本發(fā)明涉及一種用于至少單面涂布帶狀基材的設(shè)備，其具有至少一個(gè)布置在基材上方的上涂布輥、至少一個(gè)布置在基材下方的下涂布輥和至少一個(gè)與上涂布輥連接的調(diào)節(jié)裝置，利用該調(diào)節(jié)裝置可改變上涂布輥相對于下涂布輥的位置。

背景技術(shù)：

已知用于涂布帶狀基材的設(shè)備有不同的設(shè)計(jì)方案。尤其已知的是，借助于這種設(shè)備使用涂布輥軋方法將涂層介質(zhì)涂布到帶狀基材上。

us5385610a公開了一種用于雙面涂布帶狀基材的設(shè)備，其具有布置在基材上方的上涂布輥、布置在基材下方的下涂布輥和與上涂布輥連接的調(diào)節(jié)裝置，利用該調(diào)節(jié)裝置可改變上涂布輥在豎直方向上和橫向于上涂布輥縱向中軸線的方向上相對于下涂布輥的位置。利用調(diào)節(jié)裝置可使上涂布輥沿豎直方向線性移動(dòng)。側(cè)向于每個(gè)涂布輥分別設(shè)置有配料輥，其相對于相應(yīng)涂布輥的位置可在水平方向上改變。

cn201785472u涉及一種用于雙面涂布帶狀基材的設(shè)備，其具有布置在基材上方的上涂布輥、布置在基材下方的下涂布輥和與上涂布輥連接的調(diào)節(jié)裝置，利用該調(diào)節(jié)裝置可改變上涂布輥在豎直方向和橫向于上涂布輥縱向中軸線的方向上相對于下涂布輥的位置。為此保持上涂布輥的上框架可通過調(diào)節(jié)裝置繞水平軸線擺動(dòng)。下涂布輥通過在傾斜軌道上的滑座可線性移動(dòng)地布置在下框架處。側(cè)向于每個(gè)涂布輥分別設(shè)置有配料輥，其相對于相應(yīng)涂布輥的位置可在水平方向上變化。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是，改善開頭所述設(shè)備的功能。

該目的通過獨(dú)立權(quán)利要求實(shí)現(xiàn)。特別是在從屬權(quán)利要求中給出了有利的設(shè)計(jì)方案，其可分別單獨(dú)或彼此以不同的組合構(gòu)成本發(fā)明的一個(gè)方面。

根據(jù)本發(fā)明的用于至少單面涂布帶狀基材的設(shè)備包括至少一個(gè)布置在基材上方的上涂布輥、至少一個(gè)布置在基材下方的下涂布輥和至少一個(gè)與上涂布輥連接的調(diào)節(jié)裝置，利用該調(diào)節(jié)裝置可改變上涂布輥相對于下涂布輥的位置，其中調(diào)節(jié)裝置按如下方式構(gòu)造，即利用該調(diào)節(jié)裝置上涂布輥相對于下涂布輥的位置可在水平方向和橫向于上涂布輥縱向中軸線的方向上改變。

不同于上文所述的現(xiàn)有技術(shù)，在根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備中上涂布輥相對于下涂布輥可特別是獨(dú)立于可能的豎直運(yùn)動(dòng)而沿水平方向且橫向于上涂布輥的縱向中軸線移動(dòng)。由此可使通過基材與涂布輥的接觸產(chǎn)生的線負(fù)載最優(yōu)地適配或調(diào)整到相應(yīng)的應(yīng)用場合，以獲得期望的涂布結(jié)果。上涂布輥特別是可在下涂布輥上方的位置和相對于其側(cè)向偏移的位置之間沿水平方向移動(dòng)，在下涂布輥上方的該位置中上涂布輥的縱向中軸線豎直地布置在下涂布輥的縱向中軸線上方并且可存在最大的線負(fù)載。上涂布輥的接觸力按比例或完全被下涂布輥吸收。在下涂布輥上還附加地作用有由平放在下涂布輥上的基材重量產(chǎn)生的負(fù)載。由此根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備相對于傳統(tǒng)設(shè)備的特征在于更簡單且更堅(jiān)固的結(jié)構(gòu)、對涂布介質(zhì)更安全的處理、工藝參數(shù)的更大的可變性以及簡化的裝備。

基材可在其涂布后輸送到水平的烘箱，在該烘箱中通過熱處理烘干涂布介質(zhì)并且通過化學(xué)反應(yīng)使其時(shí)效硬化，由此在可能的情況下可附加地改善在基材和涂布介質(zhì)之間的材料連接。基材例如可為金屬帶，特別是鋼帶。

