一種無水電鍍裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及一種電鍍裝置，尤其涉及一種無水電鍍裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]水電鍍的污染最主要是重金屬污染:鎳、鉻、鉛、鎘、汞等及劇毒物質(zhì)氰化物等。所產(chǎn)生的廢水廢氣及重金屬問題解決難度極高，成本巨大，而且因水電鍍后所遺留在產(chǎn)品上的殘酸及殘毒問題，也是目前造成生產(chǎn)者與使用者健康安全的重大隱患！雖然，現(xiàn)在相對更加環(huán)保的電鍍真空鍍膜法在飛速發(fā)展，但運(yùn)用在量產(chǎn)的生產(chǎn)線上有非金屬類材料裝飾性電鍍方面，產(chǎn)品耐酸堿性、附著性能、耐熱性及耐磨性尚存在很大的不足。而真空離子鍍限定被鍍物材料的材質(zhì)且必須在高溫200度以上的環(huán)境下才能有較好的附著性能但可能因此而影響材料硬度，目前大量運(yùn)用在工具鍍而真空鍍膜法實(shí)際應(yīng)用在金屬表面處理上的處理工藝，也是在水電鍍的基礎(chǔ)上再進(jìn)行真空鍍膜法的，雖然解決了耐酸堿及附著性等缺陷，但這種生產(chǎn)工藝并無法解決目前環(huán)境重大污染問題。
[0003]因此，為了要解決污染問題，急待要開發(fā)一種無水電鍍裝置。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的是為了解決【背景技術(shù)】中所涉及的技術(shù)問題，提供了一種無水電鍍的
目-ο
[0005]本發(fā)明的技術(shù)方案是這樣實(shí)現(xiàn)的:一種無水電鍍裝置，其特征在于，包括:
[0006]主機(jī)體，所述主機(jī)體的內(nèi)部設(shè)有密閉的工作腔室，所述工作腔室內(nèi)安裝有掛置架、蒸發(fā)源和通氣管；
[0007]動力裝置，所述動力裝置與掛置架轉(zhuǎn)動連接；
[0008]抽氣負(fù)壓裝置，所述抽氣負(fù)壓裝置與工作腔室相連通，用于抽空工作腔室內(nèi)部的空氣使其處于無塵、無水氣、低阻力密閉的工作狀態(tài)；
[0009]離子源發(fā)生器，所述離子源發(fā)生器與位于所述主機(jī)體內(nèi)部的離子源板連接；
[0010]電器控制裝置，所述電器控制裝置分別與蒸發(fā)源、動力裝置和抽氣負(fù)壓裝置電性連接。
[0011]優(yōu)選，還包括有流量控制開關(guān)，所述流量控制開關(guān)與通氣管連接。
[0012]優(yōu)選，所述掛置架具有架體和轉(zhuǎn)動軸，所述轉(zhuǎn)動軸通過軸承安裝于主機(jī)體的底板上；轉(zhuǎn)動軸的一端穿過底板并通過軸連接器與動力裝置轉(zhuǎn)動連接。
[0013]優(yōu)選，所述動力裝置是伺服電機(jī)或步進(jìn)電機(jī)。
[0014]優(yōu)選，所述蒸發(fā)源是鍍膜磁控濺度靶或離子鍍靶。
[0015]優(yōu)選，所述主機(jī)體內(nèi)的蒸發(fā)源與離子源板平行設(shè)置，且被鍍物掛件架位于其中間。
[0016]利用無水電鍍裝置的無水電鍍方法，其特征在于，包括如下步驟:
[0017]一、前處理，把清洗工件放入溴丙烷超聲波清洗機(jī)的清洗槽中，并往清洗槽中倒入清洗劑；打開溴丙烷超聲波清洗機(jī)，對清洗工件進(jìn)行清洗凈化；
[0018]二、電鍍，把清洗完成的工件放入電鍍機(jī)的工作腔室內(nèi)，在無塵、無水氣、低阻力密閉空間狀態(tài)下，對工件進(jìn)行電鍍。
[0019]進(jìn)一步，所述的清洗劑為溴丙烷環(huán)保清洗劑或碳?xì)淝逑磩?br>[0020]進(jìn)一步，清洗條件溫度在70攝氏度以下。
[0021]進(jìn)一步，清洗凈化后對工件表面噴涂底漆。
[0022]本發(fā)明的有益效果:
[0023]本發(fā)明實(shí)現(xiàn)了無水電鍍:被鍍物清潔后，放置在無水電鍍專用主機(jī)內(nèi)的掛置架上，在無塵、無水氣、低阻力密閉的工作腔室內(nèi)，通氣管往里面不斷充入鈍氣做為載體，在蒸發(fā)源上的蒸發(fā)材料通過電器控制裝置控制蒸發(fā)材料連續(xù)形成外加磁場，可以改變移動速度，離化的空間電荷從而加速區(qū)強(qiáng)電場，使電子加速離開，其間原子、分子或離子之間發(fā)生碰撞，產(chǎn)生離子化、復(fù)合、反應(yīng)，能量的改變，運(yùn)行方向的改變在被鍍物表面的吸附、堆積、形核而產(chǎn)生薄膜且因離子源板的不斷作用使運(yùn)行方向改變而返回被鍍物表面上，且不斷的將運(yùn)動能量重新吸附、堆積、形核而產(chǎn)生薄膜使蒸發(fā)材料的原子、分子或離子遷移沉積于被鍍物上。解決了因水電度產(chǎn)生的環(huán)境污染問題，符合國家提倡的綠色、環(huán)保，可持續(xù)發(fā)展道路的政策。
【附圖說明】
[0024]為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0025]圖1為本發(fā)明結(jié)構(gòu)示意圖；
[0026]圖2為本發(fā)明俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0027]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0028]如圖1-2所示，一種無水電鍍裝置，包括主機(jī)體1。所述主機(jī)體1的內(nèi)部設(shè)有密閉的工作腔室2，所述工作腔室2內(nèi)安裝有掛置架3、蒸發(fā)源4和通氣管5。所述動力裝置6可以是伺服電機(jī)或是步進(jìn)電機(jī)。所述掛置架3具有架體31和轉(zhuǎn)動軸32。所述轉(zhuǎn)動軸32通過軸承安裝于主機(jī)體1的底板上；轉(zhuǎn)動軸的一端穿過底板并通過軸連接器(圖上未視出)與動力裝置6轉(zhuǎn)動連接。掛置架3有若干架，均勻排布在工作腔室2內(nèi)。被鍍物掛件掛在掛置架3上，由動力裝置6帶動旋轉(zhuǎn)。
[0029]抽氣負(fù)壓裝置8與工作腔室2相連通，用于抽空工作腔室2內(nèi)部的空氣、水汽，使其處于無塵、無水氣、低阻力密閉的工作狀態(tài)。離子源發(fā)生器9與位于所述主機(jī)體1內(nèi)部的離子源板10連接。
[0030]蒸發(fā)源4與離子源板10在主機(jī)體1內(nèi)并處于同一平面上，兩者平行設(shè)置。被鍍工件在蒸發(fā)源4與離子源板10的中間(處于工作腔室2的中心線上)。
[0031]通氣管5與外界的鈍氣源接通，用于往工作腔室2里面不斷充入鈍氣做為電鍍的載體；流量控制開關(guān)11與通氣管5連接，并控制通氣管5傳輸鈍氣的流量大小。
[0032]蒸發(fā)源4是鍍膜磁控濺度靶或離子鍍靶。它有多個(gè)，均勻分布在工作腔室2的內(nèi)壁上。它是將材料迅速離子化。電器控制裝置7分別與蒸發(fā)源4、動力裝置6和抽氣負(fù)壓裝置8電性連接。
[0033]工作原理:主機(jī)體1打開門將清洗干凈的被鍍物放入工作腔室2內(nèi)，開啟電器控制裝置7，使其控制抽氣負(fù)壓裝置8抽除工作腔室2內(nèi)的空氣、水汽至設(shè)定情況；然后打開通氣管5，流量控制開關(guān)11控制使通氣管5達(dá)到設(shè)定流量的鈍氣濃度；此時(shí)控制動力裝置6驅(qū)動，帶動掛置架3上的被鍍物旋轉(zhuǎn)，并開啟蒸發(fā)源4工作將材料迅速離子化，其間原子、分子或離子之間發(fā)生碰撞，產(chǎn)生離子化、復(fù)合、反應(yīng)，能量的改變，運(yùn)行方向的改變在被鍍物表面的吸附、堆積、形核而產(chǎn)生薄膜且因離子源板10的不斷作用使蒸發(fā)材料的原子、分子或離子遷移沉積于被鍍物上。
[0034]另一種:也還可以直接打開通氣管5，加入易與元素反應(yīng)氣體，通過流量控制開關(guān)11控制使其達(dá)到設(shè)定的流量大小的氣體濃度，進(jìn)行化合反應(yīng)，獲得各式各種不同組成元素的涂層。被鍍物可以沉積金屬涂層、合金涂層、化合物、非金屬半導(dǎo)體、陶瓷、有機(jī)物的單層及多層結(jié)構(gòu)的涂層。
[0035]利用無水電鍍裝置的無水電鍍方法，其特征在于，包括如下步驟:
[0036]一、前處理，把清洗工件放入溴丙烷超聲波清洗機(jī)的清洗槽中，并往清洗槽中倒入清洗劑；打開溴丙烷超聲波清洗機(jī)，對清洗工件進(jìn)行清洗凈化；
[0037]二、電鍛，把清洗完成的工件放入電鍍機(jī)的工作腔室內(nèi)，在無塵、無水氣、低阻力密閉空間狀態(tài)下，對工件進(jìn)行電鍍。
