專利名稱：用于多缸汽缸體電鍍預(yù)處理設(shè)備和方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于多缸汽缸體的電鍍預(yù)處理設(shè)備和電鍍處理方法，特別涉及一
種能夠逐一地控制供給到多缸汽缸體的多個汽缸中的每一個的處理液的流速和施加到多 缸汽缸體的多個汽缸中的每一個的電流和電壓的電鍍預(yù)處理設(shè)備和方法。
背景技術(shù)：
已有多種對多缸汽缸體的多個汽缸中的每一個的汽缸內(nèi)壁表面執(zhí)行電鍍預(yù)處理 的方法和設(shè)備。電鍍預(yù)處理包括化學(xué)反應(yīng)，因此，溫度控制對于實現(xiàn)一致地電鍍預(yù)處理來說
非常重要。 在專利文件1 (日本專利平開第9-3687號)中描述的電鍍預(yù)處理方法和設(shè)備使用 一種插入每個汽缸并且在通過控制加熱器的溫度加熱汽缸中的處理液的同時對每個汽缸 的汽缸內(nèi)壁表面執(zhí)行電鍍預(yù)處理。 但是在電鍍預(yù)處理包括牽涉到處理液的循環(huán)的電化學(xué)蝕刻處理的情況下，會引起 電極和管夾放置于汽缸中的不便，從而使得汽缸無法容納加熱器，因此不能實行溫度控制。
另外，根據(jù)專利文件1，四個汽缸分別容納加熱器，并且四個加熱器通過一個溫度 控制器控制。從而加熱器的溫度會在汽缸間變化，結(jié)果，電鍍預(yù)處理在汽缸間不一致。
此外，根據(jù)專利文件l，被控制的不是處理液的溫度而是加熱器的溫度。因此，在 汽缸被冷卻并且從處理液吸收大量熱量的情況下，在加熱器和處理液之間存在顯著的溫度 差，即使加熱器的溫度被控制也會導(dǎo)致處理液的不適當(dāng)加熱。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明考慮到如上所述的現(xiàn)有技術(shù)中遇到的情況，本發(fā)明的一個目的在于提供一 種用于多缸汽缸體的電鍍預(yù)處理設(shè)備和電鍍處理方法，能夠執(zhí)行多個汽缸中的每一個的汽 缸內(nèi)壁表面的一致的電鍍預(yù)處理。 根據(jù)本發(fā)明能夠?qū)崿F(xiàn)上述及其他目的，在一個方面中，通過提供一種用于具有多 個汽缸的多缸汽缸體的電鍍預(yù)處理設(shè)備，該電鍍預(yù)處理設(shè)備使用布置成與汽缸內(nèi)壁表面相 對布置的電極，通過密封所述汽缸內(nèi)壁表面的一端且將處理液引導(dǎo)到所述汽缸內(nèi)壁表面， 來對每個汽缸的汽缸內(nèi)壁表面執(zhí)行電鍍預(yù)處理， 對于每個汽缸設(shè)置電源裝置和液體饋送泵中的至少一個，該電源裝置向所述汽缸 體和所述電極供給電力，該液體饋送泵將處理液饋送進(jìn)汽缸內(nèi)壁表面和電極之間的間隙。
在這個方面中，提供如下較佳示范性的實施例。 想要的是，在所述電鍍預(yù)處理中，所述電源裝置測量供給到所述汽缸體和容納在 每個所述汽缸中的所述電極的電流或電壓，并根據(jù)所述測量值控制要供給的電流或電壓。
在電鍍預(yù)處理中，進(jìn)一步地布置有控制器，該控制器根據(jù)流出每個汽缸的處理液 的出口溫度的測量值控制通過液體饋送泵饋送的處理液的流速。 控制器可以構(gòu)造用來為每個汽缸預(yù)先設(shè)置從電源裝置供給的電流或電壓值和通過液體饋送泵饋送的處理液的流速值。進(jìn)一步，該控制器可以構(gòu)造用來識別涉及從電源裝 置供給的電流或電壓或通過液體饋送泵饋送的處理液的流速發(fā)生異常的汽缸，并停止涉及 該異常的汽缸的電鍍預(yù)處理，同時繼續(xù)其他的汽缸的電鍍預(yù)處理。
進(jìn)一步可以對于每個汽缸設(shè)置存儲處理液的處理液罐。 在本發(fā)明的另一個方面中，還提供一種用于具有多個汽缸的多缸汽缸體電鍍預(yù)處
理方法，使用布置成與汽缸內(nèi)壁表面相對布置的電極，通過密封汽缸內(nèi)壁表面的一端且將
處理液引導(dǎo)到汽缸內(nèi)壁表面，來對每個汽缸的汽缸內(nèi)壁表面執(zhí)行電鍍預(yù)處理， 其中供給到汽缸體和電極的電流或電壓和饋送進(jìn)汽缸內(nèi)壁表面和電極之間的間
隙的處理液的流速中的至少一個對于每個汽缸而調(diào)節(jié)。 在上述電鍍預(yù)處理方法中，想要的是，在電鍍預(yù)處理中，供給到汽缸體和容納在每
個汽缸中的電極的電流或電壓被測量，并根據(jù)測量值控制要供給的電流或電壓。 想要的是，在電鍍預(yù)處理中，流出每個汽缸的處理液的出口溫度被測量，根據(jù)該測
量值控制通過液體饋送泵饋送的處理液的流速。 想要的是，對于每個汽缸預(yù)先設(shè)定從電源裝置供給的電流或電壓值和通過液體饋 送泵饋送的處理液的流速值。 想要的是，當(dāng)在從電源裝置饋送的電流或電壓或通過液體饋送泵饋送的處理液的 流速中發(fā)生異常時，與異常相關(guān)的汽缸的電鍍預(yù)處理被停止，其他的汽缸的電鍍預(yù)處理繼 續(xù)完成，其后，再次執(zhí)行與異常有關(guān)的汽缸的電鍍預(yù)處理。 在另一個方面，本發(fā)明可以提供一種用于多缸汽缸體的電鍍預(yù)處理設(shè)備，包括
設(shè)備本體，該設(shè)備本體包括工件裝配臺，汽缸體安裝在該工件裝配臺上；
電極，該電極通過為設(shè)備本體設(shè)置的電極支撐器所支撐； 處理液供給構(gòu)件，該處理液供給構(gòu)件用于將處理液供給到汽缸內(nèi)壁表面和電極的 外壁表面之間形成的間隙和圓柱形電極的內(nèi)部中，該處理液供給構(gòu)件包括液體饋送泵；
電源構(gòu)件，該電源構(gòu)件用于向電極和汽缸體傳導(dǎo)電力；禾口
密封構(gòu)件，該密封構(gòu)件用于密封汽缸內(nèi)壁表面的一端側(cè)， 其中，對于每個汽缸設(shè)置電源構(gòu)件和液體饋送泵中的至少一個，該液體饋送泵將 處理液饋送進(jìn)汽缸內(nèi)壁表面和電極之間的間隙。 在電鍍預(yù)處理中，進(jìn)一步地布置有控制器，該控制器根據(jù)流出每個汽缸的處理液 的出口溫度的測量值控制通過液體饋送泵饋送的處理液的流速。 根據(jù)如上所述的特征的本發(fā)明的用于多缸汽缸體的電鍍預(yù)處理設(shè)備和方法，通過
為每個汽缸設(shè)置電源裝置能夠?qū)τ诿總€汽缸調(diào)節(jié)電流或電壓，通過為每個汽缸設(shè)置液體饋
送泵能夠?qū)τ诿總€汽缸調(diào)節(jié)處理液的流速。因此，即使當(dāng)電阻或者處理液流動通道的阻抗
在汽缸之間變化時，多個汽缸的汽缸內(nèi)壁表面的電鍍預(yù)處理能夠一致地執(zhí)行。 本發(fā)明的本質(zhì)和更進(jìn)一步的特征將通過參照附圖作出的以下描述而變得更加清楚。


在附圖中 圖1為包括根據(jù)本發(fā)明的實施例的用于多缸汽缸體的電鍍預(yù)處理設(shè)備的電鍍處理流水線的俯視圖； 圖2為具有圖1所示的電鍍預(yù)處理設(shè)備的功能、還具有電鍍設(shè)備的功能的處理設(shè) 備的整體的主視圖； 圖3為圖2所示的處理設(shè)備中的電極、空氣接頭和它們的圍繞物的剖視圖；
圖4包括圖3中所示的密封夾具的剖視圖，其中圖4A顯示密封構(gòu)件擴(kuò)張的狀態(tài)， 和圖4B顯示密封構(gòu)件收縮的狀態(tài)； 圖5為顯示用于向圖2所示的汽缸體和電極供給電力的路線的電路示意圖；
