本發(fā)明屬于微納結(jié)構(gòu)和光學(xué)膜的制作技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種具有表面光學(xué)擴(kuò)散微結(jié)構(gòu)模具輥的制作工藝。
背景技術(shù):
光學(xué)薄膜一般是指在光學(xué)級(jí)薄膜基材上通過(guò)真空鍍膜技術(shù)、涂布技術(shù)等各種工藝制作一層或多層介質(zhì)以改變光的波導(dǎo)特性。具有光學(xué)擴(kuò)散效果的光學(xué)薄膜廣泛用于平板顯示器背光模組中。
常見(jiàn)的技術(shù)是利用各種具有光學(xué)擴(kuò)散效果的顆粒或者片狀物涂布或者夾持在膜表面或者中間。如專(zhuān)利cn100381836c公開(kāi)了一種擴(kuò)散膜,其包含一基材,且至少有一基材表面包含含表面官能基的光學(xué)擴(kuò)散微粒、接合劑和硬化劑的涂層,其中該光學(xué)擴(kuò)散微粒是由多元醇聚合物所組成,且具有1~50μm的粒徑,該接合劑是選自由丙烯酸樹(shù)脂、聚酰胺樹(shù)脂、環(huán)氧樹(shù)脂、聚酰亞胺樹(shù)脂及聚酯樹(shù)脂所組成的群組;專(zhuān)利cn104797962a公開(kāi)了光擴(kuò)散膜,其是用于使入射光光擴(kuò)散成橢圓形的光擴(kuò)散膜,其中,在膜內(nèi)具有將折射率相對(duì)較高的多個(gè)薄片狀物沿著沿膜面的任一方向在折射率相對(duì)較低的區(qū)域中排列多列而成的結(jié)構(gòu)。
但是,上述兩種結(jié)構(gòu)的擴(kuò)散膜存在一定的缺點(diǎn):由于起擴(kuò)散作用的顆?;蚨嗷蛏賹?duì)入射光的吸收和阻擋作用,進(jìn)而會(huì)降低光線透過(guò)率。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種具有表面光學(xué)擴(kuò)散微結(jié)構(gòu)
模具輥的制作工藝,該制作工藝制得的具有表面光學(xué)擴(kuò)散微結(jié)構(gòu)模具輥,通過(guò)紫外成形技術(shù)制造的光學(xué)擴(kuò)散膜在取得可調(diào)節(jié)的擴(kuò)散性能的同時(shí),又不會(huì)降低入射光的透過(guò)率。
為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明的技術(shù)方案為:一種具有表面光學(xué)擴(kuò)散微結(jié)構(gòu)模具輥的制作工藝,其創(chuàng)新點(diǎn)在于:所述制作工藝包括如下步驟:
(1)預(yù)處理:對(duì)成型的輥坯依次進(jìn)行表面除油和快速鍍銅處理,得到一次預(yù)備輥;
(2)電沉積硫酸銅:將步驟(1)得到的一次預(yù)備輥進(jìn)行硫酸銅電沉積處理,以含磷銅板為陽(yáng)極,濃度為220~250g/lcus04·5h2o、60~70g/lh2s04和0.5~1.5ml/l十二烷基硫酸鈉的混合液為電沉積液,設(shè)置陰極電流密度為3~10a/dm2,溶液溫度為20~40℃,實(shí)施電沉積硫酸銅,且電沉積硫酸銅在攪拌過(guò)程中進(jìn)行,沉積出一層厚度為50~100μm的金相結(jié)構(gòu),得到二次預(yù)備輥;
(3)電沉積氟硼酸鹽銅:將步驟(2)得到的二次預(yù)備輥進(jìn)行氟硼酸鹽銅電沉積處理,以濃度為440~450g/lcu(bf4)2、20~30g/lh3b03和0.5~1.5ml/lph值添加劑的混合液為電沉積液,設(shè)置陰極電流密度為10~45a/dm2,溶液溫度為20~40℃,實(shí)施電沉積氟硼酸鹽銅,且電沉積氟硼酸鹽銅在攪拌過(guò)程中進(jìn)行,形成一層細(xì)密的厚度為50~100μm的金相顆粒填充,得到三次預(yù)備輥;