[0038]其中，清洗劑為溴丙烷環(huán)保清洗劑或碳?xì)淝逑磩榱朔乐骨逑磩]發(fā)，清洗條件溫度必須控制在70攝氏度以下。為了提高工件的亮度，可以在清洗凈化后對工件表面噴涂底漆。
[0039]采用本電鍍方法，在前處理不需要用到水對工件進(jìn)行清洗，一是節(jié)約水資源，二是不產(chǎn)生工業(yè)廢水，對環(huán)境造成污染；
[0040]以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種無水電鍍裝置，其特征在于，包括: 主機(jī)體，所述主機(jī)體的內(nèi)部設(shè)有密閉的工作腔室，所述工作腔室內(nèi)安裝有掛置架、蒸發(fā)源和通氣管； 動力裝置，所述動力裝置與掛置架轉(zhuǎn)動連接； 抽氣負(fù)壓裝置，所述抽氣負(fù)壓裝置與工作腔室相連通，用于抽空工作腔室內(nèi)部的空氣使其處于無塵、無水氣、低阻力密閉的工作狀態(tài)； 離子源發(fā)生器，所述離子源發(fā)生器與位于所述主機(jī)體內(nèi)部的離子源板連接； 電器控制裝置，所述電器控制裝置分別與蒸發(fā)源、動力裝置和抽氣負(fù)壓裝置電性連接。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種無水電鍍裝置，其特征在于，還包括有流量控制開關(guān)，所述流量控制開關(guān)與通氣管連接。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種無水電鍍裝置，其特征在于，所述掛置架具有架體和轉(zhuǎn)動軸，所述轉(zhuǎn)動軸通過軸承安裝于主機(jī)體的底板上；轉(zhuǎn)動軸的一端穿過底板并通過軸連接器與動力裝置轉(zhuǎn)動連接。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種無水電鍍裝置，其特征在于，所述動力裝置是伺服電機(jī)或步進(jìn)電機(jī)。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種無水電鍍裝置，其特征在于，所述蒸發(fā)源是鍍膜磁控濺度靶或離子鍍靶。6.根據(jù)權(quán)利要求1或5所述的一種無水電鍍裝置，其特征在于，所述主機(jī)體內(nèi)的蒸發(fā)源與離子源板平行設(shè)置，且被鍍物掛件架位于其中間。7.利用權(quán)利要求1-6所述的無水電鍍裝置的無水電鍍方法，其特征在于，包括如下步驟: 一、前處理，把清洗工件放入溴丙烷超聲波清洗機(jī)的清洗槽中，并往清洗槽中倒入清洗劑；打開溴丙烷超聲波清洗機(jī)，對清洗工件進(jìn)行清洗凈化； 二、電鍍，把清洗完成的工件放入電鍍機(jī)的工作腔室內(nèi)，在無塵、無水氣、低阻力密閉空間狀態(tài)下，對工件進(jìn)行電鍍。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的無水電鍍方法，其特征在于，所述的清洗劑為溴丙烷環(huán)保清洗劑或碳?xì)淝逑磩?.根據(jù)權(quán)利要求7所述的無水電鍍方法，其特征在于，清洗條件溫度在70攝氏度以下。10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的無水電鍍方法，其特征在于，清洗凈化后對工件表面噴涂底漆。
【專利摘要】本發(fā)明提出了一種無水電鍍裝置，包括：主機(jī)體，所述主機(jī)體的內(nèi)部設(shè)有密閉的工作腔室，所述工作腔室內(nèi)安裝有掛置架、蒸發(fā)源和通氣管；所述動力裝置與掛置架轉(zhuǎn)動連接；所述抽氣負(fù)壓裝置與工作腔室相連通，用于抽空工作腔室內(nèi)部的空氣使其處于無塵、無水氣、低阻力密閉的工作狀態(tài)；所述離子源發(fā)生器與位于所述主機(jī)體內(nèi)部的離子源板連接；所述電器控制裝置分別與蒸發(fā)源、動力裝置和抽氣負(fù)壓裝置電性連接。解決了因水電度產(chǎn)生的環(huán)境污染問題，符合國家提倡的綠色、環(huán)保，可持續(xù)發(fā)展道路的政策。
【IPC分類】C25D17/00, C25D5/00
【公開號】CN105442023
【申請?zhí)枴緾N201410513017
【發(fā)明人】白奇玄, 白易巧, 白林巧
【申請人】浙江經(jīng)立五金機(jī)械有限公司
【公開日】2016年3月30日
【申請日】2014年9月29日