專利名稱：渦旋流體設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種諸如渦旋式壓縮機(jī)或者渦旋真空泵的渦旋(scroll)流體設(shè)備。
在本說(shuō)明書中，前和后的意思為防塵槽的入口和底部。
背景技術(shù)：
JP6-207588A和JP3248618B2公開了一種諸如渦旋壓縮機(jī)或者渦旋真空泵的渦旋流體設(shè)備，其包括具有偏心軸向部分的驅(qū)動(dòng)軸；動(dòng)渦盤，其包括具有繞動(dòng)渦齒(wrap)的繞動(dòng)端板；定渦盤，其包括具有固定渦齒的固定端板；和防自轉(zhuǎn)裝置，其用于防止該動(dòng)渦盤繞其自身的軸線旋轉(zhuǎn)，該動(dòng)渦盤可旋轉(zhuǎn)地繞該偏心軸向部分安裝，該固定渦齒與該繞動(dòng)渦齒相接合以形成密封室。
由于該驅(qū)動(dòng)軸的該偏心軸向部分和該防自轉(zhuǎn)裝置，該動(dòng)渦盤偏心地回轉(zhuǎn)從而該密封室的容積在朝向中心處減小進(jìn)而壓縮氣體或在離開中心處增大進(jìn)而氣體得以膨脹。
該繞動(dòng)渦齒和固定渦齒包括直徑沿旋轉(zhuǎn)方向逐漸增加的漸開曲線、包括多個(gè)繞該中心的短曲線的曲線，或者該兩種曲線的組合。在該固定和繞動(dòng)渦齒之間的徑向間隙被精確地限定為該渦齒彼此之間不接觸或者不過度張開。
接合槽形成在該固定和繞動(dòng)渦齒的端部處。端密封件配合在該接合槽中以氣密地在該支撐端板的端板上滑動(dòng)。
防塵密封槽形成在該固定或者繞動(dòng)端板的外周邊中，并且防塵密封件配合在該防塵密封槽中。
該防塵密封件防止空氣進(jìn)入真空泵中的低壓室或者防止空氣從螺旋壓縮機(jī)中的高壓室向外泄漏。
當(dāng)由鋁或者輕合金制成的該定渦盤或者動(dòng)渦盤被模制時(shí)，用于在其中安裝該防塵密封件的該防塵密封槽與渦盤一起形成，或者該防塵密封槽在該渦盤模制之后通過機(jī)械切削該渦盤而形成。
在運(yùn)行期間，繞該渦盤的驅(qū)動(dòng)軸產(chǎn)生的熱量或者端密封件與端板的摩擦熱量傳遞到該渦盤的防塵密封槽中的防塵密封件，從而造成該防塵密封件劣化或者迅速地磨損。
在澆鑄的該固定或者動(dòng)渦盤中不可避免地產(chǎn)生氣泡。如果在當(dāng)該防塵密封槽機(jī)械形成時(shí)由防塵密封件密封的該側(cè)中產(chǎn)生氣泡，密封性能會(huì)變差從而使得該渦旋流體設(shè)備的性能更差。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)，本發(fā)明的目的在于提供一種渦旋流體設(shè)備，其防止繞定渦盤或者動(dòng)渦盤的驅(qū)動(dòng)軸產(chǎn)生的熱量或者端板和端密封件的摩擦熱量傳遞到防塵密封件，因而提高耐久性并獲得長(zhǎng)期穩(wěn)定的性能。
本發(fā)明的另一個(gè)目的在于提供一種渦旋流體設(shè)備，其防止在防塵密封槽上出現(xiàn)氣泡。


根據(jù)以下說(shuō)明書并參照如附圖所示的各實(shí)施方式，本發(fā)明的特征和優(yōu)點(diǎn)會(huì)變得更加清晰，其中圖1是渦旋流體設(shè)備中的定渦盤的豎直截面?zhèn)纫晥D；圖2是根據(jù)本發(fā)明的渦旋流體設(shè)備的第一實(shí)施方式的放大的豎直截面?zhèn)纫晥D；圖3是根據(jù)本發(fā)明的渦旋流體設(shè)備的第二實(shí)施方式的放大的豎直截面?zhèn)纫晥D；圖4是根據(jù)本發(fā)明的渦旋流體設(shè)備的第三實(shí)施方式的放大的豎直截面?zhèn)纫晥D；圖5是根據(jù)本發(fā)明的渦旋流體設(shè)備的第四實(shí)施方式的放大的豎直截面?zhèn)纫晥D；