(4)化學(xué)刻蝕:將步驟(3)得到的三次預(yù)備輥進(jìn)行化學(xué)刻蝕,剝離表面金屬層;即采用濃度為500~800ml/l的氨水和200~500ml/l的雙氧水的混合液進(jìn)行刻蝕處理30~60s,處理后過(guò)5%稀磷酸溶液,并用純水徹底沖洗,使金相結(jié)構(gòu)裸露,得到四次預(yù)備輥;
(5)后處理:將步驟(4)的四次預(yù)備輥依次經(jīng)過(guò)電解拋光和抗氧化處理,得到具有表面光學(xué)擴(kuò)散微結(jié)構(gòu)的成形輥。
進(jìn)一步地,所述步驟(1)中的表面除油可以為酸洗除油,也可以為皂化除油。
進(jìn)一步地,所述酸洗除油的具體步驟為在40~60℃的條件下,以百分質(zhì)量比濃度為5~30%的h3p04溶液進(jìn)行除油處理1~5min。
進(jìn)一步地,所述皂化除油的具體步驟為在50~60℃的條件下,以濃度為30~50g/lnaoh、0.5~1ml/l工業(yè)洗滌劑和70~125g/l的混合液進(jìn)行除油處理1~5min。
進(jìn)一步地,所述步驟(1)中的快速鍍銅處理的具體步驟為以電解銅板為陽(yáng)極,濃度為8~30g/l氰化亞銅、12~54g/l氰化鈉和2~10g/l氫氧化鈉的混合液為鍍銅液,設(shè)置陰極電流密度為0.2~2.2a/dm2,溶液溫度為20~45℃,實(shí)施快速鍍銅1~10min。
進(jìn)一步地,所述步驟(5)中的電解拋光的具體步驟為采用可控硅整流器進(jìn)行銅電解拋光,以鉛板為陰極,銅模具輥為陽(yáng)極,陰極和陽(yáng)極面積的比為2~3:1,且陰陽(yáng)極距離為200mm,以濃度為600~900ml/l工業(yè)磷酸、0.05~0.2g/l十二烷基硫酸鈉和0.05~1g/l聚乙二醇的混合液為拋光電解液,并控制整流器工作電壓6~10v,電流密度2.5~3.5a/dm2常溫操作1~10min。
進(jìn)一步地,所述步驟(5)中的抗氧化處理的具體步驟為:(1)將電解拋光處理后的模具輥浸沒(méi)于森源pv-d04銅鈍化液中,處理12~15min;(2)過(guò)純水;(3)純水浸泡處理,浸泡時(shí)間為3~5min;(4)除水,烘干。
本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于:
(1)本發(fā)明具有表面光學(xué)擴(kuò)散微結(jié)構(gòu)模具輥的制作工藝,該制作工藝結(jié)合電化學(xué)沉積和化學(xué)刻蝕,通過(guò)定向調(diào)節(jié)電化學(xué)沉積參數(shù)控制金屬金相結(jié)構(gòu)和晶體大小,進(jìn)一步通過(guò)合適的化學(xué)刻蝕技術(shù)剝離表面金屬,裸露出金相結(jié)構(gòu),得到類(lèi)似自組織微納表面結(jié)構(gòu);此結(jié)構(gòu)具有在一定范圍里隨機(jī)的顆粒直徑分布和表面高度發(fā)布,具有很好的漫反射光學(xué)效果;
(2)本發(fā)明具有表面光學(xué)擴(kuò)散微結(jié)構(gòu)模具輥的制作工藝,其中,采用不同配方的電化學(xué)沉積液和化學(xué)刻蝕液,可以有效調(diào)整微納結(jié)構(gòu)的表面形貌,即包括凸起的形狀和高度;后處理中,依次經(jīng)過(guò)電解拋光和抗氧化處理,電解拋光可以進(jìn)一步穩(wěn)定表面形狀,而抗氧化處理,可以使其表面具有一定的抗氧化能力,進(jìn)而提高模具輥的使用壽命;
