所述藥劑即可。
[0065]在本實(shí)施例中，控制裝置4包括PID(比例積分導(dǎo)數(shù))控制器、分段控制器中的至少一個(gè)?？刂蒲b置4可以僅包括PID控制器、分段控制器中的一個(gè)，也可以同時(shí)包括PID控制器和分段控制器。當(dāng)控制裝置4同時(shí)包括PID控制器和分段控制器時(shí)，可以選用PID控制器、分段控制器中的任意一個(gè)來(lái)控制加藥裝置6向一段去氟離子裝置2內(nèi)加入所述藥劑的藥劑量。
[0066]當(dāng)控制裝置4包括PID控制器時(shí)，PID控制器能夠?qū)λ鲆欢螠y(cè)量值與所述目標(biāo)值之間的偏差值進(jìn)行PID運(yùn)算，以計(jì)算出目標(biāo)藥劑量。加藥裝置6能夠按照所述目標(biāo)藥劑量加入所述藥劑。
[0067]所述分段控制器包括:存儲(chǔ)單元，用于存儲(chǔ)氟離子濃度與藥劑量之間的對(duì)應(yīng)關(guān)系；獲取單元，用于接收所述一段測(cè)量值之后，根據(jù)所述對(duì)應(yīng)關(guān)系確定出所述一段測(cè)量值所對(duì)應(yīng)的藥劑量，以獲取目標(biāo)藥劑量;控制單元，用于控制加藥裝置6按照所述目標(biāo)藥劑量加入所述藥劑。所述獲取單元會(huì)實(shí)時(shí)地根據(jù)所述一段測(cè)量值確定出所述目標(biāo)藥劑量。當(dāng)所述獲取單元所確定出的所述目標(biāo)藥劑量發(fā)生變化時(shí)，加藥裝置6會(huì)按照變化后的所述目標(biāo)藥劑量來(lái)加入所述藥劑。根據(jù)所述一段測(cè)量值確定出所述目標(biāo)藥劑量時(shí)，逐個(gè)判斷所述一段測(cè)量值屬于哪個(gè)所述對(duì)應(yīng)關(guān)系中的氟離子濃度，一旦判斷出，則與該氟離子濃度所對(duì)應(yīng)的藥劑量即為所述目標(biāo)藥劑量。
[0068]在本實(shí)施例中，所述分段控制器中的目標(biāo)藥劑量偏大，使得所述加藥裝置6按照所述目標(biāo)藥劑量來(lái)加入所述藥劑后，經(jīng)所述一段去氟離子裝置2排出的含氟廢水的氟離子濃度小于所述排放標(biāo)準(zhǔn)，這樣一來(lái)經(jīng)所述一段去氟離子裝置2排出的含氟廢水的氟離子濃度更為有效地可控，避免了因意外導(dǎo)致的藥劑量稍偏小時(shí)導(dǎo)致處理后的含氟廢水排放超標(biāo)。
[0069]在本實(shí)施例中，所述一段去氟離子處理為化學(xué)混凝(chemical coagulat1n)處理，其具有成本低、操作方便、處理時(shí)間短等優(yōu)點(diǎn)。一段去氟離子裝置2包括:一段反應(yīng)槽20以及與一段反應(yīng)槽20連通的一段沉降槽21，一段沉降槽21在含氟廢水的排放路徑上位于一段反應(yīng)槽20的下游。加藥裝置6用于向一段反應(yīng)槽20內(nèi)加入所述藥劑，所述藥劑包括鈣鹽，所述鈣鹽能與所述含氟廢水中的氟離子發(fā)生反應(yīng)以生成氟化鈣沉淀物。一段沉降槽21用于將所述氟化鈣凝集并沉降下來(lái)以進(jìn)行泥水分離，所述泥水分離后將所述含氟廢水排出，測(cè)量裝置5所測(cè)量出的所述一段測(cè)量值為一段沉降槽21的排水口處含氟廢水的氟離子濃度。