涂布輥可分別具有鋼制的輥身，該輥身具有由彈性硬質(zhì)橡膠制成的包套，例如聚氨酯(pu)、三元乙丙橡膠(epdm)或氯磺化聚乙烯(csm)。

調(diào)節(jié)裝置可構(gòu)造為液壓式、氣動(dòng)式、機(jī)電式或用于手動(dòng)操作的機(jī)械式。調(diào)節(jié)裝置特別是可具有至少一個(gè)電主軸驅(qū)動(dòng)部。

涂布介質(zhì)可利用上涂布輥和/或下涂布輥涂布到基材上。涂布主要受到在涂布輥之間相應(yīng)的接觸力或涂布輥在基材中相應(yīng)的浸入深度的影響。對于所涂布的涂層的層厚度變化可考慮不同的調(diào)節(jié)變量。這些調(diào)節(jié)變量取決于為相應(yīng)的涂布輥著色所使用的方法、相應(yīng)涂布輥相對于基材通過設(shè)備輸送的方向的同向或反向運(yùn)行方式、相應(yīng)涂布輥的圓周速度與基材輸送速度的比例以及涂布輥相對于彼此的相互接觸壓力或擠壓壓力。其他影響因素例如為涂布介質(zhì)的粘性、在工藝中所涉及表面的粗糙度與涂布介質(zhì)和基材的溫度。

設(shè)備優(yōu)選包括用于檢測和調(diào)節(jié)設(shè)備運(yùn)行狀態(tài)的傳感系統(tǒng)。所有驅(qū)動(dòng)部或手動(dòng)調(diào)節(jié)可能性可分別與位移測量系統(tǒng)(刻度尺或傳感系統(tǒng))組合，以能夠檢測涂布輥相對于彼此的和涂布輥相對于基材的相對位置。關(guān)鍵位置可附加地通過限位開關(guān)檢測。在涂布輥接觸時(shí)可直接利用測力桿或者在液壓調(diào)節(jié)中間接通過在液壓缸處的壓力測量來測量在涂布輥之間的接觸力。力測量可特別是在涂布輥處、在涂布輥和配料輥之間以及在調(diào)節(jié)裝置處進(jìn)行。

根據(jù)一個(gè)有利的設(shè)計(jì)方案，調(diào)節(jié)裝置包括至少一個(gè)導(dǎo)向結(jié)構(gòu)、至少一個(gè)相應(yīng)于上涂布輥可線性移動(dòng)地布置在該導(dǎo)向結(jié)構(gòu)處的滑座和至少一個(gè)與該滑座連接的調(diào)節(jié)單元，其中上涂布輥可繞其縱向中軸線旋轉(zhuǎn)地支承在滑座處，利用調(diào)節(jié)單元可改變滑座相對于導(dǎo)向結(jié)構(gòu)的位置。該調(diào)節(jié)單元可手動(dòng)操作或者可具有至少一個(gè)可電控的驅(qū)動(dòng)部。由此可利用調(diào)節(jié)單元在水平方向上相對于下涂布輥的位置改變上涂布輥的位置。導(dǎo)向結(jié)構(gòu)可具有至少一個(gè)直線導(dǎo)軌，在該導(dǎo)軌處可縱向移動(dòng)地導(dǎo)引滑座。滑座可通過滑塊或滑輪可移動(dòng)地在導(dǎo)向結(jié)構(gòu)處被導(dǎo)引。

