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      電解法制備小分子抑制劑的工藝系統(tǒng)的制作方法

      文檔序號:10467991閱讀:435來源:國知局
      電解法制備小分子抑制劑的工藝系統(tǒng)的制作方法
      【專利摘要】本發(fā)明涉及一種電解法制備小分子抑制劑的工藝系統(tǒng),包括電解槽、陰極(2)、陽極(3),還包括隔膜板,所述的電解槽內壁上有導入槽(4),所述隔膜板插入該導入槽(4),將所述電解槽分隔成陰電解槽(1)、陽電解槽(6);所述隔膜板包括框架(7)、隔膜(5)。本發(fā)明適用于谷胱甘肽的制備。
      【專利說明】
      電解法制備小分子抑制劑的工藝系統(tǒng)
      技術領域
      [0001]本發(fā)明涉及化工工藝裝置,特別是制備谷胱甘肽的工藝裝置。
      【背景技術】
      [0002]谷胱甘肽(glutath1ne,GSH)是一種含γ-酰胺鍵和巰基的三肽,由谷氨酸、半胱氨酸及甘氨酸組成。存在于幾乎身體的每一個細胞。谷胱甘肽能幫助保持正常的免疫系統(tǒng)的功能,并具有抗氧化作用和整合解毒作用,半胱氨酸上的巰基為其活性基團(故常簡寫為G-SH),谷胱甘肽原料生產幾乎被日本協(xié)和(KYOWA)發(fā)酵壟斷,因此谷胱甘肽價格一直居高不下。國內缺乏批量生產能力,至今也僅有2家國家批準的原料藥生產廠家。抓緊開發(fā)研制并實現(xiàn)生產谷胱甘肽的產業(yè)化對我國醫(yī)藥工業(yè)、臨床醫(yī)學和食品工業(yè)均具有重大的社會效益和經(jīng)濟效益。
      [0003]目前GSH主要采用發(fā)酵法生產,后處理主要采用銅鹽法,即用氧化亞銅與發(fā)酵液中GSH形成銅鹽沉淀,然后用硫化氫進行還原得到GSH,此方法環(huán)境污染較大,迫使生產企業(yè)開發(fā)更環(huán)保的生產工藝。

      【發(fā)明內容】

      [0004]發(fā)明目的:為了克服上述的不足,本發(fā)明提供一種環(huán)保、易操作的制備谷胱甘肽的工藝系統(tǒng)。
      [0005]技術方案:一種電解法制備小分子抑制劑的工藝系統(tǒng),包括電解槽、陰極(2)、陽極(3),還包括隔膜板,所述的電解槽內壁上有導入槽(4),所述隔膜板插入該導入槽(4),將所述電解槽分隔成陰電解槽(I)、陽電解槽(6);所述隔膜板包括框架(7)、隔膜(5)。
      [0006]作為優(yōu)選,所述隔膜板的框架包括凹框、主框,所述凹框嵌入該主框內,所述隔膜
      (5)的四邊嵌入所述凹框與主框之間。
      [0007]作為優(yōu)選,所述的陽電極(3)為鉑棒、鍍鉑鈦棒、鉛棒、鉛合金棒、二氧化鉛棒、二氧化鈦棒中的一種。
      [0008]作為優(yōu)選,所述的陰電極(2)為鉑棒、鋅棒、鉛棒、碳棒中的一種。
      [0009]有益的效果:本發(fā)明采用插入式的隔膜板,根據(jù)需要,可選擇插入導入槽(4)使用或取出更換,該隔膜板包括凹框、主框,凹框可嵌入主框內,且將隔膜的四邊嵌入固定;當隔膜需要更換時,可拆開凹框、主框,取下原來的隔膜,換上新的隔膜,方便操作者清洗隔膜,避免長時間使用,隔膜因雜質堵塞而影響工藝。
      【附圖說明】
      [0010]圖1為本發(fā)明的結構示意圖;
      圖2為本發(fā)明隔板板結構示意圖。
      具體實施例
      [0011]下面結合具體實施例,進一步闡述本發(fā)明。應理解,這些實施例僅用于說明本發(fā)明而不用于限制本發(fā)明的范圍。
      [0012]如圖1、圖2,一種電解法制備小分子抑制劑的工藝系統(tǒng),包括電解槽、陰極2、陽極3,還包括隔膜板,所述的電解槽內壁上有導入槽4,所述隔膜板插入該導入槽4,將所述電解槽分隔成陰電解槽1、陽電解槽6;所述隔膜板包括框架7、隔膜5。
      [0013]本實施例中,所述隔膜板的框架包括凹框、主框,所述凹框嵌入該主框內,所述隔膜5的四邊嵌入所述凹框與主框之間。所述的陽電極3為鉑棒、鍍鉑鈦棒、鉛棒、鉛合金棒、二氧化鉛棒、二氧化鈦棒中的一種。所述的陰電極2為鉑棒、鋅棒、鉛棒、碳棒中的一種。
      [0014]有益的效果:本發(fā)明采用插入式的隔膜板,根據(jù)需要,可選擇插入導入槽4使用或取出更換,該隔膜板包括凹框、主框,凹框可嵌入主框內,且將隔膜的四邊嵌入固定;當隔膜需要更換時,可拆開凹框、主框,取下原來的隔膜,換上新的隔膜,方便操作者清洗隔膜,避免長時間使用,隔膜因雜質堵塞而影響工藝。
      【主權項】
      1.一種電解法制備小分子抑制劑的工藝系統(tǒng),包括電解槽、陰極(2)、陽極(3),其特征在于:還包括隔膜板,所述的電解槽內壁上有導入槽(4),所述隔膜板插入該導入槽(4),將所述電解槽分隔成陰電解槽(I)、陽電解槽(6);所述隔膜板包括框架(7)、隔膜(5)。2.根據(jù)權利要求1所述的電解法制備小分子抑制劑的工藝系統(tǒng),其特征在于:所述隔膜板的框架包括凹框、主框,所述凹框嵌入該主框內,所述隔膜(5)的四邊嵌入所述凹框與主框之間。3.根據(jù)權利要求1所述的電解法制備小分子抑制劑的工藝系統(tǒng),其特征在于:所述的陽電極(3 )為鉑棒、鍍鉑鈦棒、鉛棒、鉛合金棒、二氧化鉛棒、二氧化鈦棒中的一種。4.根據(jù)權利要求1所述的電解法制備小分子抑制劑的工藝系統(tǒng),其特征在于:所述的陰電極(2)為鈾棒、鋅棒、鉛棒、碳棒中的一種。
      【文檔編號】C25B9/00GK105821440SQ201610337319
      【公開日】2016年8月3日
      【申請日】2016年5月21日
      【發(fā)明人】許劉華, ??? 余玉奎, 任世闊, 吳鋒, 邢小飛, 劉加根, 華俊國
      【申請人】江蘇誠信藥業(yè)有限公司
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