[0070]在本實(shí)施例中，所述鈣鹽為氯化鈣。但需說(shuō)明的是，在本發(fā)明的技術(shù)方案中，所述鈣鹽的種類并不應(yīng)局限于本實(shí)施例，只要其能與氟離子發(fā)生反應(yīng)以形成沉淀物即可。[0071 ]在本實(shí)施例中，一段去氟離子裝置2僅包括一個(gè)一段反應(yīng)槽20，但需說(shuō)明的是，在本發(fā)明的技術(shù)方案中，一段去氟離子裝置2中一段反應(yīng)槽20的數(shù)量并不應(yīng)局限于本實(shí)施例，其可以設(shè)置為兩個(gè)或以上的數(shù)量，此時(shí)所有一段反應(yīng)槽20在含氟廢水的排放路徑上依次設(shè)置并連通，且均位于一段沉淀槽21的上游，以增加含氟廢水的氟離子與鈣鹽的反應(yīng)時(shí)間，以進(jìn)一步地降低含氟廢水的氟離子濃度。當(dāng)一段去氟離子裝置2內(nèi)設(shè)置有兩個(gè)或以上的一段反應(yīng)槽20時(shí)，加藥裝置6可以僅向最上游的一段反應(yīng)槽20內(nèi)加入所述藥劑，也可以同時(shí)向多個(gè)一段反應(yīng)槽20內(nèi)加入所述藥劑。
[0072]需說(shuō)明的是，在本發(fā)明的技術(shù)方案中，所述藥劑在一段去氟離子裝置2內(nèi)所進(jìn)行的所述一段去氟離子處理并不應(yīng)局限于本實(shí)施例，其可以采用任意能夠利用藥劑與氟離子的反應(yīng)以降低氟離子濃度的處理方法。與之相對(duì)應(yīng)地，當(dāng)所述一段去氟離子處理發(fā)生變化時(shí)，所述藥劑的種類也應(yīng)根據(jù)所述一段去氟離子處理作出調(diào)整。
[0073]在本實(shí)施例中，含氟廢水處理系統(tǒng)還包括與一段去氟離子裝置2連通的二段去氟離子裝置3。在含氟廢水的排放路徑上，二段去氟離子裝置3位于一段去氟離子裝置2的下游，使得從一段去氟離子裝置2排出的含氟廢水流向二段去氟離子裝置3后排出，將二段去氟離子裝置3的排出口定義為含氟廢水處理系統(tǒng)的出口。由于一段去氟離子裝置2與二段去氟離子裝置3連通，故加藥裝置6向一段去氟離子裝置2內(nèi)加入的藥劑能在含氟廢水的流動(dòng)下流向二段去氟離子裝置3內(nèi)。二段去氟離子裝置3能夠利用所述藥劑對(duì)經(jīng)所述一段去氟離子處理后的含氟廢水進(jìn)行二段去氟離子處理后將含氟廢水排出。通過(guò)對(duì)含氟廢水先后進(jìn)行所述一、二段去氟離子處理，即進(jìn)行兩次去氟離子處理，故能使得含氟廢水中的氟離子能夠得到有效去除，從而保證排放的含氟廢水達(dá)到所述排放標(biāo)準(zhǔn)。
[0074]在本實(shí)施例中，一段去氟離子裝置2與二段去氟離子裝置3之間設(shè)置有傳輸栗(未圖示)，該傳輸栗用于將一段去氟離子裝置2內(nèi)的含氟廢水源源不斷地快速地傳輸?shù)蕉稳シx子裝置3內(nèi)。在其它實(shí)施例中，含氟廢水處理系統(tǒng)中也可以沒有該傳輸栗，在這種情況下，只要保證一段去氟離子裝置2與二段去氟離子裝置3之間是連通的，一段去氟離子裝置2內(nèi)的含氟廢水也可以持續(xù)地導(dǎo)入二段去氟離子裝置3內(nèi)。
[0075]測(cè)量裝置5還用于:實(shí)時(shí)地測(cè)量所述二段去氟離子處理后的所述含氟廢水中的氟離子濃度，以獲得二段測(cè)量值?？刂蒲b置4還用于:將所述二段測(cè)量值與所述目標(biāo)值進(jìn)行比較，并在所述二段測(cè)量值大于所述目標(biāo)值時(shí)，控制加藥裝置6同時(shí)向一段去氟離子裝置2和二段去氟離子裝置3內(nèi)加入所述藥劑。在本實(shí)施例中，當(dāng)所述二段測(cè)量值小于等于所述目標(biāo)值時(shí)，加藥裝置6僅向一段去氟離子裝置2加入所述藥劑，而不向二段去氟離子裝置3內(nèi)加入所述藥劑。