設(shè)備有利地包括至少一個(gè)至少部分側(cè)向于上涂布輥布置的配料輥、至少一個(gè)相應(yīng)于上涂布輥可線性移動(dòng)地布置在導(dǎo)向結(jié)構(gòu)處的另一滑座和至少一個(gè)與該另一滑座連接的另一調(diào)節(jié)單元，配料輥可繞其縱向中軸線旋轉(zhuǎn)地支承在另一滑座處，利用另一調(diào)節(jié)單元可改變另一滑座相對于保持上涂布輥的滑座的位置，其中另一調(diào)節(jié)單元將兩個(gè)滑座相互連接。配料輥與用于為配料輥著色的系統(tǒng)連接。配料輥可具有帶有或沒有包覆涂層的鋼制的輥身。該涂層例如可為陶瓷涂層或橡膠涂層。配料輥可實(shí)施為網(wǎng)紋輥。另一調(diào)節(jié)單元可實(shí)施為液壓式、氣動(dòng)式、機(jī)電式或用于手動(dòng)操作的機(jī)械式。如果上涂布輥通過調(diào)節(jié)單元在水平方向上移動(dòng)，則配料輥同時(shí)在水平方向上移動(dòng)。配料輥通過另一調(diào)節(jié)單元獨(dú)立于上涂布輥且相對于上涂布輥移動(dòng)。上涂布輥和配料輥以及與其分別對應(yīng)的調(diào)節(jié)單元串聯(lián)布置，使得在這兩個(gè)輥之間調(diào)節(jié)的線接觸在上涂布輥借助于調(diào)節(jié)單元移動(dòng)時(shí)保持不變。上涂布輥的著色可借助于將涂布介質(zhì)通過管道引入到存在于上涂布輥和配料輥之間的輥間隙中進(jìn)行，其中可以如下方式輸送涂布介質(zhì)，即通過在輥之間構(gòu)造一種回流池使涂布介質(zhì)回流，涂布介質(zhì)位于輥間隙并且由此被定量輸送?；牡耐坎伎蓞⒖蓟牡妮斔头较蛲ㄟ^上涂布輥同向或反向的運(yùn)行方式進(jìn)行。為了在上涂布輥這兩個(gè)運(yùn)行方式之間切換必須將配料輥布置在上涂布輥的相應(yīng)另一側(cè)。導(dǎo)向結(jié)構(gòu)可具有至少一個(gè)直線導(dǎo)軌，在該導(dǎo)軌處可縱向移動(dòng)地導(dǎo)引另一滑座。該另一滑座可通過滑塊或滑輪可移動(dòng)地在導(dǎo)向結(jié)構(gòu)處被導(dǎo)引。

根據(jù)另一有利的設(shè)計(jì)方案，設(shè)備包括兩個(gè)在上涂布輥的對置的兩側(cè)分別至少部分側(cè)向于上涂布輥且相對于彼此以固定的間距布置的配料輥，其可繞其相應(yīng)縱向中軸線旋轉(zhuǎn)地支承在另一滑座處。配料輥以如下方式彼此間隔地布置在另一滑座處，即始終只有配料輥中的一個(gè)用于為上涂布輥著色，而相應(yīng)的另一配料輥與上涂布輥有更大的間距。在上涂布輥在同向和反向運(yùn)行方式之間切換時(shí)可通過另一調(diào)節(jié)單元的控制在配料輥之間進(jìn)行更快的切換，使得上涂布輥借助于相應(yīng)的另一配料輥著色。

根據(jù)另一有利的設(shè)計(jì)方案，設(shè)備包括至少一個(gè)布置在入口側(cè)的輥筒單元，其具有至少一個(gè)布置在基材下方的托輥，該托輥參考通過設(shè)備輸送基材的方向連接在下涂布輥的上游。托輥始終持續(xù)與基材接觸并且限定了懸鏈線，即基材通過設(shè)備進(jìn)行的帶傳送。此外托輥可限定基材進(jìn)入下游的水平烘箱中的高度。對于化學(xué)涂布機(jī)形式的設(shè)備在烘箱中進(jìn)行水性涂布介質(zhì)的烘干并且輔助或引發(fā)在涂布介質(zhì)中以及在基材和涂布介質(zhì)之間的化學(xué)反應(yīng)。上涂布輥可在布置在下涂布輥和托輥之間的中間位置和在下涂布輥上方豎直的位置之間沿水平方向移動(dòng)。當(dāng)上涂布輥位于中間位置時(shí)，在下涂布輥上得到最小的線負(fù)載。在該位置中上涂布輥的接觸力各一半地分布在下涂布輥和另一托輥上。

此外有利的是，輥筒單元具有至少一個(gè)布置在基材上方的壓輥，其中在托輥和壓輥之間構(gòu)造有輥間隙，通過該輥間隙可輸送基材。壓輥可壓到平放在托輥上的基材上。利用壓輥可在設(shè)備的入口將基材的可能存在的橫向彎曲彈性地從基材中壓出，由此基材與涂布輥的線接觸得以改善，這又伴隨有改善的涂布結(jié)果。由此通過壓輥或輥筒單元，相對于不期望的基材幾何形狀或?qū)ζ谕耐坎冀Y(jié)果不利的基材幾何形狀設(shè)備獲得了更大的公差。

