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      矯直機(jī)的制作方法

      文檔序號:9033352閱讀:193來源:國知局
      矯直機(jī)的制作方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本實(shí)用新型涉及一種矯直機(jī)。
      【背景技術(shù)】
      [0002]矯直機(jī)是鋼管加工機(jī)械之一,其基本工作原理為,電動(dòng)機(jī)(或是其他傳動(dòng)機(jī)構(gòu))驅(qū)動(dòng)調(diào)直機(jī)內(nèi)部的上下壓輥旋轉(zhuǎn),然后將鋼管送入調(diào)直機(jī)中,利用上下壓輥的的擠壓作用將鋼管調(diào)直,并由調(diào)直模清除鋼管表面的銹皮。在上下壓輥對鋼管進(jìn)行矯直的過程中,上下壓輥和鋼管之間會(huì)發(fā)生摩擦,因此會(huì)在上下壓輥以及鋼管上產(chǎn)生一些雜質(zhì)(鐵肩);同時(shí)在一些矯直機(jī)上還會(huì)設(shè)置毛刷或是噴嘴,將鋼管或是上下壓輥上的雜質(zhì)清除,以對鋼管起到更好的矯直作用。然而雜質(zhì)從鋼管或是上下壓輥上掉落下來后,都會(huì)掉落到矯直機(jī)的工作臺面上,同時(shí)由于工作臺上會(huì)存在著許多的工作部件,所以一般的器具難以完整的放置到工作臺面上對雜質(zhì)進(jìn)行完好的收集清理,因此清理相對比較麻煩;而且當(dāng)雜質(zhì)堆積到一定程度后,雜質(zhì)很容易向四周溢開,從工作臺上掉落到地面上,從而對生產(chǎn)車間造成污染。在現(xiàn)有技術(shù)中,當(dāng)雜質(zhì)堆積到一定程度時(shí),都是利用畚箕抵靠在矯直機(jī)垂直于地面的側(cè)壁上,然后再利用掃把將堆積在工作臺上的雜質(zhì)清掃到畚箕中,然而由于畚箕與矯直機(jī)的側(cè)壁之間會(huì)存在空隙,同時(shí)由于畚箕的寬度較小,導(dǎo)致雜質(zhì)很容易掉落到地面上,從而給雜質(zhì)的收集帶來不便。
      【實(shí)用新型內(nèi)容】
      [0003]針對現(xiàn)有技術(shù)存在的不足,本實(shí)用新型的目的在于提供一種可將堆積在工作臺上的雜質(zhì)進(jìn)行有效清理收集的矯直機(jī)。
      [0004]為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供了如下技術(shù)方案:一種矯直機(jī),包括上架體和下架體,下架體對應(yīng)上架體的一面為工作臺,還包括有雜質(zhì)收集溝槽,雜質(zhì)收集溝槽開設(shè)于工作臺的邊緣位置處,且將工作臺包圍設(shè)置,下架體的側(cè)壁上還開設(shè)有容腔,容腔中滑移配合設(shè)置有收集箱,雜質(zhì)收集溝槽中開設(shè)有落料通道,落料通道與容腔相導(dǎo)通設(shè)置。
      [0005]優(yōu)選的,落料通道上設(shè)置有密封蓋。
      [0006]優(yōu)選的,雜質(zhì)收集溝槽對應(yīng)工作臺的另一側(cè)壁設(shè)置為遮擋壁,工作臺的臺面高度低于遮擋壁的上壁高度設(shè)置。
      [0007]優(yōu)選的,容腔的內(nèi)壁上設(shè)置有磁鐵,所述收集箱為鐵質(zhì)材料制成。
      [0008]本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是:當(dāng)在工作臺上堆積到一定的雜質(zhì)時(shí),可利用掃把將雜質(zhì)全都清掃到雜質(zhì)收集溝槽中,然后將雜質(zhì)通入到落料通道中,收集到收集箱中,最后進(jìn)行處理,從而遍對雜質(zhì)起到了有效的處理效果;另一方面,即使工作臺上堆積的大量雜質(zhì)向四處擴(kuò)散時(shí),最后也會(huì)進(jìn)入到雜質(zhì)收集溝槽中被收集,即雜質(zhì)不會(huì)掉落到地面上對生產(chǎn)車間造成環(huán)境的污染。
      【附圖說明】
      [0009]圖1為本實(shí)用新型矯直機(jī)實(shí)施例的不意圖;
      [0010]圖2為本實(shí)用新型矯直機(jī)實(shí)施例的俯視圖;
      [0011]圖3為本實(shí)用新型矯直機(jī)實(shí)施例的另一不意圖。
      [0012]附圖標(biāo)記:1、上架體;2、下架體;3、收集箱;4、把手;5、工作臺;6、雜質(zhì)收集溝槽;7、遮擋壁;8、落料通道。
      【具體實(shí)施方式】
      [0013]參照圖1至圖3對本實(shí)用新型矯直機(jī)實(shí)施例做進(jìn)一步說明。