圖6為圖2所示的汽缸體的立體圖； 圖7為顯示圖6中的汽缸體的各個汽缸和這些汽缸的內(nèi)壁表面的溫度之間的關(guān)系 的圖表； 圖8為顯示蝕刻電壓和圖6中顯示的汽缸體在電解刻蝕處理中的各個汽缸之間的 關(guān)系的圖表； 圖9為顯示蝕刻量和圖6中顯示的汽缸體在電解刻蝕處理中的各個汽缸之間的關(guān) 系的圖表； 圖10為顯示處理液從化學(xué)藥劑罐供給到圖1所示的電鍍預(yù)處理設(shè)備的流動路徑 的構(gòu)造的示意圖；禾口 圖11為顯示圖10中所示的液體饋送泵的循環(huán)數(shù)量的控制方式的實例的圖表。
具體實施例方式
在下文中，參照附圖描述本發(fā)明的實施例。進(jìn)一步地說，在下文說明中，術(shù)語"上"、 "下"、"右"、"左"及類似術(shù)語在這里參照附圖的圖釋使用。 參照圖1和2，圖1所示的電鍍處理流水線70是執(zhí)行圖2所示的發(fā)動機(jī)的汽缸體 l(在本實施例中為V型多汽缸(例如，6汽缸)氣缸體)中的多個(例如，6個)汽缸2的 每一個的汽缸內(nèi)壁表面3的電鍍預(yù)處理和電鍍處理的設(shè)備或者裝備。 電鍍處理流水線70包括多個電鍍預(yù)處理設(shè)備或單元(具體地說，脫脂清潔設(shè)備 71、電解蝕刻設(shè)備72和陽極氧化設(shè)備73)、電鍍設(shè)備74和起到運載傳送器作用的輥傳送器 75。 在該電鍍處理流水線70中，脫脂清潔設(shè)備71布置在電解蝕刻設(shè)備72的上游，電 解蝕刻設(shè)備72布置在陽極氧化設(shè)備73的上游，且陽極氧化設(shè)備73布置在電鍍設(shè)備74的 上游。 例如，輥傳送器75布置在脫脂清潔設(shè)備71和電解蝕刻設(shè)備72之間、電解蝕刻設(shè)
備72和陽極氧化設(shè)備73之間和陽極氧化設(shè)備73和電鍍設(shè)備74之間。 脫脂清潔設(shè)備71為將汽缸體1浸在處理液中以實現(xiàn)脫脂或其他處理的處理設(shè)備。
相反，電解蝕刻設(shè)備72、陽極氧化設(shè)備73和電鍍設(shè)備74為使得處理液流動通過氣缸體1的
氣缸2從而只有汽缸2的汽缸內(nèi)壁表面3受到電解刻蝕處理、陽極氧化處理和電鍍處理的
處理設(shè)備。 更具體地說，在脫脂清潔設(shè)備71中，汽缸體1由未顯示的工件卡盤或其他的夾緊 構(gòu)件保持，并且依次浸在脫脂罐79、清洗罐80和預(yù)熱罐81中。通過將汽缸體1沉浸在脫 脂罐79中，在汽缸體1上的油性物和污染物被清除。通過將汽缸體1沉浸在清洗罐80中，汽缸體被清潔。通過將汽缸體1沉浸在預(yù)熱罐81中，整個汽缸體1被均勻地加熱到預(yù)定溫度。 電解蝕刻設(shè)備72包括處理液貯藏裝置85和多個電源裝置92，處理液貯藏裝置85 設(shè)置有兩個化學(xué)藥劑罐83和多個(例如，六個)液體饋送泵84。處理液貯藏裝置85和電 源裝置92布置得靠近彼此。每個電源裝置92和每個液體饋送泵84與多個氣缸體1的氣 缸2中的相應(yīng)的一個相關(guān)聯(lián)。標(biāo)號97指示控制電解蝕刻設(shè)備72的控制器。
電解蝕刻設(shè)備72執(zhí)行電解刻蝕處理以通過清除汽缸內(nèi)壁表面3上的雜質(zhì)或氧化 膜并且對汽缸內(nèi)壁表面3蝕刻預(yù)定量來增強(qiáng)電鍍的附著力，其中對汽缸內(nèi)壁表面3蝕刻預(yù) 定量通過液體饋送泵84和從電源裝置92供給電力從化學(xué)藥劑罐83將處理液(例如，起電 鍍預(yù)處理液作用的磷酸溶液)只引導(dǎo)到氣缸體1的氣缸2的汽缸內(nèi)壁表面3使得汽缸內(nèi)壁 表面3粗糙。 兩個化學(xué)藥劑罐83設(shè)置用于防止電解刻蝕處理被中斷。也就是說，在兩個化學(xué)藥
劑罐83中的一個被重新充滿新處理液的同時，另一個罐用于電解刻蝕處理。 陽極氧化設(shè)備73包括處理液貯藏裝置88和多個(例如，六個)電源裝置93，處理
液貯藏裝置88設(shè)置有兩個化學(xué)藥劑罐86和多個(例如六個)液體饋送泵87。處理液貯藏
裝置88和電源裝置93被布置得彼此靠近。每個電源裝置93和每個液體饋送泵87與氣缸
體1的多個氣缸2中的相應(yīng)的一個相關(guān)聯(lián)。引用標(biāo)記98表示控制陽極氧化設(shè)備73的控制器。 陽極氧化設(shè)備73通過由液體饋送泵87將處理液(例如起電鍍預(yù)處理液體作用的 磷酸溶液)從化學(xué)藥劑罐86僅引導(dǎo)到氣缸體1的氣缸2的汽缸內(nèi)壁表面3并且從電源裝 置93供給電力執(zhí)行陽極氧化處理，以通過在汽缸內(nèi)壁表面3上形成多孔的氧化膜增加電鍍 的附著力。設(shè)置兩個化學(xué)藥劑罐86以防止陽極氧化處理被中斷。也就是說，在兩個化學(xué)藥 劑罐86中的一個被重新充滿新處理液的同時，另一個罐用于陽極氧化處理。
電鍍設(shè)備74包括處理液貯藏裝置91和多個(例如六個)電源裝置94，處理液貯 藏裝置91設(shè)置有一個化學(xué)藥劑罐89和多個(例如六個)液體饋送泵90。處理液貯藏裝置 91和電源裝置94布置得彼此靠近。每個電源裝置94和每個液體饋送泵90與多個氣缸體 1的氣缸2中的相應(yīng)的一個相關(guān)聯(lián)。標(biāo)號99表示控制電鍍設(shè)備74的控制器。
電鍍設(shè)備74通過液體饋送泵90將處理液(例如起電鍍液作用的硫酸鎳電鍍液) 從化學(xué)藥劑罐89僅引導(dǎo)到氣缸體1的氣缸2的汽缸內(nèi)壁表面3，以在汽缸內(nèi)壁表面3上形 成電鍍膜(例如鎳電鍍膜)。 處理液貯藏裝置85的化學(xué)藥劑罐83，處理液貯藏裝置88的化學(xué)藥劑罐86和處理 液貯藏裝置91的化學(xué)藥劑罐89與稍后描述的化學(xué)藥劑罐25(圖3)相同，處理液貯藏裝置 85的液體饋送泵84、處理液貯藏裝置88的液體饋送泵87和處理液貯藏裝置91的液體饋 送泵90也與稍后描述的液體饋送泵24(圖3)相同。 此外，電源裝置92、93和94與稍后描述的電源裝置30相同，控制器97、98和99 同稍后描述的控制器62相同。 在下文中，起到電解蝕刻設(shè)備72、陽極氧化設(shè)備73和電鍍設(shè)備74作用的處理設(shè)備 IO將參照圖2至4描述。 圖2所示的處理設(shè)備10包括設(shè)備主單元11、電極12、密封夾具13、工件保持夾具14、空氣接頭15、夾具氣缸16和電極氣缸17。處理設(shè)備IO利用密封夾具13密封汽缸內(nèi)壁 表面3靠近發(fā)動機(jī)的汽缸體1的曲軸箱表面5的一端，將處理液(電鍍預(yù)處理液或電鍍液) 引導(dǎo)到汽缸內(nèi)壁表面3，并且使用定位為與汽缸內(nèi)壁表面3相對的電極12(圖3)在較短時 間內(nèi)執(zhí)行汽缸內(nèi)壁表面3的處理(電鍍預(yù)處理或電鍍處理)。 根據(jù)本實施例，汽缸體1為包括多個(例如，六個)汽缸2的V型多缸(6缸)汽 缸體，如圖6所示。多個汽缸2以預(yù)定角度布置在汽缸體1中，處理設(shè)備10同時對汽缸2 的汽缸內(nèi)壁表面3執(zhí)行電鍍預(yù)處理或電鍍處理。 如圖2所示，處理設(shè)備10的設(shè)備主單元11被置于基座(pedestal) 18上，并且固 定到基座18，并且具有工件安裝臺19，汽缸體1安裝在工件安裝臺19上。