(3)通過(guò)本發(fā)明具有表面光學(xué)擴(kuò)散微結(jié)構(gòu)模具輥的制作工藝,制得的模具輥進(jìn)行生產(chǎn)擴(kuò)散膜,其擴(kuò)散膜透光率高,霧度可控,且擴(kuò)散層表面硬度可控,沒(méi)有顆粒脫落,抗劃傷性好。
附圖說(shuō)明
下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明。
圖1為本發(fā)明具有表面光學(xué)擴(kuò)散微結(jié)構(gòu)模具輥的制作工藝的工藝流程圖。
圖2為本發(fā)明具有表面光學(xué)擴(kuò)散微結(jié)構(gòu)模具輥的制作工藝制得的模具輥的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3為實(shí)施例1中制得的模具輥表面顯微結(jié)構(gòu)圖。
圖4為實(shí)施例2中制得的模具輥表面顯微結(jié)構(gòu)圖。
具體實(shí)施方式
下面的實(shí)施例可以使本專(zhuān)業(yè)的技術(shù)人員更全面地理解本發(fā)明,但并不因此將本發(fā)明限制在所述的實(shí)施例范圍之中。
實(shí)施例1
本實(shí)施例具有表面光學(xué)擴(kuò)散微結(jié)構(gòu)模具輥的制作工藝,如圖1所示,該制作工藝包括如下步驟:
(1)預(yù)處理1:對(duì)成型的輥坯依次進(jìn)行酸洗除油和快速鍍銅處理,得到一次預(yù)備輥;其中,酸洗除油的具體步驟為在40~60℃的條件下,以百分質(zhì)量比濃度為5~30%的h3p04溶液進(jìn)行除油處理1~5min;快速鍍銅處理的具體步驟為以電解銅板為陽(yáng)極,濃度為8~30g/l氰化亞銅、12~54g/l氰化鈉和2~10g/l氫氧化鈉的混合液為鍍銅液,設(shè)置陰極電流密度為0.2~2.2a/dm2,溶液溫度為20~45℃,實(shí)施快速鍍銅1~10min;
(2)電沉積硫酸銅2:將步驟(1)得到的一次預(yù)備輥進(jìn)行硫酸銅電沉積處理,以含磷銅板為陽(yáng)極,濃度為220~250g/lcus04·5h2o、60~70g/lh2s04和0.5~1.5ml/l十二烷基硫酸鈉的混合液為電沉積液,設(shè)置陰極電流密度為3~10a/dm2,溶液溫度為20~40℃,實(shí)施電沉積硫酸銅,且電沉積硫酸銅在攪拌過(guò)程中進(jìn)行,沉積出一層厚度為50~100μm的金相結(jié)構(gòu),得到二次預(yù)備輥;
(3)電沉積氟硼酸鹽銅3:將步驟(2)得到的二次預(yù)備輥進(jìn)行氟硼酸鹽銅電沉積處理,以濃度為440~450g/lcu(bf4)2、20~30g/lh3b03和0.5~1.5ml/lph值添加劑的混合液為電沉積液,設(shè)置陰極電流密度為10~45a/dm2,溶液溫度為20~40℃,實(shí)施電沉積氟硼酸鹽銅,且電沉積氟硼酸鹽銅在攪拌過(guò)程中進(jìn)行,形成一層細(xì)密的厚度為50~100μm的金相顆粒填充,得到三次預(yù)備輥;
(4)化學(xué)刻蝕4:將步驟(3)得到的三次預(yù)備輥進(jìn)行化學(xué)刻蝕,剝離表面金屬層;即采用濃度為500~800ml/l的氨水和200~500ml/l的雙氧水的混合液進(jìn)行刻蝕處理30~60s,處理后過(guò)5%稀磷酸溶液,并用純水徹底沖洗,使金相結(jié)構(gòu)裸露,得到四次預(yù)備輥;
