一種用于氣力輸送粉體參數(shù)測量的光學(xué)探頭防污裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種用于氣力輸送粉體參數(shù)測量的光學(xué)探頭防污裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]氣力輸送是一種利用氣流在管道中輸送顆粒狀固體的有效方法，廣泛應(yīng)用于各種工業(yè)部門的粉體輸送，例如火力發(fā)電廠中固體燃料如煤粉等的管道輸送。氣力輸送粉體參數(shù)如粒度、速度等的準(zhǔn)確在線測量對保證生產(chǎn)安全和提高生產(chǎn)效率具有重要的意義。在氣力輸送粉體參數(shù)測量中，現(xiàn)有的測量方法包括篩分法、聲學(xué)法、靜電法和光學(xué)法等。相較于其他測量方法，光學(xué)法具有測量結(jié)果直觀、后續(xù)處理簡單、測量精度高的優(yōu)點(diǎn)。然而，也存在一個顯著的問題一一在帶粉運(yùn)行的情況下，微細(xì)粉體顆粒容易污染光學(xué)探頭，從而使得光學(xué)探頭難以獲得有效的測量信號，這成為限制氣力輸送粉體參數(shù)光學(xué)測量方法的工業(yè)應(yīng)用的一個瓶頸問題。目前，一般在微細(xì)粉體顆粒污染光學(xué)探頭后直接更換光學(xué)探頭或拆卸光學(xué)探頭進(jìn)行手工清理。這種方案成本較高，且不利于實(shí)現(xiàn)粉體參數(shù)的連續(xù)在線測量。
[0003]為解決氣力輸送粉體參數(shù)光學(xué)測量過程中普遍存在的管道內(nèi)微細(xì)顆粒污染光學(xué)探頭的問題，本發(fā)明提出一種用于氣力輸送粉體參數(shù)測量的光學(xué)探頭防污裝置，在帶粉運(yùn)行的情況下，仍可以靈活有效地對光學(xué)探頭進(jìn)行防污，從而能夠使各光學(xué)探頭在帶粉運(yùn)行的情況下保持清潔，從而使氣力輸送粉體參數(shù)光學(xué)測量方法的工業(yè)應(yīng)用成為可能。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的在于提供一種用于氣力輸送粉體參數(shù)測量的光學(xué)探頭防污裝置。為實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案。
[0005]一種用于氣力輸送粉體參數(shù)測量的光學(xué)探頭防污裝置包括基座、光學(xué)探頭、探頭壁、管道、壓力表和電動執(zhí)行機(jī)構(gòu)，其特征在于:所述探頭壁上設(shè)有進(jìn)氣孔，所述基座內(nèi)設(shè)有電動門，所述電動門可在電動執(zhí)行機(jī)構(gòu)的帶動下在基座內(nèi)左右滑動。
[0006]所述進(jìn)氣孔與外置壓縮空氣相連接，進(jìn)氣孔沿探頭壁均勻分布，以保證均勻進(jìn)氣，從而在光學(xué)探頭表面形成均勻的空氣保護(hù)層，防止微細(xì)顆粒污染光學(xué)探頭。
[0007]所述電動門與基座之間設(shè)有密封裝置，以保證光學(xué)探頭防污裝置的密封性，從而防止管道內(nèi)的粉體通過縫隙泄露到管道外。所述電動門為方形，其邊長大于光學(xué)探頭的直徑。
[0008]所述基座、電動門均由耐磨材料制成，以增強(qiáng)裝置的耐磨性能。
[0009]所述基座分為上下兩部分，上下兩部分之間通過螺釘連接，為活動連接，以達(dá)到靈活拆卸和方便更換零部件的目的。
[0010]本發(fā)明的有益效果:1)可在帶粉運(yùn)行的情況下對光學(xué)探頭進(jìn)行防污，從而保證了粉體參數(shù)測量的實(shí)時(shí)性和準(zhǔn)確性。2)采用壓縮空氣與電動門雙重防護(hù)，增強(qiáng)了防護(hù)的可靠性。
【附圖說明】
[0011]下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。
[0012]圖1是本發(fā)明的原理結(jié)構(gòu)示意圖。
[0013]圖2是本發(fā)明電動門開啟時(shí)的局部剖視圖。
[0014]圖3是本發(fā)明電動門關(guān)閉時(shí)的局部剖視圖。
[0015]圖4是本發(fā)明電動門形狀示意圖。
[0016]其中:1_基座、2-光學(xué)探頭、3-探頭壁、4-管道、5-壓力表、6-電動執(zhí)行機(jī)構(gòu)、7-進(jìn)氣孔、8-電動門。
【具體實(shí)施方式】
[0017]圖1是本發(fā)明的原理結(jié)構(gòu)示意圖。如圖1所示，該光學(xué)探頭防污裝置包括基座1、光學(xué)探頭2、探頭壁3、管道4、壓力表5和電動執(zhí)行機(jī)構(gòu)6，其特征在于:所述探頭壁3上設(shè)有進(jìn)氣孔7，所述基座I內(nèi)設(shè)有電動門8，所述電動門8可在電動執(zhí)行機(jī)構(gòu)6的帶動下在基座I內(nèi)左右滑動。所述進(jìn)氣孔7與外置壓縮空氣相連接，所述進(jìn)氣孔7沿探頭壁3均勻分布，以保證均勻進(jìn)氣，從而在光學(xué)探頭表面形成均勻的空氣保護(hù)層。