圖6是根據(jù)本發(fā)明的渦旋流體設(shè)備的第五實(shí)施方式的放大的豎直截面?zhèn)纫晥D；圖7是根據(jù)本發(fā)明的渦旋流體設(shè)備的第六實(shí)施方式的放大的豎直截面?zhèn)纫晥D；圖8是根據(jù)本發(fā)明的渦旋流體設(shè)備的第七實(shí)施方式的放大的豎直截面?zhèn)纫晥D；圖9是根據(jù)本發(fā)明的渦旋流體設(shè)備的第八實(shí)施方式的放大的豎直截面?zhèn)纫晥D；圖10是根據(jù)本發(fā)明的渦旋流體設(shè)備的第九實(shí)施方式的放大的豎直截面?zhèn)纫晥D；圖11是根據(jù)本發(fā)明的渦旋流體設(shè)備的第十實(shí)施方式的放大的豎直截面?zhèn)纫晥D；圖12是根據(jù)本發(fā)明的渦旋流體設(shè)備的第十一實(shí)施方式的放大的豎直截面?zhèn)纫晥D；圖13是根據(jù)本發(fā)明的渦旋流體設(shè)備的第十二實(shí)施方式的放大的豎直截面?zhèn)纫晥D；圖14是根據(jù)本發(fā)明的渦旋流體設(shè)備的第十三實(shí)施方式的放大的豎直截面?zhèn)纫晥D；具體實(shí)施方式
圖1是渦旋流體設(shè)備的定渦盤20的豎直截面?zhèn)纫晥D。
定渦盤20具有漸開曲線形的固定渦齒23，該固定渦齒在固定端板22的前表面上，該固定端板22在其后表面上具有冷卻翅片21。驅(qū)動(dòng)軸經(jīng)由軸承穿過該固定端板22中心處的軸向孔24。
端密封槽25形成在固定渦齒23的前端處，并且端密封件26配合在該端密封槽25中。
防塵密封槽27繞固定渦齒23形成在固定端板22中。防塵密封件(未示出)配合在該防塵密封槽27中。
本發(fā)明涉及一種渦旋流體設(shè)備，其中防塵密封槽27是新穎的。
圖2示出防塵密封槽的放大視圖，下面將進(jìn)行介紹。
在由鋁或者其合金制成的固定端板1的外周邊附近，環(huán)形保持槽3繞固定渦齒2形成。在保持槽3中設(shè)置有環(huán)形保持件5，該環(huán)形保持件5具有防塵密封槽4。
環(huán)形保持件5由熱傳導(dǎo)率低于該定渦盤的材料的鋼制成，并且當(dāng)該定渦盤被澆鑄時(shí)，該環(huán)形保持件5與固定端板1一起澆鑄形成。
保持槽3可通過切削澆鑄的定渦盤的固定端板而形成，并且然后將該環(huán)形保持件5固定到該保持槽3中。
環(huán)形保持件5可機(jī)械地壓配合進(jìn)保持槽內(nèi)，或者可通過熱配合或冷配合而固定到保持槽3中。
在圖3-14中，與圖2的部件相同的部件具有相同的標(biāo)號(hào)，省略了其說(shuō)明。
圖3示出第二實(shí)施方式，其中環(huán)形保持件5具有在外周表面軸向延伸的不平坦部6。
圖4示出第三實(shí)施方式，其中環(huán)形保持件5具有在外周表面的周向不平坦部7。
圖5示出第四實(shí)施方式，其中環(huán)形保持件5在外周表面徑向地具有槽8。多個(gè)槽8均具有底部。
圖6示出第五實(shí)施方式，其中環(huán)形保持件5具有沿固定端板1的徑向的通孔9。
圖7示出第六實(shí)施方式，其中環(huán)形保持件5具有朝向保持槽3的底部逐漸變厚的側(cè)壁。
圖8示出第七實(shí)施方式，其中環(huán)形突起10從環(huán)形保持件5的外周表面徑向地形成。
圖9示出第八實(shí)施方式，其中在定渦盤的固定端板1的防塵密封槽4的內(nèi)側(cè)表面上固定有由熱傳導(dǎo)率小于固定端板1的金屬制成的環(huán)形件11。該環(huán)形件11可通過機(jī)械裝置壓配合或者通過澆鑄附接在防塵密封槽4的低壓力側(cè)表面上。
圖10示出第九實(shí)施方式，其中通過鍍制(plating)或者熱噴涂將熱傳導(dǎo)率低于固定端板的金屬附接在防塵密封槽4的低壓力側(cè)表面上以形成環(huán)形壓力接收表面12。
圖11示出第十實(shí)施方式，其中在由熱傳導(dǎo)率低于渦盤的端板的金屬制成的環(huán)形件的內(nèi)周表面上形成有不平坦部13。
圖12示出第十一實(shí)施方式，其中環(huán)形件11包括朝向防塵密封槽4的底部逐漸變厚的部分14。
圖13示出第十二實(shí)施方式，其中環(huán)形件11具有向內(nèi)突起15。
圖14示出第十三實(shí)施方式，其中環(huán)形件11具有向外突起16，其形成防塵密封槽4的底部壁。