輥筒單元有利地包括：固定的基座單元，托輥可繞其縱向中軸線旋轉(zhuǎn)地布置在該基座單元處；至少一個(gè)在基材上方且可移動(dòng)地布置在基座單元處的保持單元，壓輥可繞其縱向中軸線旋轉(zhuǎn)地布置在該保持單元處；和至少一個(gè)接合在基座單元和保持單元處的用于移動(dòng)保持單元的驅(qū)動(dòng)單元，其中保持單元可繞水平軸線擺動(dòng)地或可沿豎直方向線性移動(dòng)地布置在基座單元處。由此可改變壓輥的接觸力。

根據(jù)另一有利的設(shè)計(jì)方案，設(shè)備包括至少一個(gè)與下涂布輥連接的另一調(diào)節(jié)裝置，利用該另一調(diào)節(jié)裝置可沿豎直方向且橫向于下涂布輥的縱向中軸線改變下涂布輥相對于上涂布輥的位置。由此可將下涂布輥抵靠在帶(軋制線)上。下涂布輥的浸入深度和接觸角可通過上涂布輥的豎直行程限定。

此外有利的是，另一調(diào)節(jié)裝置具有：至少一個(gè)豎直導(dǎo)向結(jié)構(gòu)；至少一個(gè)相應(yīng)于下涂布輥可線性移動(dòng)地布置在該豎直導(dǎo)向結(jié)構(gòu)處的豎直滑座，下涂布輥可繞其縱向中軸線旋轉(zhuǎn)地支承在該豎直滑座處；和至少一個(gè)與豎直滑座連接的豎直調(diào)節(jié)單元，利用該豎直調(diào)節(jié)單元可改變豎直滑座相對于導(dǎo)向結(jié)構(gòu)的位置。豎直調(diào)節(jié)單元可手動(dòng)操作或者具有至少一個(gè)可電控的驅(qū)動(dòng)部。由此利用豎直調(diào)節(jié)單元可在豎直方向上改變下涂布輥相對于上涂布輥的位置。豎直導(dǎo)向結(jié)構(gòu)可具有至少一個(gè)直線導(dǎo)軌，在該導(dǎo)軌處可縱向移動(dòng)地導(dǎo)引豎直滑座?？赏ㄟ^滑塊或滑輪可移動(dòng)地在豎直導(dǎo)向結(jié)構(gòu)處導(dǎo)引豎直滑座。

設(shè)備有利地包括：至少一個(gè)至少部分布置在下涂布輥下方的汲取輥；至少一個(gè)至少部分布置在汲取輥下方的用于容納涂布介質(zhì)的料槽，汲取輥至少部分浸入該料槽中；至少一個(gè)相應(yīng)于下涂布輥可線性移動(dòng)地布置在豎直導(dǎo)向結(jié)構(gòu)處的另一豎直滑座，汲取輥可繞其縱向中軸線旋轉(zhuǎn)地支承在該豎直滑座處；和至少一個(gè)與該另一豎直滑座連接的另一豎直調(diào)節(jié)單元，利用該另一豎直調(diào)節(jié)單元可改變另一豎直滑座相對于保持下涂布輥的豎直滑座的位置，其中另一豎直調(diào)節(jié)單元將兩個(gè)豎直滑座相互連接。據(jù)此可利用設(shè)備對基材進(jìn)行雙面涂布。汲取輥可由優(yōu)質(zhì)鋼或普通鋼制成。其可具有陶瓷涂層。此外其可構(gòu)造為網(wǎng)紋輥。汲取輥特別是可相應(yīng)于前文所述的配料輥構(gòu)造。此外可對汲取輥的表面進(jìn)行鉻化處理。利用豎直調(diào)節(jié)單元可調(diào)節(jié)下涂布輥在基材中的浸入深度。利用另一豎直調(diào)節(jié)裝置可調(diào)節(jié)在下涂布輥和汲取輥之間的接觸力。下涂布輥和汲取輥以及分別與其對應(yīng)的豎直調(diào)節(jié)單元串聯(lián)布置，使得在這兩個(gè)輥之間調(diào)節(jié)的線接觸在下涂布輥豎直移動(dòng)時(shí)保持不變。在借助于汲取輥從料槽汲取涂布介質(zhì)時(shí)，為使下涂布輥從同向運(yùn)行方式切換成反向運(yùn)行方式僅須倒轉(zhuǎn)下涂布輥和汲取輥的旋轉(zhuǎn)方向。另一豎直調(diào)節(jié)單元可手動(dòng)操作或者可具有至少一個(gè)可電控的驅(qū)動(dòng)部。豎直導(dǎo)向結(jié)構(gòu)可具有至少一個(gè)直線導(dǎo)軌，在該導(dǎo)軌處可縱向移動(dòng)地導(dǎo)引另一豎直滑座?？赏ㄟ^滑塊或滑輪可移動(dòng)地在豎直導(dǎo)向結(jié)構(gòu)處導(dǎo)引另一豎直滑座。