本汽缸體1以頭 表面4朝下的狀態(tài)安裝在工件安裝臺19上。 在設(shè)備主單元11中，能夠通過夾具氣缸16被升高或下降的工件保持夾具14安裝 在工件安裝臺19上方。工件保持夾具14具有導(dǎo)板95和未顯示的夾鉗。當(dāng)工件保持夾具 14位于放下位置時，導(dǎo)板95抵靠安裝在工件安裝臺19上的汽缸體1的曲軸箱表面5。在 這個位置，工件保持夾具14的夾鉗夾緊汽缸體1靠近曲軸箱表面5的部分，從而汽缸體1 被保持在工件安裝臺19和工件保持夾具14之間，且導(dǎo)板95插入工件保持夾具14和汽缸 體1之間。 電極12通過電極支撐部20支撐，電極支撐部20附接到安裝在設(shè)備主單元11中 的電極氣缸17。當(dāng)電極氣缸17向前移動時，電極12從汽缸內(nèi)壁表面3靠近頭表面4的一 端插入氣缸體l的氣缸2中，當(dāng)電極氣缸17向后移動時，電極12從汽缸2收回。在圖2中， 左側(cè)的電極12采用插入位置，右側(cè)的電極12采用收回位置。當(dāng)電極12被插入氣缸體1的 氣缸2中時，安裝在流槽塊66上的例如硅橡膠片的密封圈21(圖3)，接觸汽缸體1的頭表 面4，以密封汽缸內(nèi)壁表面3靠近頭表面4的一端，該端為汽缸內(nèi)壁表面3的另一端。
流槽塊66與電極支撐部20呈一體，并且根據(jù)電極氣缸17的操作與電極支撐部20 和電極12 —起移動，并且和電極支撐部20的外表面一起形成用于處理液的流槽67。
用于處理液的流槽也形成在電極12中(該流槽稱為電極內(nèi)流槽12A)。
參照圖2，密封夾具13布置在電極12的上端，空氣接頭15布置在工件保持夾具 14上。在電極12被插入氣缸體1的氣缸2中后，空氣接頭汽缸29向前移動以使空氣接頭 15抵靠密封夾具13，如圖3所示，然后起到工作流體作用的空氣被通過稍后詳細(xì)描述的空 氣接頭15的主空氣聯(lián)接器22供給到密封夾具13的密封構(gòu)件33。結(jié)果，密封構(gòu)件33只在 徑向擴(kuò)張，以接觸汽缸體1的汽缸內(nèi)壁表面3，借此密封汽缸內(nèi)壁表面3靠近曲軸箱表面5 的一端，該端為汽缸內(nèi)壁表面3的一端。 處理液體管23A連接到圖2和3所示的流槽塊66。在處理設(shè)備10起到電鍍預(yù)處 理設(shè)備(電解蝕刻設(shè)備72或陽極氧化設(shè)備73)作用的情況下，處理液體管23A設(shè)置有液體 饋送泵24。在汽缸體1的汽缸內(nèi)壁表面3靠近曲軸箱表面5的一端利用密封夾具13密封 狀態(tài)下，液體饋送泵24將存儲在化學(xué)藥劑罐25中的處理液(電鍍預(yù)處理液)通過處理液 體管23A和由電極支撐部20和流槽塊66限定的流槽67饋送到由電極12和汽缸內(nèi)壁表面 3限定的間隙流槽27，并且使得處理液通過間隙流槽27向上流動。已經(jīng)流過間隙流槽27 的處理液然后流過形成在密封夾具13和電極12之間的縫隙26，以到達(dá)電極內(nèi)流槽12A，通 過電極內(nèi)流槽12A向下流動，然后通過稍后描述的處理液體管23B返回化學(xué)藥劑罐25。
處理液體管23B連接到電極支撐部20。在處理設(shè)備10起電鍍設(shè)備作用的情況下， 處理液體管23B設(shè)置有液體饋送泵24(由雙點劃流水線表示)。在汽缸體1的汽缸內(nèi)壁表 面3靠近曲軸箱表面5的一端由密封構(gòu)件33密封的狀態(tài)下，液體饋送泵24將存儲在化學(xué) 藥劑罐25中的處理液(電鍍液)通過處理液體管23B和電極支撐部20饋送到電極12的 電極內(nèi)流槽12A。饋送到電極內(nèi)流槽12A的處理液通過電極內(nèi)流槽12A向上流，通過形成在 密封夾具13的密封底板34(稍后描述)和電極12之間的縫隙26，向下通過由電極12的外 表面和汽缸體1的汽缸內(nèi)壁表面3限定的間隙流槽27，并且通過由電極支撐部20和流槽塊 66限定的流槽67，然后通過處理液體管23A返回化學(xué)藥劑罐25。 如圖2和3所示，引導(dǎo)(引導(dǎo)線)28連接電極支撐部20和電源裝置30。布置在 工件保持夾具14上并且抵靠汽缸體1的導(dǎo)電板95通過引導(dǎo)(引導(dǎo)線)96連接到電源裝置 30。當(dāng)間隙流槽27充滿處理液時，電源裝置30通過流水線28和電極支撐部20將電力供 給到電極12，并且通過引導(dǎo)96和導(dǎo)電板95供給到汽缸體l，并且處理液流動。
在汽缸體1的汽缸內(nèi)壁表面3的電鍍預(yù)處理中，電極12起陰極作用，汽缸體1起 陽極作用。在汽缸體1的汽缸內(nèi)壁表面3的電鍍處理中，電極12起陽極作用，汽缸體1起 陰極作用，借此在汽缸內(nèi)壁表面3上形成電鍍膜。例如，單個類型的處理設(shè)備通過使用不同 的處理液和通電條件就能夠執(zhí)行電鍍預(yù)處理和電鍍處理。 圖2中的引用標(biāo)記31表示用于通過排出清潔液清潔汽缸體1的頭表面4的清潔 閘門。清潔閘門在汽缸體1的汽缸內(nèi)壁表面3的電鍍預(yù)處理或電鍍處理已經(jīng)完成并且電極 12已經(jīng)從汽缸體1收回之后向前移動。 接下來，將參照圖3和4描述密封夾具13、空氣接頭15和其他組件的構(gòu)造。
當(dāng)處理液被引導(dǎo)到包括汽缸體1的汽缸內(nèi)壁表面3的間隙流槽27時，密封夾具13 接觸汽缸內(nèi)壁表面3以密封汽缸內(nèi)壁表面3。密封夾具13包括密封構(gòu)件33、密封底板34 和密封基部35。 如圖4所示，密封構(gòu)件33由可拉伸的材料，比如橡膠或其他的彈性材料制成，并且 具有救生圈的形狀。密封構(gòu)件33具有形成在其內(nèi)表面的腔49和形成在該腔49的開口附 近其相反的表面的接合突起36。密封構(gòu)件33的外表面33A接觸汽缸體1的汽缸內(nèi)壁表面 3。 如圖4所示，密封底板34包括盤狀部分32和在盤狀部分32的中間與盤狀部分32 整體地形成的高起的部分37。具有圓周槽38的環(huán)構(gòu)件39繞著高起的部分37布置。在高 起的部分37中，形成彼此連通的主空氣流動通道40C和40D。多個(例如，三個)主空氣流 動通道40D以等間隔形成在密封底板34的徑向上。主空氣流動通道40D與環(huán)構(gòu)件39的圓 周槽38相連通并且和在不同的圓周位置形成在環(huán)構(gòu)件39中并且與圓周槽38相連通的多 個，例如三個，主空氣流動通道40E相連通。 在密封底板34的盤狀部分32中，沿著高起的部分37的邊緣形成環(huán)狀接合槽41 。 密封構(gòu)件33的接合突起36與接合槽41接合。盤狀部分32和高起的部分37具有用于緊 固的內(nèi)螺紋部分42和用于插入螺栓43的螺栓孔44。隨著環(huán)構(gòu)件39被適配在密封構(gòu)件33 的腔49中，密封構(gòu)件33的接合突起36與接合槽41接合，上述構(gòu)造的密封底板34的盤狀 部分32從密封構(gòu)件33的一側(cè)(圖4中下表面33c的一側(cè))支撐密封構(gòu)件33。
如圖4所示，密封基部35包括盤狀部分45和在盤狀部分45中間與盤狀部分45整體形成的高起的部分46。沉孔47和主空氣流動通道40B形成在高起的部分46中。密封 片48安裝在沉孔47上，與主空氣流動通道40B相連通的主空氣流動通道40A形成在密封 片48中。主空氣流動通道40B與密封底板34中的主空氣流動通道40C相連通。
