專利名稱：充填體托頂硐室的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種硐室，尤其涉及一種充填體托頂硐室。
背景技術(shù)：
目前，下向分層膠結(jié)充填采礦法的分層聯(lián)絡(luò)道兩側(cè)無進(jìn)路，進(jìn)行下一分層回采時(shí)，充填體頂板靠兩側(cè)夾制力穩(wěn)定，一旦充填過程發(fā)生離析、分層、充填不接頂或充填體下采空區(qū)放置時(shí)間過長的現(xiàn)象，會(huì)導(dǎo)致充填體發(fā)生脫層。而且，脫層前無任何征兆，嚴(yán)重威脅人身安全。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種可以解決分層聯(lián)絡(luò)道或分層道充填體脫層的問題，有效提高分層聯(lián)絡(luò)道、分層道充填體的穩(wěn)定性的充填體托頂硐室。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采取的技術(shù)方案是:一種充填體托頂硐室，包括分層聯(lián)絡(luò)道和分層聯(lián)絡(luò)道回填層，所述分層聯(lián)絡(luò)道回填層的上層、所述分層聯(lián)絡(luò)道的一側(cè)或兩側(cè)設(shè)有托頂硐室。所述托頂硐室為是間隔一定距離開挖的硐室。所述托頂硐室為連續(xù)開挖的硐室。
·[0008]采用本實(shí)用新型提供的充填體托頂硐室，當(dāng)充填過程發(fā)生中斷、離析、分層或充填不接頂?shù)默F(xiàn)象時(shí)，由于新增了托頂硐室，托頂硐室與分層聯(lián)絡(luò)道、分層道充填體構(gòu)成的整體充填體，可以受礦柱或原巖的支撐，避免脫層現(xiàn)象的發(fā)生，提高了混凝砼分層道充填體頂板的穩(wěn)定性，保證人員在充填體頂板下工作的安全性。以前分層聯(lián)絡(luò)道的使用時(shí)間不能超過45天，45天后將發(fā)生開裂和變形現(xiàn)象，現(xiàn)在分層聯(lián)絡(luò)道的使用時(shí)間可超過60天。

圖1是本實(shí)用新型的一分層聯(lián)絡(luò)道的主視圖。圖2是本實(shí)用新型的一分層聯(lián)絡(luò)道的的A-A剖視圖。圖3是本實(shí)用新型的二分層道聯(lián)絡(luò)道的主視圖。圖中，1- 一分層分層聯(lián)絡(luò)道，2-托頂硐室，3- 一分層分層聯(lián)絡(luò)道回填層，4-整體充填體，5- 二分層原巖幫或礦柱,6- 二分層分層聯(lián)絡(luò)道。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合具體實(shí)施例及其附圖，對本實(shí)用新型作進(jìn)一步的詳細(xì)說明，但本實(shí)用新型的實(shí)施方式不限于此。如圖1和圖2所示，本實(shí)用新型提供的一種充填體托頂硐室，包括一分層分層聯(lián)絡(luò)道I和一分層分層聯(lián)絡(luò)道回填層3，在一分層分層聯(lián)絡(luò)道回填層3的上層，一分層分層聯(lián)絡(luò)道I的一側(cè)或兩側(cè)開挖有托頂硐室2。托頂硐室2可以是間隔一定距離開挖的硐室，也可以是開挖連續(xù)的硐室。當(dāng)一分層采場回采結(jié)束后，對一分層分層聯(lián)絡(luò)道I進(jìn)行回填，當(dāng)一側(cè)無進(jìn)路時(shí)，在一分層分層聯(lián)絡(luò)道回填層3的上層一側(cè)開挖充填體托頂硐室2 ;當(dāng)兩側(cè)均無進(jìn)路時(shí)，在一分層分層聯(lián)絡(luò)道回填層3的上層兩側(cè)開挖充填體托頂硐室2，托頂硐室2寬I 3m，高2 4m，深2 4m，間距為3 5m。根據(jù)實(shí)際情況，托頂硐室2還可以是開挖連續(xù)的硐室。如圖3所示，當(dāng)一分層充填結(jié)束后，一分層分層聯(lián)絡(luò)道I的充填體和托頂硐室2的充填體形成一個(gè)整體充填體4。二分層分層聯(lián)絡(luò)道6掘進(jìn)后，人員在整體充填體4的下面作業(yè)，整體充填體4受到二分層原巖幫或礦柱5的支撐，從而形成穩(wěn)定的充填體，確保生產(chǎn)人員的安全。以上所述的僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，并不局限本實(shí)用新型。應(yīng)當(dāng)指出對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在本實(shí)用新型 所提供的技術(shù)啟示下，還可以做出其它等同變型和改進(jìn)，均可以實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型的目的，都應(yīng)視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1.一種充填體托頂硐室，包括分層聯(lián)絡(luò)道(I)和分層聯(lián)絡(luò)道回填層(3)，其特征在于，所述分層聯(lián)絡(luò)道回填層(3)的上層、所述分層聯(lián)絡(luò)道(I)的一側(cè)或兩側(cè)設(shè)有托頂硐室(2)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述充填體托頂硐室，其特征在于，所述托頂硐室(2)為是間隔一定距離開挖的硐室。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述充填體托頂硐室，其特征在于，所述托頂硐室(2)為連續(xù)開挖的硐室。`
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種充填體托頂硐室，包括分層聯(lián)絡(luò)道和分層聯(lián)絡(luò)道回填層，所述分層聯(lián)絡(luò)道回填層的上層、所述分層聯(lián)絡(luò)道的一側(cè)或兩側(cè)設(shè)有托頂硐室。該充填體托頂硐室，當(dāng)充填過程發(fā)生中斷、離析、分層或充填不接頂?shù)默F(xiàn)象時(shí)，由于新增了托頂硐室，托頂硐室與分層聯(lián)絡(luò)道、分層道充填體構(gòu)成的整體充填體，可以受礦柱或原巖的支撐，避免脫層現(xiàn)象的發(fā)生，提高了混凝砼分層道充填體頂板的穩(wěn)定性，保證人員在充填體頂板下工作的安全性。以前分層聯(lián)絡(luò)道的使用時(shí)間不能超過45天，45天后將發(fā)生開裂和變形現(xiàn)象，現(xiàn)在分層聯(lián)絡(luò)道的使用時(shí)間可超過60天。
文檔編號E21F15/00GK203146012SQ201320118890
公開日2013年8月21日 申請日期2013年3月15日 優(yōu)先權(quán)日2013年3月15日
發(fā)明者王永定, 于長春, 陳永強(qiáng), 李季秀 申請人:金川集團(tuán)股份有限公司