根據(jù)另一有利的設(shè)計(jì)方案，調(diào)節(jié)裝置構(gòu)造為使得利用其可沿豎直方向且橫向于上涂布輥的縱向中軸線改變上涂布輥相對于下涂布輥的位置。由此可調(diào)節(jié)上涂布輥對基材的接觸力。為此調(diào)節(jié)裝置可具有至少一個(gè)可手動(dòng)操作的或可電控的驅(qū)動(dòng)單元。

根據(jù)另一有利的設(shè)計(jì)方案，設(shè)備包括至少一個(gè)固定的基座單元，在該基座單元處可移動(dòng)地布置有至少一個(gè)布置在基材上方支承上涂布輥的上支撐結(jié)構(gòu)和至少一個(gè)布置在基材下方支承下涂布輥的下支撐結(jié)構(gòu)，其中上支撐結(jié)構(gòu)和/或下支撐結(jié)構(gòu)借助于至少一個(gè)共同的驅(qū)動(dòng)裝置或分別借助于各自的驅(qū)動(dòng)裝置可分別繞水平軸線擺動(dòng)地或者可沿豎直方向線性移動(dòng)地布置在基座結(jié)構(gòu)處。通過支撐結(jié)構(gòu)的這種可移動(dòng)性，上涂布輥和/或下涂布輥可豎直浸入基材中。調(diào)節(jié)裝置布置在上支撐結(jié)構(gòu)處并且另一調(diào)節(jié)裝置布置在下支撐結(jié)構(gòu)處。

根據(jù)另一有利的設(shè)計(jì)方案，設(shè)備包括至少一個(gè)可移動(dòng)的輥筒輸送車，其具有至少一個(gè)用于上涂布輥的容納部和至少一個(gè)用于下涂布輥的容納部，其中上涂布輥和下涂布輥可通過上支撐結(jié)構(gòu)或下支撐結(jié)構(gòu)的移動(dòng)存放到輥筒輸送車的相應(yīng)容納部中。由此可簡單地進(jìn)行輥筒更換并且在設(shè)備外部簡單地維護(hù)涂布輥。借助于上支撐結(jié)構(gòu)和下支撐結(jié)構(gòu)的可利用共同的驅(qū)動(dòng)單元或分別各自的驅(qū)動(dòng)單元產(chǎn)生的行程可抬升涂布輥并且將其存放在輥筒輸送車的相應(yīng)容納部中。所以對此不需要起重機(jī)等。隨之改善了設(shè)備的可操作性和設(shè)備部件出于維護(hù)目的的易接觸性，并且可更快速地更換涂布輥。如果涂布輥已存放在輥筒輸送車的相應(yīng)容納部中，輥筒輸送車可從設(shè)備駛出。

附圖說明

在下文中參考附圖借助于優(yōu)選的實(shí)施方式范例性地闡釋本發(fā)明，其中以下所示的特征不僅可分別單獨(dú)地而且可彼此進(jìn)行各種結(jié)合地構(gòu)成本發(fā)明的一個(gè)方面。其中：

圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的一個(gè)實(shí)施例在第一設(shè)備狀態(tài)下的示意圖；

圖2示出了圖1所示設(shè)備在另一設(shè)備狀態(tài)下的示意圖；

圖3示出了在圖1和圖2中所示設(shè)備的細(xì)節(jié)示意圖；

圖4示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的另一實(shí)施例的細(xì)節(jié)示意圖；