盤狀部分45在與沉孔47相反的一側(cè)具有凹陷50，密封底板34的高起的部分37 能夠適配進(jìn)該凹陷50。盤狀部分45進(jìn)一步具有沿著凹陷50的外周形成的環(huán)狀的接合槽 51。密封構(gòu)件33的接合突起36與接合槽51接合。盤狀部分45和高起的部分46具有用 于螺栓43螺紋插入的螺栓孔52。 在密封底板34的高起的部分37適配進(jìn)密封基部35的凹陷50的情況下，密封底板 34的環(huán)構(gòu)件39適配進(jìn)密封構(gòu)件33的腔49，密封構(gòu)件33的接合突起36與密封底板34的 接合槽41和密封基部35的接合槽51接合，螺栓43被擰入密封底板34的螺栓孔44和密 封基部35的螺栓孔52，從而將密封構(gòu)件33、密封底板34和密封基部35彼此結(jié)合成一體， 從而形成密封夾具13。 在這種狀態(tài)下，密封底板34和密封基部35定位為彼此面對，密封底板34的盤狀 部分32從其一側(cè)(圖4中下表面33c的一側(cè))支撐密封構(gòu)件33，密封基部35的盤狀部分 45從其另一側(cè)(圖4中上表面33B的一側(cè))支撐密封構(gòu)件33。當(dāng)密封構(gòu)件33、密封底板34 和密封基部35彼此結(jié)合成一體時，彼此相連通的主空氣流動通道40A、40B、40C、40D和40E 與密封構(gòu)件33的內(nèi)部相連通。 如圖3所示，密封夾具13利用起到插入其間的絕緣構(gòu)件的作用的密封夾具附接板 53附接于電極12的上端。密封夾具附接板53具有四個凹口，且由此為基本上呈十字形。 密封夾具附接板53進(jìn)一步具有在其中間用于緊固的外螺紋部分54，基本上十字形的密封 夾具附接板53具有利用螺栓55固定到電極12的臂。通過將密封夾具附接板53的外螺紋 部分54擰進(jìn)密封夾具13的密封底板34的內(nèi)螺紋部分42，包括密封構(gòu)件33、密封底板34 和密封基部35的密封夾具13附接于密封夾具附接板53。 密封夾具附接板53由樹脂或其他的絕緣的材料制成，并且使由導(dǎo)電的金屬制成 的密封底板34和密封基部35與電極12絕緣。另外，如同圖3中箭頭所示，例如，已經(jīng)經(jīng)過 縫隙26的處理液通過基本上十字形的密封夾具附接板53的凹口流入電極內(nèi)流槽12A。為 了改善絕緣性，絕緣環(huán)圈68沿著密封夾具附接板53的外周附接于密封夾具附接板53的下 表面。 圖2和3中所示的空氣接頭15具有如上所述的主空氣聯(lián)接器22，并具有形成在其 中的主空氣供給通道56。主空氣聯(lián)接器22經(jīng)過主空氣供給管57連接到供氣閥和壓縮機(jī)， 兩個都未顯示。在電極12被插入氣缸體1的氣缸2中之后，當(dāng)空氣接頭29向前移動時，空 氣接頭15朝向附接到電極12的密封夾具13移動，抵靠密封夾具13的密封片48，從而與密 封夾具13聯(lián)接。在聯(lián)接狀態(tài)下，空氣接頭15的主空氣供給通道56與密封夾具13的密封 片48的主空氣流動通道40A相連通。密封片48防止從主空氣供給通道56向主空氣流動 通道40A供給的空氣的泄漏。 如圖4所示，從主空氣供給通道56供給到主空氣流動通道40A的空氣通過主空氣 流動通道40B、40C40D和40E引導(dǎo)進(jìn)密封構(gòu)件33。密封構(gòu)件33通過密封基部35在上表面 33b—側(cè)且通過密封底板34在下表面33C—側(cè)支撐，從而防止向上和向下擴(kuò)張。由此，如 圖4A所示，密封構(gòu)件33只在徑向擴(kuò)張，密封構(gòu)件33的外表面33A接觸汽缸體1的汽缸內(nèi)壁表面3，從而密封汽缸內(nèi)壁表面3靠近曲柄箱表面5的一端。結(jié)果，防止電鍍預(yù)處理液或 電鍍液從由汽缸內(nèi)壁表面3和電極12的外表面限定的間隙流槽27(圖3)泄漏到曲軸箱表 面5—側(cè)的空間中。 當(dāng)通過主空氣聯(lián)接器22供給到密封構(gòu)件33中的空氣供給被停止時，如圖4B所 示，密封構(gòu)件33在徑向收縮，外表面33A從汽缸內(nèi)壁表面3分離。其后，當(dāng)空氣接頭汽缸29 向后移動時，空氣接頭15從密封夾具13分離。 如圖3所示，檢驗密封構(gòu)件33的擴(kuò)展和收縮的檢驗裝置設(shè)置在密封夾具13和空 氣接頭15上。檢驗裝置包括設(shè)置空氣接頭15 —側(cè)的副空氣聯(lián)接器58和副空氣供給通道 59，設(shè)置在密封夾具13 —側(cè)的副空氣流動通道60，氣壓傳感器61和控制器62。
例如三個的多個副空氣聯(lián)接器58附接于空氣接頭15。與副空氣聯(lián)接器58相聯(lián)且 相連通的例如三個的多個副空氣供給通道59形成在空氣接頭15中。 如圖4所示，副空氣流動通道60形成在密封夾具13的密封基部35中。密封基部 35具有多個(例如三個)同心環(huán)凹槽63，更具體地說，與副空氣供給通道59相同數(shù)量的同 心環(huán)凹槽63形成在高起的部分46的上表面中，每個環(huán)槽63與相應(yīng)的一個副空氣供給通道 59相連通(圖3)。 此外，密封基部35具有多個(例如，三個)副空氣流動通道60，或更具體地說，與 環(huán)槽63相同數(shù)量的副空氣流動通道60以相等的間隔放射狀地形成。每個副空氣流動通道 60與相應(yīng)的一個環(huán)槽63相連通。每個副空氣流動通道60具有在密封基部35的外周的空 氣出口 64。 如圖4所示，空氣出口 64形成在當(dāng)密封構(gòu)件33擴(kuò)張時空氣出口 64由密封構(gòu)件33 關(guān)閉，并且在密封構(gòu)件33收縮時打開的位置。 起到在圖2所示的空氣接頭15上通過副空氣聯(lián)接器58引導(dǎo)的工作流體的作用的 空氣流過副空氣供給通道59且流過密封夾具13的環(huán)槽63和副空氣流動通道60 (圖4)，并 通過空氣出口 64排出。當(dāng)密封構(gòu)件33收縮時，空氣通過空氣出口 64排出，且空氣出口 64 打開而不是被密封構(gòu)件33關(guān)閉，如圖4B所示。當(dāng)空氣被排出時，副空氣流動通道60、副空 氣供給通道59和副空氣聯(lián)接器58中的氣壓降低。 相反，當(dāng)密封構(gòu)件33擴(kuò)張時，如圖4A所示，空氣出口 64由密封構(gòu)件33關(guān)閉且空 氣不通過空氣出口 64排出。由此，副空氣流動通道60、副空氣供給通道59和副空氣聯(lián)接器 58中的氣壓增加。 例如，如圖3所示，用于將空氣引導(dǎo)到多個副空氣聯(lián)接器58的多個，例如三個，副 空氣供給管65的每一個設(shè)置有氣壓傳感器61，氣壓傳感器61分別檢測副空氣流動通道60 中的氣壓，如上所述。根據(jù)檢測的氣壓值，可以檢驗密封夾具13的密封構(gòu)件33是擴(kuò)張還是 收縮。也就是，能夠檢驗是密封構(gòu)件33擴(kuò)張與汽缸體1的汽缸內(nèi)壁表面3接觸且液密地密 封汽缸內(nèi)壁表面3、還是密封構(gòu)件33收縮與汽缸體1的汽缸內(nèi)壁表面3分離且不密封汽缸 內(nèi)壁表面3。 通過擴(kuò)張密封構(gòu)件33的汽缸體1的汽缸內(nèi)壁表面3的密封被沿著密封構(gòu)件33的 整個圓周被檢查，由于多個副空氣流動通道60沿著密封基部35的外周部(也就是，沿著密 封構(gòu)件33的外周部)以規(guī)則的間距形成且定位，例如三個副空氣流動通道60沿著密封構(gòu) 件33的外周部以120度形成。因此，當(dāng)密封構(gòu)件33的外周部局部地磨損、裂縫或被損壞。從而，盡管密封構(gòu)件33剩下的部分正常地擴(kuò)張，不夠擴(kuò)張而未能接觸汽缸體1的汽缸內(nèi)壁 表面3，汽缸內(nèi)壁表面3的密封能夠通過檢驗密封構(gòu)件33的外周部的擴(kuò)張被檢查。