      [0014]一種矯直機(jī),包括上架體I和下架體2,下架體2對應(yīng)上架體I的一面為工作臺5,上架體I上設(shè)置有上壓輥,下架體2的工作面上設(shè)置有下壓輥;下架體2的俯視面呈長方形設(shè)置,下架體2的工作面上還設(shè)置有雜質(zhì)收集溝槽6,雜質(zhì)收集溝槽6開設(shè)于工作臺5的邊緣位置處,即雜質(zhì)收集溝槽6沿長方形延伸且封閉,將工作臺5包圍設(shè)置;下架體2的側(cè)壁上還開設(shè)有容腔,容腔中滑移配合設(shè)置有收集箱3,收集箱3上設(shè)置有把手4,通過把手4以方便將收集箱3從容腔中抽出,雜質(zhì)收集溝槽6中開設(shè)有落料通道8,落料通道8與容腔相導(dǎo)通設(shè)置。綜上所述,在本實(shí)用新型中,首先可將工作臺5上的雜質(zhì)清掃如雜質(zhì)收集溝槽6中,然后再將落入雜質(zhì)收集溝槽6中的雜質(zhì)送推送到落料通道8中,使得雜質(zhì)掉落到容腔中的收集箱3中,以進(jìn)行有效的收集處理。
      [0015]進(jìn)一步的,落料通道8上設(shè)置有密封蓋,該密封蓋可對落料通道8起到有效的通斷作用。
      [0016]進(jìn)一步的,雜質(zhì)收集溝槽6對應(yīng)工作臺5的另一側(cè)壁設(shè)置為遮擋壁7,工作臺5的臺面高度低于遮擋壁7的上壁高度設(shè)置,遮擋壁7的高度高于工作臺5面,可對堆積于工作臺5上的雜質(zhì)起到限定作用,防止雜質(zhì)在被清掃的過程中,越過遮擋壁7掉落的地上的情況。
      [0017]進(jìn)一步的,容腔的內(nèi)壁上開設(shè)有固定槽,固定槽中固定設(shè)置有磁鐵,收集箱3為鐵質(zhì)材料制成,該設(shè)置可將收集箱3穩(wěn)定的固定在容腔中,防止收集箱3意外脫離容腔的情況,保證了本實(shí)用新型的實(shí)用性。
      [0018]以上所述僅是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式,本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不僅局限于上述實(shí)施例,凡屬于本實(shí)用新型思路下的技術(shù)方案均屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。應(yīng)當(dāng)指出,對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,在不脫離本實(shí)用新型原理前提下的若干改進(jìn)和潤飾,這些改進(jìn)和潤飾也應(yīng)視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
      【主權(quán)項(xiàng)】
      1.一種矯直機(jī),包括上架體和下架體,下架體對應(yīng)上架體的一面為工作臺,其特征在于:還包括有雜質(zhì)收集溝槽,所述雜質(zhì)收集溝槽開設(shè)于工作臺的邊緣位置處,且將工作臺包圍設(shè)置,所述下架體的側(cè)壁上還開設(shè)有容腔,所述容腔中滑移配合設(shè)置有收集箱,所述雜質(zhì)收集溝槽中開設(shè)有落料通道,所述落料通道與容腔相導(dǎo)通設(shè)置。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的矯直機(jī),其特征是:所述落料通道上設(shè)置有密封蓋。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的矯直機(jī),其特征是:所述雜質(zhì)收集溝槽對應(yīng)工作臺的另一側(cè)壁設(shè)置為遮擋壁,所述工作臺的臺面高度低于遮擋壁的上壁高度設(shè)置。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的矯直機(jī),其特征是:所述容腔的內(nèi)壁上設(shè)置有磁鐵,所述收集箱為鐵質(zhì)材料制成。
      【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種矯直機(jī),其技術(shù)方案要點(diǎn)是包括上架體和下架體,下架體對應(yīng)上架體的一面為工作臺,還包括有雜質(zhì)收集溝槽,雜質(zhì)收集溝槽開設(shè)于工作臺的邊緣位置處,且將工作臺包圍設(shè)置,下架體的側(cè)壁上還開設(shè)有容腔,容腔中滑移配合設(shè)置有收集箱,雜質(zhì)收集溝槽中開設(shè)有落料通道,落料通道與容腔相導(dǎo)通設(shè)置。本實(shí)用新型的目的在于提供一種可將堆積在工作臺上的雜質(zhì)進(jìn)行有效清理收集的矯直機(jī)。
      【IPC分類】B08B15/04, B21D3/00
      【公開號】CN204685634
      【申請?zhí)枴緾N201520367173
      【發(fā)明人】金達(dá), 王之濤, 金國華, 柏玲
      【申請人】杭州立達(dá)管業(yè)有限公司
      【公開日】2015年10月7日
      【申請日】2015年5月29日
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