前述僅涉及本發(fā)明的實(shí)施方式。在不偏離此處的權(quán)利要求的保護(hù)范圍的情況下，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可進(jìn)行各種變化和修改。
權(quán)利要求
1.一種渦旋流體設(shè)備，包括定渦盤，其具有固定端板；和動(dòng)渦盤，其具有繞動(dòng)端板，在所述定渦盤和/或所述動(dòng)渦盤的外周邊附近形成有防塵密封槽，在所述防塵密封槽中配合有環(huán)形保持件，所述環(huán)形保持件由熱傳導(dǎo)率低于所述渦盤材料的熱傳導(dǎo)率的材料制成，并且所述環(huán)形保持件具有槽，在該槽中配合有防塵密封件。
2.如權(quán)利要求1所述的渦旋流體設(shè)備，其中，當(dāng)所述渦盤被澆鑄時(shí)，所述環(huán)形保持件與所述渦盤一起被澆鑄。
3.如權(quán)利要求1所述的渦旋流體設(shè)備，其中，所述環(huán)形保持件固定在所述防塵密封槽中。
4.如權(quán)利要求1所述的渦旋流體設(shè)備，其中，所述環(huán)形保持件壓配合在所述防塵密封槽中。
5.如權(quán)利要求3所述的渦旋流體設(shè)備，其中，所述環(huán)形保持件由于熱膨脹率的差異而配合在所述防塵密封槽中。
6.如權(quán)利要求1所述的渦旋流體設(shè)備，其中，所述定渦盤和所述動(dòng)渦盤由鋁或者鋁合金制成，所述環(huán)形保持件由鋼制成。
7.如權(quán)利要求1所述的渦旋流體設(shè)備，其中，在所述環(huán)形保持件的外周表面上軸向地形成有不平坦部。
8.如權(quán)利要求1所述的渦旋流體設(shè)備，其中，在所述環(huán)形保持件的外周表面上周向地形成有不平坦部。
9.如權(quán)利要求1所述的渦旋流體設(shè)備，其中，在所述環(huán)形保持件的外周表面上徑向地形成有槽。
10.如權(quán)利要求1所述的渦旋流體設(shè)備，其中，孔穿過所述環(huán)形保持件的底部壁。
11.如權(quán)利要求1所述的渦旋流體設(shè)備，其中，所述環(huán)形保持件的側(cè)壁朝向底部變厚。
12.如權(quán)利要求1所述的渦旋流體設(shè)備，其中，在所述環(huán)形保持件的底部處設(shè)置有徑向突起。
13.一種渦旋流體設(shè)備，包括定渦盤，其具有固定端板；和動(dòng)渦盤，其具有繞動(dòng)端板，在接近所述定渦盤和/或所述動(dòng)渦盤的外周邊形成有防塵密封槽，在所述防塵密封槽的內(nèi)周表面上形成有環(huán)形件，所述環(huán)形件由熱傳導(dǎo)率低于所述渦盤材料的熱傳導(dǎo)率的金屬制成。
14.如權(quán)利要求13所述的渦旋流體設(shè)備，其中，所述環(huán)形件通過鍍制形成。
15.如權(quán)利要求13所述的渦旋流體設(shè)備，其中，所述環(huán)形件通過熱噴涂形成。
16.如權(quán)利要求13所述的渦旋流體設(shè)備，其中，所述環(huán)形件具有不平坦部。
17.如權(quán)利要求13所述的渦旋流體設(shè)備，其中，所述環(huán)形件朝向所述防塵密封槽的底部逐漸變厚。
全文摘要
一種渦旋流體設(shè)備包括定渦盤和動(dòng)渦盤，該動(dòng)渦盤與該定渦盤相接合以在該定渦盤和動(dòng)渦盤之間形成壓縮室。在該定渦盤和/或動(dòng)渦盤的外周部的附近設(shè)置有環(huán)形防塵槽。在該槽中配合有防塵密封件以防止氣體進(jìn)入該壓縮室中或者防止氣體從該壓縮室向外泄露。在該防塵密封槽中設(shè)置有環(huán)形保持件或者環(huán)形件以防止熱量傳遞到該防塵密封件。
文檔編號(hào)F04C18/02GK101042138SQ200710090049
公開日2007年9月26日 申請(qǐng)日期2007年3月21日 優(yōu)先權(quán)日2006年3月23日
發(fā)明者石川秀俊, 藤岡完, 土屋勝 申請(qǐng)人:阿耐思特巖田株式會(huì)社