(5)后處理5:將步驟(4)的四次預(yù)備輥依次經(jīng)過(guò)電解拋光和抗氧化處理,得到具有表面光學(xué)擴(kuò)散微結(jié)構(gòu)的成形輥,如圖2所示,成形輥包括一成形輥本體6以及設(shè)置在成形輥本體6表面的光學(xué)擴(kuò)散微結(jié)構(gòu)層7;光學(xué)擴(kuò)散微結(jié)構(gòu)層7的表面顯微結(jié)構(gòu),如圖3所示,由圖可知,淺色的部分為表面突起部分,平均粒徑在20~30um之間,分布具有隨機(jī)特性。
在具體實(shí)施時(shí),后處理5中的電解拋光的具體步驟為采用可控硅整流器進(jìn)行銅電解拋光,以鉛板為陰極,銅模具輥為陽(yáng)極,陰極和陽(yáng)極面積的比為2~3:1,且陰陽(yáng)極距離為200mm,以濃度為600~900ml/l工業(yè)磷酸、0.05~0.2g/l十二烷基硫酸鈉和0.05~1g/l聚乙二醇的混合液為拋光電解液,并控制整流器工作電壓6~10v,電流密度2.5~3.5a/dm2常溫操作1~10min。
抗氧化處理的具體步驟為:(1)將電解拋光處理后的模具輥浸沒(méi)于森源pv-d04銅鈍化液中,處理12~15min;(2)過(guò)純水;(3)純水浸泡處理,浸泡時(shí)間為3~5min;(4)除水,烘干。
后處理中,依次經(jīng)過(guò)電解拋光和抗氧化處理,電解拋光可以進(jìn)一步穩(wěn)定表面形狀,而抗氧化處理,可以使其表面具有一定的抗氧化能力,進(jìn)而提高模具輥的使用壽命。
實(shí)施例2
本實(shí)施例具有表面光學(xué)擴(kuò)散微結(jié)構(gòu)模具輥的制作工藝,與實(shí)施例1相比,其他處理步驟不變,改步驟(1)中的酸洗除油為皂化除油,皂化除油的具體步驟為在50~60℃的條件下,以濃度為30~50g/lnaoh、0.5~1ml/l工業(yè)洗滌劑和70~125g/l的混合液進(jìn)行除油處理1~5min。
通過(guò)該實(shí)施例得到具有表面光學(xué)擴(kuò)散微結(jié)構(gòu)的成形輥,如圖2所示,成形輥包括一成形輥本體6以及設(shè)置在成形輥本體6表面的光學(xué)擴(kuò)散微結(jié)構(gòu)層7;光學(xué)擴(kuò)散微結(jié)構(gòu)層7的表面顯微結(jié)構(gòu),如圖4所示,由圖可知,淺色的部分為表面突起部分,平均粒徑在18~32um之間,分布具有隨機(jī)特性。
實(shí)施例3
利用實(shí)施例1或?qū)嵤├?具有表面光學(xué)擴(kuò)散微結(jié)構(gòu)模具輥通過(guò)紫外成型技術(shù)制作光學(xué)擴(kuò)散膜,其擴(kuò)散膜透光率高,透光率>85%,霧度可控,其霧度在70~80%,且擴(kuò)散層表面硬度可控,沒(méi)有顆粒脫落,抗劃傷性好。
以上顯示和描述了本發(fā)明的基本原理和主要特征以及本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)。本行業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解,本發(fā)明不受上述實(shí)施例的限制,上述實(shí)施例和說(shuō)明書(shū)中描述的只是說(shuō)明本發(fā)明的原理,在不脫離本發(fā)明精神和范圍的前提下,本發(fā)明還會(huì)有各種變化和改進(jìn),這些變化和改進(jìn)都落入要求保護(hù)的本發(fā)明范圍內(nèi)。本發(fā)明要求保護(hù)范圍由所附的權(quán)利要求書(shū)及其等效物界定。