圖5示出了圖4所示設(shè)備在上涂布輥處于同向運(yùn)行方式時(shí)的細(xì)節(jié)示意圖；

圖6示出了圖4所示設(shè)備在上涂布輥處于反向運(yùn)行方式時(shí)的細(xì)節(jié)示意圖；

圖7示出了圖4所示設(shè)備在下涂布輥處于同向運(yùn)行方式時(shí)的細(xì)節(jié)示意圖；

圖8示出了圖4所示設(shè)備在下涂布輥處于反向運(yùn)行方式時(shí)的細(xì)節(jié)示意圖；

圖9示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的另一實(shí)施例的示意圖；并且

圖10示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的另一實(shí)施例的示意圖。

在附圖中相同的或功能相同的構(gòu)件具有相同的附圖標(biāo)記。

具體實(shí)施方式

圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的用于雙面涂布帶狀基材2的設(shè)備1的一個(gè)實(shí)施例的示意圖。設(shè)備1包括布置在基材2上方的上涂布輥3和布置在基材2下方的下涂布輥4。此外設(shè)備1包括與上涂布輥3連接的調(diào)節(jié)裝置5，利用該調(diào)節(jié)裝置可按照所示雙箭頭6和7不僅沿豎直方向而且與之獨(dú)立地沿水平方向并且橫向于上涂布輥3的縱向中軸線8改變上涂布輥3相對于下涂布輥4的位置。此外設(shè)備1包括與下涂布輥4連接的另一調(diào)節(jié)裝置9，利用該另一調(diào)節(jié)裝置可按照所示雙箭頭10沿豎直方向并且橫向于下涂布輥4的縱向中軸線11改變下涂布輥4相對于上涂布輥3的位置。

調(diào)節(jié)裝置5包括：導(dǎo)向結(jié)構(gòu)12；相應(yīng)于上涂布輥3可線性移動(dòng)地布置在導(dǎo)向結(jié)構(gòu)12處的滑座13，上涂布輥3可繞其縱向中軸線8旋轉(zhuǎn)地支承在該滑座處；和圖3所示的與滑座13連接的調(diào)節(jié)單元，利用該調(diào)節(jié)單元可按照雙箭頭7沿水平方向改變滑座13相對于導(dǎo)向結(jié)構(gòu)12的位置。

另一調(diào)節(jié)裝置9包括：豎直導(dǎo)向結(jié)構(gòu)14；相應(yīng)于下涂布輥4可線性移動(dòng)地布置在豎直導(dǎo)向結(jié)構(gòu)14處的豎直滑座15，下涂布輥4可繞其縱向中軸線11旋轉(zhuǎn)地支承在該豎直滑座處；和與豎直滑座15連接的未示出的豎直調(diào)節(jié)單元，利用該調(diào)節(jié)單元可按照所示雙箭頭10沿豎直方向改變豎直滑座15相對于導(dǎo)向結(jié)構(gòu)14的位置。

此外設(shè)備1包括：兩個(gè)在上涂布輥3的對置的兩側(cè)分別至少部分側(cè)向于上涂布輥3且與其有高度偏移的配料輥16和17，并且配料輥彼此以固定間距布置；相應(yīng)于上涂布輥3可線性移動(dòng)地布置在導(dǎo)向結(jié)構(gòu)12處的另一滑座18，配料輥16和17可繞其各自縱向中軸線19或20旋轉(zhuǎn)地支承在該另一滑座處；和與另一滑座18連接的在圖3中示出的另一調(diào)節(jié)單元，利用該另一調(diào)節(jié)單元可沿水平方向改變另一滑座18相對于保持上涂布輥3的滑座13的位置。另一調(diào)節(jié)單元將兩個(gè)滑座13和18相互連接。在圖1中左側(cè)所示的配料輥16用于為上涂布輥3著色，而右側(cè)所示的配料輥17與上涂布輥3有更大的間距。在存在于配料輥16和上涂布輥3之間的輥間隙中利用未詳細(xì)示出的輸送系統(tǒng)導(dǎo)入涂布介質(zhì)21。

此外設(shè)備1包括：至少部分布置在下涂布輥4下方的汲取輥22；至少部分布置在汲取輥22下方的用于容納涂布介質(zhì)24的料槽23，汲取輥22部分浸入該料槽中；相應(yīng)于下涂布輥4可線性移動(dòng)地布置在豎直的導(dǎo)向結(jié)構(gòu)14處的另一豎直滑座25，汲取輥22可繞其縱向中軸線26旋轉(zhuǎn)地支承在該另一豎直滑座處；和與另一豎直滑座25連接的未示出的另一豎直調(diào)節(jié)單元，利用該另一豎直調(diào)節(jié)單元可改變另一豎直滑座25相對于保持下涂布輥4的豎直滑座15的位置。另一豎直調(diào)節(jié)單元將兩個(gè)豎直滑座15和25相互連接。