圖3中所示的控制器62從氣壓傳感器61接收檢測值并控制液體饋送泵24的驅(qū) 動和電源裝置30的驅(qū)動。具體地說，如果來自氣壓傳感器61的檢測值比預(yù)定值更高，控制 器62確定密封夾具13的密封構(gòu)件33擴(kuò)張并接觸汽缸體1的汽缸內(nèi)壁表面3，并且汽缸內(nèi) 壁表面3靠近曲柄箱表面5的一端被充分地密封。然后，控制器62啟動液體饋送泵24以 將處理液供給到由汽缸內(nèi)壁表面3和電極12的外表面限定的間隙流槽27，然后驅(qū)動電源裝 置30從而向電極12和汽缸體1供電，以執(zhí)行汽缸內(nèi)壁表面3的電鍍預(yù)處理(電解刻蝕處 理、陽極氧化處理)或電鍍處理。 如果來自氣壓傳感器61的檢測值等于或小于預(yù)定值，控制器62確定密封夾具13 的密封構(gòu)件33不充分地擴(kuò)張或收縮，且未能接觸汽缸內(nèi)壁表面3，因此汽缸內(nèi)壁表面3未充 分密封。在這種情況下，控制器62不驅(qū)動液體饋送泵24和電源裝置30或者停止他們中的 任何一個運作。 如上所述，特別是，當(dāng)處理設(shè)備10起到電鍍預(yù)處理設(shè)備(電解蝕刻設(shè)備72或陽極 氧化設(shè)備73)的作用時，向電極12和汽缸體1供給電力的電源裝置30(在圖1中的電源裝 置92、93)和將處理液饋送到汽缸內(nèi)壁表面3和電極12之間的間隙流槽27的液體饋送泵 24(在圖1中液體饋送泵84、87)中的至少一個(在本實施例中電源裝置30和液體饋送泵 24兩個)設(shè)置用于氣缸體1的多個氣缸2中的每一個。 也就是，如圖5所示，一個電極12被插入汽缸體1的多個(例如六個)汽缸的每 一個中，且一個電源裝置30設(shè)置用于氣缸體1的每個氣缸2，以向汽缸體1和多個(例如 六個)電極12相關(guān)聯(lián)的一個供給電力。多個(例如六個)電源裝置30中的每個通過引導(dǎo) 28連接到多個電極12中關(guān)聯(lián)的一個，所有的電源裝置30通過弓I導(dǎo)96連接到工件保持夾具 14上的單個導(dǎo)電板95(圖2)。每個電源裝置30向關(guān)聯(lián)的電極12和汽缸體1供電，測量供 電電流或電壓(例如，電流)值并將測定值饋送回到控制器62，控制器62調(diào)節(jié)要在電鍍預(yù) 處理期間實時根據(jù)測定值供給預(yù)定值的電流或電壓(例如，電流)。 在默認(rèn)設(shè)置中，控制器62控制電源裝置30以使電源裝置30向汽缸體和氣缸體1 的氣缸2中它們各自關(guān)聯(lián)的電極12供給相等的電流或電壓。然后，如果有汽缸2即使通過 使用稍后描述的液體饋送泵24的循環(huán)數(shù)量控制也不能實現(xiàn)其汽缸內(nèi)壁表面3的電鍍預(yù)處 理與其他汽缸2具有相同的一致性，控制器62控制與汽缸2中電極12關(guān)聯(lián)的電源裝置30， 以使得電源裝置30向汽缸2中的電極12供給不同的電流或電壓。 相同的電流或電壓以默認(rèn)設(shè)置供給到所有氣缸體1的氣缸2中的電極12和汽缸 體1本身，以實現(xiàn)具有不同的電阻的汽缸與其他汽缸2具有相同一致性地進(jìn)行電鍍預(yù)處理 (例如電解刻蝕處理)。 更具體地說，例如，對于V型六缸汽缸體，位于中間位置的汽缸2 (汽缸#3和#4) 被插入位于端部位置的汽缸(汽缸#1、#2、#5和恥)之間，如圖6所示。因此，與在端部位 置的汽缸2相比，熱量被更高效地保持在中間位置的汽缸2上，使得在中間位置的汽缸2的 汽缸內(nèi)壁表面3的溫度傾向于比在端部位置的汽缸的汽缸內(nèi)壁表面3的溫度高，如圖7所 示。結(jié)果，中間位置的汽缸2(汽缸#3和#4)的內(nèi)壁表面3的活性要比其他的汽缸2的內(nèi) 壁表面3的活性高，中間位置的汽缸2(汽缸#3和#4)的汽缸內(nèi)壁表面3的電阻比其他汽缸2的汽缸內(nèi)壁表面3的電阻低，從而，與其他汽缸2相比，電流能夠更容易地流過中間位 置的汽缸(汽缸#3和#4)。圖8也明顯地顯示，在恒定電流從單個電源裝置供給到汽缸體 1的所有汽缸中的電極12的常規(guī)的定流控制中，與其他的汽缸2的相比，中間位置的汽缸 2(汽缸#3和#4)的電壓(例如蝕刻電壓)傾向于更低。如上所述，在單個電源供給電流到 V型6汽缸汽缸體的常規(guī)的定流控制中，電流通過固有的因果關(guān)系在汽缸2中的電極12之 間分配，電流集中地流向電流能夠更容易地流通的中間位置的汽缸2，因此不能在相同條件 下在所有的汽缸2的汽缸內(nèi)壁表面3上執(zhí)行電鍍預(yù)處理。 例如，如果處理條件被用來保證對電解蝕刻較不敏感的端部位置的汽缸2的汽缸 內(nèi)壁表面3被充分地蝕刻，對電解蝕刻更敏感的中間位置的汽缸2的汽缸內(nèi)壁表面3 (汽缸 #3和#4)被過度蝕刻(圖9中虛線顯示)。如果處理條件被用來保證中間位置的汽缸2的 汽缸內(nèi)壁表面3被充分地蝕刻，對蝕刻較不敏感的端部位置的汽缸的汽缸內(nèi)壁表面3被不 充分地蝕刻，從而，電鍍膜的附著力傾向于降低。 為了解決這種缺點或問題，在默認(rèn)設(shè)置中，與汽缸2關(guān)聯(lián)的電源裝置30實時控制 供給到汽缸體1和在各個關(guān)聯(lián)的汽缸2中的電極12的電流或電壓，以使汽缸2間電流或電 壓一致。結(jié)果，例如，電解蝕刻在具有不同的電導(dǎo)率的汽缸體1的汽缸2上一致地執(zhí)行，如 圖9中實線所示。 如上所述，因為一致的電流或電壓供給汽缸體1和在多個汽缸2中的電極12，在汽 缸體1的電鍍預(yù)處理中，流出多個汽缸2中的每個的處理液出口溫度與在汽缸2的汽缸內(nèi) 壁表面3上執(zhí)行的電鍍預(yù)處理的反應(yīng)程度有關(guān)。例如，汽缸2的汽缸內(nèi)壁表面3的電鍍預(yù) 處理的反應(yīng)程度越高，處理液流出汽缸2的出口溫度也越高，汽缸2的汽缸內(nèi)壁表面3的電 鍍預(yù)處理反應(yīng)程度越低，處理液流出汽缸2的出口溫度也越低。 圖1和10所示的液體饋送泵24 (84、87)用于將處理液饋送到間隙流槽27 (圖3)， 該間隙流槽27由電極12和安裝在諸如電解蝕刻設(shè)備72和陽極氧化設(shè)備73的電鍍預(yù)處理 設(shè)備中的氣缸體1的氣缸2的汽缸內(nèi)壁表面3限定。如上所述，對于氣缸體1的每個氣缸 2設(shè)置一個液體饋送泵。 在處理設(shè)備10起到電鍍預(yù)處理設(shè)備作用的情況下，液體饋送泵24設(shè)置在圖2和 3所示的處理液體管23A上，處理液體管23A起到用于從化學(xué)藥劑罐25向氣缸體1的氣缸 2引導(dǎo)處理液的流入路徑的作用。