[0018]圖2和圖3是本發(fā)明電動門開啟和關(guān)閉時(shí)的局部剖視圖。當(dāng)壓力表測得外接壓縮空氣壓力大于管道內(nèi)的壓力時(shí)，電動門在電動執(zhí)行機(jī)構(gòu)的帶動下滑動到基座的最右端，此時(shí)電動門處于開啟狀態(tài)，可以通過光學(xué)探頭對管道內(nèi)的粉體參數(shù)進(jìn)行測量。此時(shí)外置壓縮空氣通過進(jìn)氣孔均勻進(jìn)氣，在光學(xué)探頭表面形成均勻的空氣保護(hù)層，防止粉體顆粒污染光學(xué)探頭。當(dāng)壓力表測得外置壓縮空氣壓力小于管道內(nèi)的壓力時(shí)，電動門在電動執(zhí)行機(jī)構(gòu)的帶動下迅速滑動到基座的最左端，此時(shí)電動門處于關(guān)閉狀態(tài)，防止管道內(nèi)的粉體顆粒污染光學(xué)探頭。所述電動門與基座之間設(shè)有密封裝置，以防止管道內(nèi)微細(xì)顆粒通過縫隙泄露到管道外部。
[0019]圖4是本發(fā)明的電動門形狀示意圖。所述電動門為方形，其邊長大于光學(xué)探頭的直徑，以達(dá)到有效保護(hù)光學(xué)探頭的效果。
[0020]優(yōu)選地，所述基座分為上下兩部分，上下兩部分之間通過螺釘連接，為活動連接，以達(dá)到靈活拆卸和方便更換零部件的目的。
[0021]優(yōu)選地，所述基座和電動門均由耐磨鋼材料制成，以增強(qiáng)光學(xué)探頭防污裝置的耐磨性能，從而延長其使用壽命。
[0022]上面結(jié)合附圖對本發(fā)明的實(shí)施方式做了詳細(xì)的說明，但是本發(fā)明并不局限于上述實(shí)施方式，在本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員所具備的知識范圍內(nèi)，還可以對其做出種種變化。然而這些變化，并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本發(fā)明實(shí)施例技術(shù)方案的精神和范圍。本發(fā)明的保護(hù)范圍當(dāng)視所提出的權(quán)利要求限定的范圍為準(zhǔn)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種用于氣力輸送粉體參數(shù)測量的光學(xué)探頭防污裝置包括基座(1)、光學(xué)探頭(2)、探頭壁(3)、管道(4)、壓力表(5)和電動執(zhí)行機(jī)構(gòu)(6)，其特征在于:所述探頭壁(3)上設(shè)有進(jìn)氣孔(7 )，所述基座(I)內(nèi)設(shè)有電動門(8 )，所述電動門(8 )可在電動執(zhí)行機(jī)構(gòu)(6 )的帶動下在基座(I)內(nèi)左右滑動。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于氣力輸送粉體參數(shù)測量的光學(xué)探頭防污裝置，其特征在于:所述電動門(8)與基座(I)之間設(shè)有密封裝置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于氣力輸送粉體參數(shù)測量的光學(xué)探頭防污裝置，其特征在于:所述電動門(8)為方形，其邊長大于光學(xué)探頭(2)的直徑。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于氣力輸送粉體參數(shù)測量的光學(xué)探頭防污裝置，其特征在于:所述進(jìn)氣孔(7)沿探頭壁(3)均勻分布，所述進(jìn)氣孔(7)與外置壓縮空氣相連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于氣力輸送粉體參數(shù)測量的光學(xué)探頭防污裝置，其特征在于:所述基座(I)分為上下兩部分，上下兩部分之間通過螺釘連接，為活動連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于氣力輸送粉體參數(shù)測量的光學(xué)探頭防污裝置，其特征在于:所述基座(I)、電動門(8 )均由耐磨材料制成。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種用于氣力輸送粉體參數(shù)測量的光學(xué)探頭防污裝置，以解決測量過程中普遍存在的管道內(nèi)微細(xì)顆粒污染光學(xué)探頭，從而使光學(xué)測量方法不能得到廣泛工業(yè)應(yīng)用的問題。該光學(xué)探頭防污裝置包括基座（1）、光學(xué)探頭（2）、探頭壁（3）、管道（4）、壓力表（5）和電動執(zhí)行機(jī)構(gòu)（6），其特征在于：所述探頭壁（3）上設(shè)有進(jìn)氣孔（7），所述基座（1）內(nèi)設(shè)有電動門（8），所述電動門（8）可在電動執(zhí)行機(jī)構(gòu)（6）的帶動下在基座（1）內(nèi)左右滑動。本發(fā)明所述的光學(xué)探頭防污裝置在帶粉運(yùn)行的情況下，仍可以靈活有效地對光學(xué)探頭進(jìn)行防污，使光學(xué)探頭保持清潔，從而達(dá)到使氣力輸送粉體參數(shù)光學(xué)測量的工業(yè)應(yīng)用成為可能的目的。
【IPC分類】B65G53-34
【公開號】CN104816948
【申請?zhí)枴緾N201510215966
【發(fā)明人】黃孝彬, 白冰, 張文彪, 吳國勛, 錢相臣, 胡永輝
【申請人】華北電力大學(xué), 北京華清茵藍(lán)科技有限公司
【公開日】2015年8月5日
【申請日】2015年4月30日