豎直導(dǎo)向結(jié)構(gòu)14構(gòu)成固定的基座結(jié)構(gòu)55，導(dǎo)向結(jié)構(gòu)12相應(yīng)于雙箭頭27可沿豎直方向線性移動(dòng)地布置在基座結(jié)構(gòu)55處，導(dǎo)向結(jié)構(gòu)12構(gòu)成布置在基材2上方支承上涂布輥3的上支撐結(jié)構(gòu)56。豎直滑座15構(gòu)成布置在基材2下方支承下涂布輥4的下支撐結(jié)構(gòu)57。由此上支撐結(jié)構(gòu)56和下支撐結(jié)構(gòu)57借助于至少一個(gè)未示出的共同的驅(qū)動(dòng)裝置或者分別借助于未示出的各自的驅(qū)動(dòng)裝置可沿豎直方向線性移動(dòng)地布置在基座結(jié)構(gòu)55或者說豎直導(dǎo)向結(jié)構(gòu)14處。

此外設(shè)備1包括布置在入口側(cè)的具有布置在基材2下方的托輥29的輥筒單元28，該托輥相對于通過設(shè)備1輸送基材2的方向連接在下涂布輥4的上游。此外輥筒單元28包括布置在基材2上方的壓輥30，其中在托輥29和壓輥30之間構(gòu)造有輥間隙，通過該輥間隙可輸送基材2。此外輥筒單元28包括：固定的基座單元31，托輥29可繞其縱向中軸線32旋轉(zhuǎn)地布置在該基座單元處；在基材2上方且按照雙箭頭33可沿豎直方向線性移動(dòng)地布置在基座單元31處的保持單元34，壓輥30可繞其縱向中軸線35旋轉(zhuǎn)地布置在該保持單元處；和接合在基座單元31和保持單元34處的用于移動(dòng)保持單元34的未示出的驅(qū)動(dòng)單元。

在圖1所示的設(shè)備狀態(tài)中上涂布輥3在豎直方向上位于下涂布輥4上方，由此產(chǎn)生最大的線負(fù)載。

圖2示出了圖1所示的設(shè)備1在另一設(shè)備狀態(tài)下的示意圖。該設(shè)備狀態(tài)通過以下方式由圖1所示的設(shè)備狀態(tài)引起，即滑座13已經(jīng)按照雙箭頭7水平移動(dòng)到位于下涂布輥4和托輥29之間的中間位置中。由此產(chǎn)生最小的線負(fù)載。

圖3示出了在圖1和圖2中所示的設(shè)備1的細(xì)節(jié)示意圖?？煽匆娋哂袑?dǎo)軌36的導(dǎo)向結(jié)構(gòu)12，滑座13相應(yīng)于雙箭頭7可沿水平方向線性移動(dòng)地布置在該導(dǎo)軌處。調(diào)節(jié)裝置5包括與滑座13連接的調(diào)節(jié)單元37，利用該調(diào)節(jié)單元可按照雙箭頭7沿水平方向改變滑座13相對于導(dǎo)軌36或?qū)蚪Y(jié)構(gòu)12的位置。調(diào)節(jié)單元37構(gòu)造為雙動(dòng)液壓缸，其一側(cè)接合在導(dǎo)軌36處并且另一側(cè)接合在滑座13處。此外可看見另一調(diào)節(jié)單元38，通過其將滑座13與另一滑座18連接，以可沿水平方向改變另一滑座18相對于滑座13的位置。為此另一滑座18可線性移動(dòng)地布置在導(dǎo)向結(jié)構(gòu)12的另一導(dǎo)軌39處。另一調(diào)節(jié)單元38也構(gòu)造為雙動(dòng)液壓缸。

圖4示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備1的另一實(shí)施例的細(xì)節(jié)示意圖。設(shè)備1與在圖1至圖3中所示的實(shí)施例的區(qū)別在于，僅存在一個(gè)配料輥16并且相應(yīng)地減少了另一滑座18。設(shè)備1的其余部分根據(jù)圖1至圖3構(gòu)造，因此在此為避免重復(fù)參考以上說明。

圖5示出了在圖4中所示的設(shè)備1在上涂布輥3處于同向運(yùn)行方式時(shí)的細(xì)節(jié)示意圖。基材2的輸送方向通過箭頭40表示。上涂布輥3和配料輥16的旋轉(zhuǎn)方向通過箭頭41或42表示。

圖6示出了在圖4中所示的設(shè)備1在上涂布輥3處于反向運(yùn)行方式時(shí)的細(xì)節(jié)示意圖。對此配料輥16必須布置在上涂布輥3的相反的一側(cè)，如在圖6中所示。配料輥16的布置方式的這種切換在圖1至圖3所示的實(shí)施例中不是必須的，從而可在上涂布輥3的同向運(yùn)行方式和反向運(yùn)行方式之間更快速地切換。

