一種熔溝結構的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種工頻感應電爐熔溝結構，屬于銅及其合金加工技術領域。
【背景技術】
[0002]工頻感應電爐(下簡稱工頻電爐)具有工作效率高、工況條件好、合金熔體成分穩(wěn)定、易于自動化作業(yè)等優(yōu)點，是銅及其合金加工鑄坯的主要設備，但現(xiàn)有工頻電爐經(jīng)常因漏爐而停止運作，對生產(chǎn)帶來不利影響，現(xiàn)有工頻電爐結構詳見示圖1和2，示圖中11為熔溝，12為冷卻水套，13為感應線圈，14為鐵芯，15為搗打料。按示圖1和2所示，熔溝11與冷卻水套12之間的空間需用搗打料15填充嚴實，但示圖中A區(qū)空間是搗打料15不易填充嚴實的死角，在工頻電爐運行過程中，由于A區(qū)的搗打料填充容易疏松，造成熔溝11的熔化液體通過A區(qū)空間穿漏到冷卻水套12殼體上，熔溝11的感應電流順勢漏入冷卻水套12，使其漏電，由于冷卻水套12與工頻電爐鋼結構架接觸，且接地，造成工頻電爐漏電，從而停止運行。經(jīng)上述分析認為:在工頻電爐爐內(nèi)由于熔溝結構的不完善使其形成了搗打料不易填充嚴實的A處死區(qū)，此為工頻電爐A區(qū)易漏爐的源頭。
[0003]為解決上述問題，本實用新型設計出一種熔溝結構。
【實用新型內(nèi)容】
[0004]本實用新型的目的是提供一種熔溝結構，可使爐內(nèi)A區(qū)搗打料填充嚴實，有效防止工頻電爐爐內(nèi)因A區(qū)搗打料填充疏松造成漏爐。
[0005]為解決上述問題，本實用新型的技術方案是:一種熔溝結構，包括熔溝頂面，熔溝頂面下方設有若干感應線圈安裝孔，熔溝頂面設有縱向的通孔，通孔的數(shù)量與感應線圈安裝孔的數(shù)量一致，通孔的中心點連線位于熔溝頂面兩側邊中間且平行于兩側邊，通孔的中心軸線與對應的感應線圈安裝孔中心軸線垂直相交，熔溝頂面上位于通孔外沿設有半圓柱，半圓柱上端面與熔溝頂面齊平，半圓柱下端面與感應線圈安裝孔上部相切。
[0006]所述通孔的直徑為35?45_。
[0007]所述半圓柱和通孔的半徑差為熔溝頂面寬度的0.5?0.6倍。
[0008]本實用新型的有益效果是:消除了工頻電爐爐內(nèi)搗打料不易填充嚴實的A處死區(qū)，降低了漏爐的風險。
【附圖說明】
[0009]圖1是工頻電爐結構示意圖。
[0010]圖2是圖1的1-1向剖視圖。
[0011 ] 圖3是改進后熔溝結構示意圖。
[0012]圖中:熔溝頂面1、通孔2、感應線圈安裝孔3、半圓柱4。
【具體實施方式】
[0013]下面通過實施例，并結合附圖，對本實用新型的技術方案作進一步具體的說明。
[0014]如圖3所示，一種熔溝結構，包括熔溝頂面1，熔溝頂面I下方設有若干感應線圈安裝孔3，熔溝頂面I設有縱向的通孔2，通孔2的數(shù)量與感應線圈安裝孔3的數(shù)量一致，通孔2的中心點連線位于熔溝頂面I兩側邊中間且平行于兩側邊，通孔2的中心軸線與對應的感應線圈安裝孔3中心軸線垂直相交，熔溝頂面I上位于通孔2外沿設有半圓柱4，半圓柱4上端面與熔溝頂面I齊平，半圓柱4下端面與感應線圈安裝孔3上部相切。
[0015]所述通孔2的直徑為35?45_。
[0016]所述半圓柱4和通孔2的半徑差為恪溝頂面I寬度的0.5?0.6倍。
[0017]本實用新型可通過通孔2將水套頂部與熔溝之間的搗打死區(qū)的搗打料搗打密實，減少漏爐的風險，搗打完畢，可用與熔溝相同的材質(zhì)將通孔2填滿，也可用搗打料將其填滿。
[0018]本實用新型雖然已以較佳實施例公開如上，但其并不是用來限定本創(chuàng)造，任何本領域技術人員在不脫離本創(chuàng)造的精神和范圍內(nèi)，都可以利用上述揭示的方法和技術內(nèi)容對本技術方案做出可能的變動和修改，因此，凡是未脫離本創(chuàng)造技術方案的內(nèi)容，依據(jù)本創(chuàng)造的技術實質(zhì)對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化及修飾，均屬于本創(chuàng)造技術方案的保護范圍。
【主權項】
1.一種熔溝結構，其特征在于:包括熔溝頂面(I)，熔溝頂面(I)下方設有若干感應線圈安裝孔(3)，熔溝頂面⑴設有縱向的通孔(2)，通孔⑵的數(shù)量與感應線圈安裝孔(3)的數(shù)量一致，通孔⑵的中心點連線位于熔溝頂面⑴兩側邊中間且平行于兩側邊，通孔⑵的中心軸線與對應的感應線圈安裝孔(3)中心軸線垂直相交，熔溝頂面(I)上位于通孔(2)外沿設有半圓柱(4)，半圓柱(4)上端面與熔溝頂面(I)齊平，半圓柱(4)下端面與感應線圈安裝孔(3)上部相切。2.如權利要求1所述的一種熔溝結構，其特征在于:所述通孔(2)的直徑為35?45mm。3.如權利要求1所述的一種熔溝結構，其特征在于:所述半圓柱(4)和通孔(2)的半徑差為熔溝頂面(I)寬度的0.5?0.6倍。
【專利摘要】本實用新型公開了一種熔溝結構，包括熔溝頂面，熔溝頂面下方設有若干感應線圈安裝孔，熔溝頂面設有縱向的通孔，通孔的數(shù)量與感應線圈安裝孔的數(shù)量一致，通孔的中心點連線位于熔溝頂面兩側邊中間且平行于兩側邊，通孔的中心軸線與對應的感應線圈安裝孔中心軸線垂直相交，熔溝頂面上位于通孔外沿設有半圓柱，半圓柱上端面與熔溝頂面齊平，半圓柱下端面與感應線圈安裝孔上部相切。本實用新型可通過通孔將水套頂部與熔溝之間的搗打死區(qū)的搗打料搗打密實，減少漏爐的風險，搗打完畢，可用與熔溝相同的材質(zhì)將通孔填滿，也可用搗打料將其填滿。
【IPC分類】F27B14/08
【公開號】CN204881165
【申請?zhí)枴緾N201520631305
【發(fā)明人】姚正江
【申請人】紹興市越宇銅帶有限公司
【公開日】2015年12月16日
【申請日】2015年8月20日