[0076]一旦檢測(cè)到經(jīng)所述二段氟離子處理后的含氟廢水中的氟離子濃度超標(biāo)，則可以在向上游的一段去氟離子裝置2內(nèi)加入藥劑的同時(shí)，也向下游的二段去氟離子裝置3內(nèi)加入藥劑。二段去氟離子裝置3非常靠近含氟廢水處理系統(tǒng)的出口，這樣一來(lái)，二段去氟離子裝置3內(nèi)的藥劑可以迅速地與靠近含氟廢水處理系統(tǒng)出口處的含氟廢水中的氟離子發(fā)生反應(yīng)，以迅速及時(shí)地降低含氟廢水處理系統(tǒng)出口處的含氟廢水中的氟離子濃度，從而可以在第一時(shí)間進(jìn)行補(bǔ)救，以防止含氟廢水排放超標(biāo)。
[0077]在本實(shí)施例中，所述二段測(cè)量值大于所述目標(biāo)值時(shí)，加藥裝置6向二段去氟離子裝置3內(nèi)加入所述藥劑的藥劑量確定方法，與加藥裝置6向一段去氟離子裝置2內(nèi)加入所述藥劑的藥劑量確定方法基本上相同，唯一的區(qū)別在于前者是基于所述二段測(cè)量值來(lái)確定，而后者是基于所述一段測(cè)量值來(lái)確定。
[0078]在本實(shí)施例中，加藥裝置6的數(shù)量為一個(gè)，其同時(shí)向一段去氟離子裝置2、二段去氟離子裝置3內(nèi)加入藥劑。在其它實(shí)施例中，加藥裝置6也可以包括兩個(gè)單元，其中一個(gè)單元用于向一段去氟離子裝置2內(nèi)加入藥劑，另一個(gè)單元用于向二段去氟離子裝置3內(nèi)加入藥劑。
[0079]在本實(shí)施例中，所述二段去氟離子處理也為化學(xué)混凝處理;二段去氟離子裝置3包括:二段反應(yīng)槽30以及與二段反應(yīng)槽30連通的二段沉降槽31，二段沉降槽31在含氟廢水的排放路徑上位于二段反應(yīng)槽30的下游。加藥裝置6還用于向二段反應(yīng)槽30內(nèi)加入所述藥劑，所述藥劑包括鈣鹽，所述鈣鹽能與所述含氟廢水中的氟離子發(fā)生反應(yīng)以生成氟化鈣沉淀物。二段沉降槽31用于將所述氟化鈣凝集并沉降下來(lái)以進(jìn)行泥水分離，所述泥水分離后將所述含氟廢水排出，所述二段測(cè)量值為二段沉降槽31的排水口處含氟廢水的氟離子濃度。
[0080]在本實(shí)施例中，二段去氟離子裝置3僅包括一個(gè)二段反應(yīng)槽30，但需說(shuō)明的是，在本發(fā)明的技術(shù)方案中，二段去氟離子裝置3中二段反應(yīng)槽30的數(shù)量并不應(yīng)局限于本實(shí)施例，其可以設(shè)置為兩個(gè)或以上的數(shù)量，此時(shí)所有二段反應(yīng)槽30在含氟廢水的排放路徑上依次設(shè)置并連通，且均位于二段沉淀槽31的上游，以增加含氟廢水的氟離子與鈣鹽的反應(yīng)時(shí)間，以進(jìn)一步地降低含氟廢水的氟離子濃度。當(dāng)二段去氟離子裝置3內(nèi)設(shè)置有兩個(gè)或以上的二段反應(yīng)槽30時(shí)，在所述二段測(cè)量值大于所述目標(biāo)值的情況下，加藥裝置6可以僅向最上游的二段反應(yīng)槽30內(nèi)加入所述藥劑，也可以同時(shí)向多個(gè)二段反應(yīng)槽30內(nèi)加入所述藥劑。
[0081]需說(shuō)明的是，在本發(fā)明的技術(shù)方案中，所述藥劑在二段去氟離子裝置3內(nèi)所進(jìn)行的所述二段去氟離子處理并不應(yīng)局限于本實(shí)施例，其可以采用任意能夠利用藥劑與氟離子的反應(yīng)以降低氟離子濃度的處理方法。與之相對(duì)應(yīng)地，當(dāng)所述二段去氟離子處理發(fā)生變化時(shí)，所述藥劑的種類也應(yīng)根