圖7示出了在圖4中所示的設(shè)備1在下涂布輥4處于同向運(yùn)行方式時(shí)的細(xì)節(jié)示意圖?；?的輸送方向通過箭頭40表示。下涂布輥4和汲取輥22的旋轉(zhuǎn)方向通過箭頭43或44表示。

圖8示出了在圖4中所示的設(shè)備1在下涂布輥4處于反向運(yùn)行方式時(shí)的細(xì)節(jié)示意圖。在此汲取輥22相對于下涂布輥4的布置方式不必根據(jù)在圖5和圖6中所示的配料輥改變。

圖9示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備1的另一實(shí)施例的示意圖。設(shè)備1與在圖1至圖3中所示實(shí)施例的區(qū)別在于，由導(dǎo)向結(jié)構(gòu)12構(gòu)成的上支撐結(jié)構(gòu)56和布置在基材2下方支承下涂布輥4的下支撐結(jié)構(gòu)45可按照雙箭頭48或49分別繞水平軸線46或47擺動(dòng)地布置在由豎直導(dǎo)向結(jié)構(gòu)14構(gòu)成的基座結(jié)構(gòu)55處。此外保持單元34可按照雙箭頭50繞水平軸線51擺動(dòng)地布置在固定的基座單元31處。

圖10示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備1的另一實(shí)施例的示意圖。設(shè)備1與在圖9中所示實(shí)施例的區(qū)別在于，其具有可移動(dòng)的輥筒輸送車52，該輥筒輸送車具有用于上涂布輥3的容納部53和用于下涂布輥4的容納部54。上涂布輥3和下涂布輥4通過由導(dǎo)向結(jié)構(gòu)12構(gòu)成的上支撐結(jié)構(gòu)56或下支撐結(jié)構(gòu)45的移動(dòng)可存放到輥筒輸送車52的相應(yīng)容納部53或54中，如在圖10中所示。輥筒輸送車52可具有多個(gè)未示出的滑輪以用于移動(dòng)。設(shè)備1的其余部分與在圖9中所示的實(shí)施例一致，因此在此為避免重復(fù)參考以上關(guān)于圖9的說明。

根據(jù)圖1至圖10的設(shè)備1可具有未示出的電子控制和/或調(diào)控單元，其可通過信號技術(shù)與調(diào)節(jié)裝置、調(diào)節(jié)單元、驅(qū)動(dòng)單元或驅(qū)動(dòng)裝置連接，以對這些部件進(jìn)行電控制。為此控制和/或調(diào)控單元可通過信號技術(shù)與未示出的設(shè)備傳感系統(tǒng)連接，利用該設(shè)備傳感系統(tǒng)可檢測設(shè)備的當(dāng)前狀態(tài)或者說設(shè)備構(gòu)件的當(dāng)前的接觸力和位置。控制和/或調(diào)控單元在控制有源設(shè)備部件時(shí)可考慮由設(shè)備傳感系統(tǒng)產(chǎn)生的信號。

附圖標(biāo)記列表

1設(shè)備

2基材

3上涂布輥

4下涂布輥

5調(diào)節(jié)裝置

6雙箭頭

7雙箭頭

8縱向中軸線

9另一調(diào)節(jié)裝置

10雙箭頭

11縱向中軸線

12導(dǎo)向結(jié)構(gòu)

13滑座

14豎直導(dǎo)向結(jié)構(gòu)

15豎直滑座

16配料輥

17配料輥

18另一滑座

19縱向中軸線

20縱向中軸線

21涂布介質(zhì)

22汲取輥

23料槽

24涂布介質(zhì)

25另一豎直滑座

26縱向中軸線

27雙箭頭

28輥筒單元

29托輥

30壓輥

31基座單元

32縱向中軸線

33雙箭頭

34保持單元

35縱向中軸線

36導(dǎo)軌

37調(diào)節(jié)單元

38另一調(diào)節(jié)單元

39導(dǎo)軌

40箭頭

41箭頭

42箭頭

43箭頭

44箭頭

45下支撐結(jié)構(gòu)

46軸線

47軸線

48雙箭頭

49雙箭頭

50雙箭頭

51軸線

52輥筒輸送車

53容納部

54容納部

55基座結(jié)構(gòu)

56上支撐結(jié)構(gòu)

57下支撐結(jié)構(gòu)