與汽缸2的數(shù)量(例如六個)相同數(shù)量(例如六個)的 處理液體管23A設(shè)置用于分別將處理液引導(dǎo)到氣缸體1的氣缸2。 如圖10所示， 一個液體饋送泵24設(shè)置在每個處理液體管23A上。圖2、3和10所 示的處理液體管23B起到用于從氣缸體1的多個(例如六個)氣缸2排出處理液的流出路 徑作用。設(shè)置與汽缸2相同數(shù)量(例如六個)的處理管23B。 接下來，將進(jìn)一步參照圖10說明用于從化學(xué)藥劑罐25向電鍍預(yù)處理設(shè)備循環(huán)處 理液的處理液路徑。 盡管處理液貯藏裝置(圖1中處理液貯藏裝置85、88)包括兩個化學(xué)藥劑罐25(圖 1中化學(xué)藥劑罐83、86)，圖10只顯示一個代表性的化學(xué)藥劑罐。 供水閥100設(shè)置在化學(xué)藥劑罐25的供水口，排出泵101和排出閥102設(shè)置在排出 口。當(dāng)化學(xué)藥劑罐25中的液體液面降低時，供水閥100被打開以向化學(xué)藥劑罐25供水。當(dāng) 處理液將被從化學(xué)藥劑罐25排出時，排出閥102打開，排出泵101被驅(qū)動。
每個起到流入路徑的作用的處理液體管23A包括以這樣的順序在從上游側(cè)到下 游側(cè)的方向上排布的液體饋送泵24、流量計103、洗滌開關(guān)閥104、三通閥105和連接開關(guān) 閥106。每個處理液體管23A進(jìn)一步包括緊接著電鍍預(yù)處理設(shè)備前定位的入口溫度計107。 在默認(rèn)設(shè)置的時候，處理液的流速通過流量計103測量，以調(diào)節(jié)液體饋送泵24的循環(huán)數(shù)量。 另外，化學(xué)藥劑罐25中的處理液的溫度根據(jù)入口溫度計107測量的溫度調(diào)節(jié)。
起到流出路徑的作用的每個處理液體管23B與出口溫度計108、連接開關(guān)閥106和 三通閥109和110結(jié)合，出口溫度計108、連接開關(guān)閥106和三通閥109和110以這樣的順 序在從上游側(cè)到下游側(cè)的方向上排列。流出路徑進(jìn)一步設(shè)置有在三通閥IIO和化學(xué)藥劑罐 25之間的排放開關(guān)閥lll，和在三通閥110與未顯示的排液罐之間的洗滌水排液閥112。
當(dāng)排放開關(guān)閥111打開，且洗滌水排液閥112關(guān)閉時，處理液體管23B中的處理液 返回化學(xué)藥劑罐25。出口溫度計108在緊接著處理液排出汽缸體1的汽缸2之后測量處理 液的溫度。 在要被處理的汽缸體1的氣缸2的數(shù)量小于6的情況下，設(shè)置在處理液體管23A 和23B上的連接開關(guān)閥106關(guān)閉，以防止處理液饋送或流回到任何不用的處理液體管處理 液體管23A和23B 為了將洗滌水替代處理液供給到氣缸體1的每個氣缸2，設(shè)置有洗滌水供給閥113 的洗滌水供給管114連接到三通閥105。為了從氣缸體1的每個氣缸2排放洗滌水，設(shè)置有 洗滌水排出閥115的洗滌水排放管116連接到三通閥109。通過關(guān)閉洗滌開關(guān)閥104和打 開洗滌水供給閥113和洗滌水排出閥115，洗滌水從未顯示的洗滌水罐被供給到安裝在電 鍍預(yù)處理設(shè)備中的氣缸體1的氣缸2以洗滌汽缸2的汽缸內(nèi)壁表面3然后返回洗滌水罐。
如果洗滌水要被排放掉而不是返回洗滌水罐，通過打開洗滌水排液閥112和關(guān)閉 排放開關(guān)閥lll，洗滌水通過設(shè)置用于處理液體管23B的洗滌水排液閥112排出。
以一一對應(yīng)關(guān)系設(shè)置在處理液體管23A上的液體饋送泵24通過控制器62控制。 流出安裝在電鍍預(yù)處理設(shè)備中的氣缸體1的多個氣缸2的處理液的出口溫度通過出口溫度 計108測量。 在電鍍預(yù)處理期間，根據(jù)來自出口溫度計108的測定值，控制器62調(diào)節(jié)與氣缸體1 的每個氣缸2關(guān)聯(lián)的液體饋送泵24的循環(huán)數(shù)量，以便通過液體饋送泵24實時控制饋送到 關(guān)聯(lián)的汽缸2的處理液的流速。 也就是說，諸如電解刻蝕處理的電鍍預(yù)處理為放熱反應(yīng)，因此汽缸2中的處理液 的溫度增加。對于V型六缸汽缸體(圖6)，位于中間位置的汽缸2(汽缸#3和#4)被插入 位于端部位置的汽缸之間(汽缸#1、#2、#5和恥)。因此，與在端部位置的汽缸2相比，熱 量被更高效地保持在中間位置的汽缸2上，從而在中間位置的汽缸2的汽缸內(nèi)壁表面3的 溫度傾向于比端部位置的汽缸的汽缸內(nèi)壁表面3的溫度。但是，顯著的溫度升高會導(dǎo)致過 度的電鍍預(yù)處理(例如電解蝕刻)，因此，必須控制汽缸2中的反應(yīng)溫度。
此外，在現(xiàn)有技術(shù)中單個液體饋送泵被用來在氣缸體1的多個氣缸2之間分配處 理液的情況下，難以通過恰好相同構(gòu)造的管子將處理液饋送到汽缸2，由此處理液的流動速 度在汽缸2之間變化。因此，即使如果處理液的入口溫度被控制成在所有的汽缸相等，處理 液的溫度會在流動速度低的汽缸2中升高，這樣的汽缸2的汽缸內(nèi)壁表面3電鍍預(yù)處理的 量(例如電解蝕刻的量)會比其他的汽缸2大。
為了解決這個缺點或問題，根據(jù)本實施例，對于氣缸體l的每個氣缸2設(shè)置一個液 體饋送泵24，控制器62控制每個汽缸2中的處理液的流動速度(即，流速)。由此，控制器 62能分別地控制每個汽缸2中的處理液的溫度。出口溫度計108測量流出每個汽缸2的處 理液的出口溫度并且將測定值饋送回到控制器62。如果處理液的出口溫度比控制上限高， 控制器62實時增加泵頻以增加通過液體饋送泵24饋送的液體量，從而降低汽缸2中的處 理液的溫度，以減少電鍍預(yù)處理量(例如電解蝕刻量)。如果處理液的出口溫度比控制下限 低時，控制器62降低泵頻以減少處理液的流動速度，以減少處理液的流速，從而增加汽缸2 中的處理液的溫度，以便防止汽缸內(nèi)壁表面3的電鍍預(yù)處理量(例如電解蝕刻量)的減少。 術(shù)語"泵頻"是指從泵驅(qū)動變流器(未顯示)供給到液體饋送泵24的交流電頻率。
更具體地說，出口溫度計108每10秒監(jiān)控流出汽缸2的處理液的出口溫度，并且 如果處理液的出口溫度的測定值比控制上限高，控制器62增加泵頻，例如從20Hz增加到 21Hz，如圖ll所示。在IO秒之后，出口溫度計108監(jiān)控處理液的出口溫度。如果處理液的 出口溫度的測定值還比控制上限高，控制器62將增加泵頻，例如從21Hz增加到22Hz。然 后，出口溫度計108再次監(jiān)控處理液的出口溫度。如果測定值低于控制下限，控制器62將 泵頻例如從22Hz減小到21Hz。 控制器62在電鍍預(yù)處理(例如電解蝕刻)期間連續(xù)地執(zhí)行操作，因此電鍍預(yù)處理 量(例如電解蝕刻量)對于多個汽缸2的汽缸內(nèi)壁表面3能夠一致。流出汽缸2的處理液 的出口溫度由于電鍍預(yù)處理(例如電解蝕刻)的反應(yīng)的熱量的增量在汽缸間變化，因此必 須分別地控制每個汽缸2。 在流出汽缸2的處理液的出口溫度不在控制上限和控制下限之間的范圍內(nèi)的情 況下，例如，如果處理液的出口溫度等于比控制上限高的預(yù)定溫度或者比控制下限低的預(yù) 定溫度，或在處理液的出口溫度即使在泵頻增加(向上)或減少(向下)預(yù)定的次數(shù)(例 如三次)之后也不在控制上限和控制下限之間的范圍內(nèi)的情況下，控制器62停止讓供給汽 缸體1和在汽缸2中的電極12電流或電壓在汽缸2之間一致，并且以控制與有關(guān)的汽缸2 關(guān)聯(lián)的電源裝置30替代，以增加或減少供給該汽缸2的電流或電壓，從而使得汽缸2之間 的電鍍預(yù)處理(例如電解蝕刻)一致。 上述控制方法已經(jīng)對于例如電解刻蝕處理而言進(jìn)行了描述。但是，相同控制方法 可以在陽極氧化處理中實施。但是，在那種情況下，流出汽缸2的處理液的出口溫度的控制 上限和控制下限、泵頻等等(處理液的流速)必須適合于陽極氧化處理的情況。
