本實(shí)用新型涉及一種裝置，具體為一種自動清洗試管的裝置。

背景技術(shù)：

試管，為應(yīng)用于化學(xué)、生物、醫(yī)療的常用器材，大多為一端開口另一端封閉的容器，用作于少量試劑的反應(yīng)或應(yīng)用于植物組培苗培養(yǎng)容器，特別是在直根系木根植物組培苗生產(chǎn)中大量應(yīng)用。為節(jié)約成本，試管常循環(huán)使用，需要在每次實(shí)驗(yàn)后進(jìn)行徹底清洗，以保證下次實(shí)驗(yàn)不受污染。但是，傳統(tǒng)的試管清洗采取人工清洗的方式，勞動強(qiáng)度大，工作效率低，已經(jīng)不適合現(xiàn)代規(guī)模化工廠化生產(chǎn)的需要。目前市場上出現(xiàn)了一些用于試管清洗的裝置，但是這些裝置多存在著清洗不徹底，且無法連續(xù)自動清洗的問題。

為解決上述問題，因此我們提出一種自動清洗試管的裝置。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，提供一種自動清洗試管的裝置。

為了解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型提供了如下的技術(shù)方案：

本實(shí)用新型一種自動清洗試管的裝置，包括裝置本體和水箱，所述裝置本體的頂部是超聲波清洗機(jī)，水箱包括器具存放盤、器具存放盤擱置橫梁、超聲波換能器、低水位探頭和高水位探頭，所述超聲波清洗機(jī)通過線路連接電磁閥，所述電磁閥和電控柜之間通過線路連接PLC控制裝置，所述電控柜設(shè)置在裝置本體的一側(cè)。

進(jìn)一步的，所述器具存放盤擱置橫梁設(shè)置橫跨水箱，并且器具存放盤擱置橫梁設(shè)置在距離水箱底部30cm處。

進(jìn)一步的，所述超聲波清洗機(jī)、電控柜、電磁閥、水箱和PLC控制裝置之間連接處密封處理后表面涂防電膠。

進(jìn)一步的，所述超聲波換能器設(shè)置在水箱的底部。

進(jìn)一步的，所述水箱的底部和頂部分別安裝有低水位探頭和高水位探頭。

本實(shí)用新型所達(dá)到的有益效果是：通過在水箱上設(shè)置器具存放盤擱置橫梁，可以將器具存放盤放置在水箱的器具存放盤擱置橫梁上，并且器具存放盤擱置橫梁距離水箱底部30cm，這樣就避免了器具存放盤的底部與水箱底部的接觸，使試管清洗更全面，裝置本體采用的是電磁閥，可以避免外漏，使用安全，系統(tǒng)簡單，便于連接電腦，動作快速，外形輕巧，并且電磁閥價格低廉，PLC控制裝置控制器使用方便，編程簡單，功能較強(qiáng)，性能價格比較高，用戶使用方便，并且使用性強(qiáng)，提高工作效率，保證了器具清洗效果，降低了員工的勞動強(qiáng)度。

附圖說明

附圖用來提供對本實(shí)用新型的進(jìn)一步理解，并且構(gòu)成說明書的一部分，與本實(shí)用新型的實(shí)施例一起用于解釋本實(shí)用新型，并不構(gòu)成對本實(shí)用新型的限制。在附圖中：

圖1是本實(shí)用新型一種自動清洗試管的裝置的整體結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本實(shí)用新型一種自動清洗試管的裝置的水箱結(jié)構(gòu)俯視示意圖；

圖中：1、裝置本體；2、超聲波清洗機(jī)；3、水箱；4、電磁閥；5、高水位開關(guān)；6、線路；7、電控柜；8、低水位開關(guān)；9、PLC控制裝置；10、器具存放盤擱置橫梁；11、器具存放盤；12、超聲波換能器；13、低水位探頭；14、高水位探頭。

具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖對本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例進(jìn)行說明，應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的優(yōu)選實(shí)施例僅用于說明和解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。

實(shí)施例1

如圖1所示，一種自動清洗試管的裝置，包括裝置本體1和水箱3，所述裝置本體1的頂部是超聲波清洗機(jī)2，水箱3包括器具存放盤11、器具存放盤擱置橫梁10、超聲波換能器12、低水位探頭13和高水位探頭14，所述超聲波清洗機(jī)2通過線路6連接電磁閥4，所述電磁閥4和電控柜7之間通過線路6連接PLC控制裝置9，所述電控柜7設(shè)置在裝置本體1的一側(cè)。

所述器具存放盤擱置橫梁10設(shè)置橫跨水箱3，并且器具存放盤擱置橫梁10設(shè)置在距離水箱3底部30cm處，所述超聲波清洗機(jī)2、電控柜7、電磁閥4、水箱3和PLC控制裝置 9之間連接處密封處理后表面涂防電膠，所述超聲波換能器12設(shè)置在水箱3的底部，所述水箱3的底部和頂部分別安裝有低水位探頭13和高水位探頭14。

需要說明的是該種具有自動清洗試管的裝置，在水箱3上設(shè)置器具存放盤擱置橫梁10，可以將器具存放盤11放置在水箱3的器具存放盤擱置橫梁10上，并且器具存放盤11的底部與水箱3底部的不接觸，這樣能夠使試管清洗更全面，整個裝置使用性強(qiáng)，提高工作效率，保證了器具清洗效果，降低了員工的勞動強(qiáng)度。

最后應(yīng)說明的是：以上所述僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例而已，并不用于限制本實(shí)用新型，盡管參照前述實(shí)施例對本實(shí)用新型進(jìn)行了詳細(xì)的說明，對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，其依然可以對前述各實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改，或者對其中部分技術(shù)特征進(jìn)行等同替換。凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。