。
6.—種玻璃基板傳遞系統(tǒng),其特征在于,包括: 高溫爐及其他制程機(jī)臺(tái)； 基板叉，用于叉取玻璃基板； 移動(dòng)組件，與所述基板叉連接，用于使得所述基板叉在工作空間內(nèi)移動(dòng)； 真空吸盤，設(shè)于所述基板叉上，用于吸取所述玻璃基板，所述真空吸盤設(shè)有流體回路，所述流體回路內(nèi)裝有冷卻流體，以對(duì)所述真空吸盤進(jìn)行散熱。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的玻璃基板傳遞系統(tǒng)，其特征在于，所述真空吸盤為一圈結(jié)構(gòu)或同心設(shè)置的多圈結(jié)構(gòu)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的玻璃基板傳遞系統(tǒng)，其特征在于，所述流體回路設(shè)于所述圈結(jié)構(gòu)的內(nèi)部，或者所述流體回路設(shè)于所述圈結(jié)構(gòu)之間。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的玻璃基板傳遞系統(tǒng)，其特征在于，所述玻璃基板傳遞系統(tǒng)還包括散熱組件，所述散熱組件設(shè)于所述高溫爐、所述其他制程機(jī)臺(tái)、所述基板叉、所述移動(dòng)組件或所述真空吸盤的側(cè)邊，用于在所述真空吸盤受熱且非吸持所述基板時(shí)移動(dòng)至所述真空吸盤上方，以對(duì)所述真空吸盤進(jìn)行散熱。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的玻璃基板傳遞系統(tǒng)，其特征在于，所述散熱組件包括依次連接的氣體噴嘴、氣管以及氣泵，所述氣體噴嘴用于向所述真空吸盤噴射常溫潔凈氣體或低溫潔凈氣體，其中，所述氣體噴嘴為一個(gè)，所述一個(gè)氣體噴嘴移動(dòng)至所述真空吸盤的中間上方向所述真空吸盤噴射常溫潔凈氣體或低溫潔凈氣體；或者 所述氣體噴嘴為多個(gè)，所述多個(gè)氣體噴嘴移動(dòng)至圍繞所述真空吸盤向所述真空吸盤噴射常溫潔凈氣體或低溫潔凈氣體。
【文檔編號(hào)】B65G47/91GK104386489SQ201410459533
【公開日】2015年3月4日 申請(qǐng)日期:2014年9月10日 優(yōu)先權(quán)日:2014年9月10日
【發(fā)明者】孫世英 申請(qǐng)人:深圳市華星光電技術(shù)有限公司