接下來，將描述電鍍預(yù)處理(電解刻蝕處理、陽極氧化處理)的過程。
如圖3所示，在安裝在電鍍預(yù)處理設(shè)備的氣缸體1的每個氣缸2的汽缸內(nèi)壁表面 3靠近頭表面4的一端被用密封圈21密封，并且其靠近曲柄箱表面5的一端被用密封夾具 13密封之后，控制器62打開任何有關(guān)的連接開關(guān)閥106并且驅(qū)動各個關(guān)聯(lián)的液體饋送泵 24。 控制器62調(diào)節(jié)液體饋送泵24的循環(huán)數(shù)量，以使處理液流過處理液體管23A的流 速達(dá)到默認(rèn)設(shè)置中設(shè)置的值。此外，入口溫度計107測量流入氣缸體1的每個氣缸2的處 理液的入口溫度，并且控制器62調(diào)節(jié)化學(xué)藥劑罐25中的處理液的溫度，以使測定值等于預(yù) 定值。 在液體饋送泵24從化學(xué)藥劑罐25引導(dǎo)處理液到氣缸體1的汽缸2中，并且每個汽缸2的汽缸內(nèi)壁表面3和電極12(圖3)之間的間隙流槽27充滿處理液之后，控制器62使得電源裝置30向汽缸體1和在它們的各個關(guān)聯(lián)的汽缸2中的電極12供給電力，以使得每個汽缸2中的電極12起陰極作用，且汽缸體1起陽極作用。供給的電流或電壓通過每個電源裝置30實時控制，分別執(zhí)行每個汽缸2的汽缸內(nèi)壁表面3的電鍍預(yù)處理。
出口溫度計108測量流出每個汽缸2的處理液的出口溫度。如果通過出口溫度計108獲得的任何測定值在控制上限和控制下限之間的范圍之外，控制器62增加或降低與有關(guān)的汽缸2關(guān)聯(lián)的液體饋送泵24的循環(huán)數(shù)量，以調(diào)整處理液的流速，從而使得汽缸2之間的處理液溫度一致，由此，使得汽缸2間電鍍預(yù)處理一致。 例如，如果通過出口溫度計108測量的流出汽缸2的處理液的出口溫度比控制上限高，控制器62增加與汽缸2相關(guān)聯(lián)的液體饋送泵24的循環(huán)數(shù)量，以增加處理液的流速，從而降低汽缸2中的處理液的溫度，由此減少電鍍預(yù)處理的反應(yīng)。 在流出汽缸2的處理液的出口溫度即使在如上所述通過增加或降低液體饋送泵24的循環(huán)數(shù) 量調(diào)節(jié)處理液的流速之后仍然不落在控制上限和控制下限的范圍內(nèi)的情況下，控制器62控制與汽缸2相關(guān)聯(lián)的電源裝置30以控制從電源裝置30供給到汽缸體1和汽缸2中的電極12的電流或電壓，從而使得汽缸2間的電鍍預(yù)處理一致。
例如，如果流出汽缸2的處理液的出口溫度等于比控制上限高的預(yù)定值或比控制上限高的預(yù)定值更高，控制器62控制與汽缸2相關(guān)聯(lián)的電源裝置30，以減少從電源裝置30供給到汽缸體1和汽缸2中的電極12的電流或電壓，從而減少汽缸2的汽缸內(nèi)壁表面3的電鍍預(yù)處理的反應(yīng)。 控制器62可以具有能夠為每個汽缸預(yù)先設(shè)置的從與每個汽缸2相關(guān)聯(lián)的電源裝置30供給到汽缸體1和汽缸2中的電極12的電流或電壓值，并且根據(jù)預(yù)先通過預(yù)備試驗等等發(fā)現(xiàn)的每個汽缸2的特征設(shè)置通過液體饋送泵24饋送到每個汽缸2的處理液的流速的值。 例如，對于V型六缸汽缸體l，介于端部位置的其他的汽缸2之間的中間位置的汽缸2 (汽缸#3和#4)的電鍍預(yù)處理(例如電解蝕刻)因為中間位置的汽缸2溫度更容易增加而過度。為了解決這個缺點或問題，處理液向中間位置的汽缸2的流速的值被設(shè)置得比用于其他的汽缸2的值高，或者供給中間位置的汽缸2的電流或電壓值被預(yù)先設(shè)置成比用于其他的汽缸2的值低。 此外，當(dāng)異常發(fā)生且被發(fā)現(xiàn)在從電源裝置30供給到汽缸體1和容納在它的關(guān)聯(lián)汽缸2中的電極12的電流或電壓、或者在通過液體饋送泵24饋送到它的關(guān)聯(lián)汽缸2的處理液的流速時，控制器62可以具有確定哪個汽缸2涉及異常并且停止該汽缸2的電鍍預(yù)處理同時繼續(xù)其他的汽缸2的電鍍預(yù)處理。在這種情況下，汽缸2涉及異常的電鍍預(yù)處理稍后再執(zhí)行。根據(jù)本實施例，提供下述有益的效果或功能(1)到(5)。 (1)電源裝置30被設(shè)置用于安裝在電鍍預(yù)處理設(shè)備中的汽缸體1的每個汽缸2，且從電源裝置30供給到汽缸體1和每個汽缸2中的電極12的電流或電壓能夠被分別地為每個汽缸2調(diào)節(jié)。另外，對于汽缸體l的每個汽缸設(shè)置液體饋送泵24，且通過液體饋送泵24饋送到每個汽缸2的處理液的流速能夠為每個汽缸2分別地調(diào)節(jié)。因此，即使當(dāng)電阻或處理液流動通道的阻抗在汽缸之間變化時，多個汽缸2的汽缸內(nèi)壁表面3的電鍍預(yù)處理能夠一致地執(zhí)行。
(2)電源裝置30根據(jù)電鍍預(yù)處理中供給汽缸體1和容納在多個汽缸2中的電極12的電流或電壓的測量值執(zhí)行將被供給的電流或電壓的反饋控制。因此，能夠分別地為每個汽缸2實時控制供給汽缸2的電流或電壓。結(jié)果，汽缸2的汽缸內(nèi)壁表面3的電鍍預(yù)處理能夠一致地執(zhí)行。 (3)在電鍍預(yù)處理中，控制器62根據(jù)流出汽缸2的處理液的出口溫度的測量值調(diào)節(jié)通過液體饋送泵24饋送到每個汽缸2的處理液的流速。因此，發(fā)生于電鍍預(yù)處理中的汽缸2間的處理液的溫差能夠被實時消除。結(jié)果，汽缸2的汽缸內(nèi)壁表面3的電鍍預(yù)處理能夠一致地執(zhí)行。 (4)在汽缸2間的電阻或處理液流動通道的阻抗差異預(yù)先知道的情況下，控制器62能夠為每個汽缸2預(yù)先設(shè)置從電源裝置30供給的電流或電壓值或者通過液體饋送泵24饋送的處理液的流速值。在這種情況下，通過反饋控制用于穩(wěn)定需要的時間，例如，用于穩(wěn)定供給到每個汽缸2的電壓或電流或流出每個汽缸2的處理液的出口溫度為期望值所需要的時間能夠減少。因此，多個汽缸2間的電鍍預(yù)處理的一致性能夠進(jìn)一步地改善。
(5)當(dāng)發(fā)現(xiàn)從電源裝置30供給到汽缸體1和容納在它相關(guān)聯(lián)的汽缸2的電極12的電流或電壓或通過液體饋送泵24饋送到它相關(guān)聯(lián)的汽缸2的處理液的流速異常時，控制器62確定哪個汽缸2涉及異常并且停止該汽缸2的電鍍預(yù)處理，同時繼續(xù)其他的汽缸2的電鍍預(yù)處理。另外，涉及異常的汽缸2的電鍍預(yù)處理稍后再執(zhí)行。結(jié)果，否則將會是次品的汽缸體1能夠被恢復(fù)，能夠減少廢品率。 進(jìn)一步，請注意盡管已經(jīng)參照較佳實施例描述了本發(fā)明，本發(fā)明不局限于該實施
例，可以在不背離后附的權(quán)利要求的范圍的情況下進(jìn)行許多其他的改變和改進(jìn)。 例如，在如上所述的實施例中，處理液從單個化學(xué)藥劑罐25供給到安裝在電鍍預(yù)
處理設(shè)備中的氣缸體1的多個氣缸2。然而，起處理液罐作用的化學(xué)藥劑罐25可以為多個
汽缸2中的每個而設(shè)置，處理液可以從每個化學(xué)藥劑罐25供給到它相關(guān)聯(lián)的汽缸2。在這
種情況下，可以為氣缸體l的每個氣缸2設(shè)定濃度和溫度。因此，即使當(dāng)汽缸2具有不同特
征的時候，可以進(jìn)一步地改善汽缸2的汽缸內(nèi)壁表面3的電鍍預(yù)處理的一致性。 此外，在如上所述的實施例中，對于安裝在電鍍預(yù)處理設(shè)備中的氣缸體1的多個
氣缸2的每一個設(shè)置電源裝置30和液體饋送泵24。然而，可以對于每個汽缸2設(shè)置電源裝
置30或液體饋送泵24之一。 此外，在如上所述的實施例中，盡管汽缸體1為V型六缸汽缸體，汽缸體1可以是別的V型多缸汽缸體或串聯(lián)多缸汽缸體。 此外，在如上所述的實施例中，盡管已經(jīng)描述電鍍預(yù)處理，本發(fā)明可以應(yīng)用于電鍍設(shè)備。
權(quán)利要求
一種用于具有多個汽缸的多缸汽缸體的電鍍預(yù)處理設(shè)備，其特征在于，該電鍍預(yù)處理設(shè)備使用被布置成與汽缸內(nèi)壁表面相對的電極，通過密封所述汽缸內(nèi)壁表面的一端且將處理液引導(dǎo)到所述汽缸內(nèi)壁表面，來對每個汽缸的所述汽缸內(nèi)壁表面執(zhí)行電鍍預(yù)處理，其中，電源裝置和液體饋送泵中的至少一個被設(shè)置用于每個汽缸，所述電源裝置用于向所述汽缸體和所述電極供給電力，所述液體饋送泵用于將處理液饋送進(jìn)所述汽缸內(nèi)壁表面和所述電極之間的間隙。
2. 如權(quán)利要求1所述的用于多缸汽缸體的電鍍預(yù)處理設(shè)備，其特征在于，在所述電鍍預(yù)處理中，所述電源裝置測量供給到所述汽缸體和容納在每個所述汽缸中的所述電極的電流或電壓，并根據(jù)所得測量值控制要供給的電流或電壓。
3. 如權(quán)利要求1所述的用于多缸汽缸體的電鍍預(yù)處理設(shè)備，其特征在于，在電鍍預(yù)處理中，布置有控制器，該控制器根據(jù)流出每個所述汽缸的處理液的出口溫度的測量值來控制被所述液體饋送泵饋送的處理液的流速。
4. 如權(quán)利要求3所述的用于多缸汽缸體的電鍍預(yù)處理設(shè)備，其特征在于，所述控制器被構(gòu)造用來為每個汽缸預(yù)先設(shè)置從所述電源裝置供給的電流或電壓值和被所述液體饋送泵饋送的處理液的流速值。
5. 如權(quán)利要求3所述的用于多缸汽缸體的電鍍預(yù)處理設(shè)備，其特征在于，所述控制器被構(gòu)造成能夠識別內(nèi)部含有發(fā)生在所述電源裝置供給的電流或電壓中、或者發(fā)生在被所述液體饋送泵饋送的處理液的流速中的異常的汽缸，并停止含有該異常的汽缸的電鍍預(yù)處理，同時繼續(xù)其他汽缸的電鍍預(yù)處理。
6. 如權(quán)利要求1所述的用于多缸汽缸體的電鍍預(yù)處理設(shè)備，其特征在于，用于存儲處理液的處理液罐被設(shè)置用于每個汽缸。
7. —種用于具有多個汽缸的多缸汽缸體的電鍍預(yù)處理方法，其特征在于，使用被布置成與汽缸內(nèi)壁表面相對的電極，通過密封所述汽缸內(nèi)壁表面的一端且將處理液引導(dǎo)到所述汽缸內(nèi)壁表面，來對每個汽缸的所述汽缸內(nèi)壁表面執(zhí)行電鍍預(yù)處理，其中，被供給到所述汽缸體和所述電極的電流或電壓、以及被饋送到所述汽缸內(nèi)壁表面和所述電極之間間隙內(nèi)的處理液的流速中的至少一個被針對每一個汽缸而調(diào)節(jié)。
8. 如權(quán)利要求7所述的用于多缸汽缸體的電鍍預(yù)處理方法，其特征在于，在所述電鍍預(yù)處理中，被供給到所述汽缸體和容納在每個汽缸中的所述電極的電流或電壓被測量，并根據(jù)所得測量值控制要被供給的電流或電壓。
9. 如權(quán)利要求7所述的用于多缸汽缸體的電鍍預(yù)處理方法，其特征在于，在所述電鍍預(yù)處理中，流出每個汽缸的處理液的出口溫度被測量，被液體饋送泵饋送的處理液的流速被根據(jù)所得測量值進(jìn)行控制。
10. 如權(quán)利要求7所述的用于多缸汽缸體的電鍍預(yù)處理方法，其特征在于，從電源裝置供給的電流或電壓值和被液體饋送泵饋送的處理液的流速值被針對每個汽缸預(yù)先設(shè)定。
11. 如權(quán)利要求7所述的用于多缸汽缸體的電鍍預(yù)處理方法，其特征在于，當(dāng)從電源裝置饋送的電流或電壓、或者由液體饋送泵饋送的處理液的流速中發(fā)生異常時，與所述異常有關(guān)的汽缸的電鍍預(yù)處理被停止，其他汽缸的電鍍預(yù)處理則繼續(xù)且被完成，其后，與異常有關(guān)的汽缸的電鍍預(yù)處理被再次執(zhí)行。
12. —種用于多缸汽缸體的電鍍預(yù)處理設(shè)備，其特征在于，包括設(shè)備本體，該設(shè)備主體包括工件裝配臺，汽缸體安裝在所述工件裝配臺上；電極，該電極通過為所述設(shè)備本體設(shè)置的電極支撐器所支撐；處理液供給構(gòu)件，該處理液供給構(gòu)件用于將處理液供給到形成在汽缸內(nèi)壁表面和所述電極的外壁表面之間的間隙以及所述圓柱形電極的內(nèi)部中，所述處理液供給構(gòu)件包括液體饋送泵；電源構(gòu)件，該電源構(gòu)件用于向所述電極和所述汽缸體傳導(dǎo)電力；禾口密封構(gòu)件，該密封構(gòu)件用于密封所述汽缸內(nèi)壁表面的一端側(cè)，其中，所述電源構(gòu)件和用于將處理液饋送到所述汽缸內(nèi)壁表面和所述電極之間間隙中的液體饋送泵兩者中的至少一個被設(shè)置用于每個汽缸。
13.如權(quán)利要求12所述的用于多缸汽缸體的電鍍預(yù)處理設(shè)備，其特征在于，進(jìn)一步包括控制器，在所述電鍍預(yù)處理中，該控制器根據(jù)流出每個所述汽缸的處理液的出口溫度的測量值控制被所述液體饋送泵饋送到每個汽缸的處理液的流速。
全文摘要
一種用于包括多個汽缸的多缸汽缸體的電鍍預(yù)處理設(shè)備，該電鍍預(yù)處理設(shè)備使用被布置成與汽缸內(nèi)壁表面相對布置的電極，通過密封汽缸內(nèi)壁表面的一端且將處理液引導(dǎo)到汽缸內(nèi)壁表面，來對每個汽缸的汽缸內(nèi)壁表面執(zhí)行電鍍預(yù)處理。在這種電鍍預(yù)處理設(shè)備中，電源裝置和液體饋送泵中的至少一個被設(shè)置用于每個汽缸，電源裝置向汽缸體和電極供給電力，液體饋送泵將處理液饋送進(jìn)汽缸內(nèi)壁表面和電極之間的間隙。
文檔編號C25D5/34GK101724876SQ20091020902
公開日2010年6月9日 申請日期2009年10月23日 優(yōu)先權(quán)日2008年10月24日
發(fā)明者今井實, 國岡誠也, 小川正弘, 村松仁, 石橋亮, 鈴木伸行, 鈴木學(xué), 須田尚幸, 麻生智廣 申請人:鈴木株式會社