專利名稱:升降式真空破壞閥的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本實(shí)用新型涉及一種閥門,具體地指一種升降式真空破壞閥。
背景技術(shù):
在管道系統(tǒng)中,當(dāng)系統(tǒng)運(yùn)行壓力發(fā)生突變或停止運(yùn)行時,往往會產(chǎn)生負(fù)壓,造成回流污染。因此,相關(guān)國家標(biāo)準(zhǔn)均要求采取措施防止回流污染的產(chǎn)生,其中真空破壞閥是防止此類回流污染的主要措施之一。但現(xiàn)有真空破壞閥吸氣量小,不能快速響應(yīng)負(fù)壓快速吸氣,從而不能瞬時破壞系統(tǒng)內(nèi)真空,導(dǎo)致回流污染;而且因結(jié)垢等原因,常出現(xiàn)密封卡阻現(xiàn)象。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是針對上述問題提供一種升降式真空破壞閥,該閥能快速響應(yīng)負(fù)壓、快速吸氣,且吸氣量大,密封可靠的同時開關(guān)無卡阻。為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型采用的方案是:一種真空破壞閥,包括閥體,所述閥體的上端設(shè)有閥座,所述閥座的頂端設(shè)有閥蓋,所述閥座與閥蓋間設(shè)有進(jìn)氣口,所述閥座上固定連有自密封副結(jié)構(gòu),所述閥體內(nèi)頂端設(shè)有上導(dǎo)向座,所述閥體內(nèi)底端設(shè)有下導(dǎo)向座,所述上導(dǎo)向座和下導(dǎo)向座間滑動連有導(dǎo)向軸,所述導(dǎo)向軸上設(shè)有閥瓣,所述閥瓣與所述下導(dǎo)向座間的導(dǎo)向軸上套有彈簧。本實(shí)用新型采用可以適應(yīng)高、低壓密封環(huán)境的自密封副結(jié)構(gòu),該自密封副結(jié)構(gòu)使得閥門低壓密封時需要的密封比壓很低,進(jìn)而用于關(guān)閉閥門的彈簧壓力很小,從而實(shí)現(xiàn)了當(dāng)管線出現(xiàn)負(fù)壓時閥門能迅速響應(yīng)負(fù)壓,快速大量吸氣,徹底消除管線真空;自密封副結(jié)構(gòu)強(qiáng)度高,承壓性好,避免了在管線高壓時被損壞影響低壓密封性能;本實(shí)用新型通過導(dǎo)向軸和上、下導(dǎo)向座的滑動配合實(shí)現(xiàn)了上、下雙向?qū)颍渲校蠈?dǎo)向?yàn)榫軐?dǎo)向,下導(dǎo)向?yàn)榉蔷軐?dǎo)向,有效實(shí)現(xiàn)了閥瓣與閥座之間的密封接觸,并且避免了導(dǎo)向軸因?yàn)榻Y(jié)垢等原因引起的卡阻現(xiàn)象;本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡單緊湊,故障率小。進(jìn)一步地,所述自密封副結(jié)構(gòu)為橡膠密封圈,其外周固定在所述閥座的內(nèi)壁上,其內(nèi)周上部設(shè)有環(huán)形錐面,其內(nèi)周下部設(shè)有環(huán)形凸塊,所述環(huán)形凸塊與所述環(huán)形錐面之間開有環(huán)形凹槽。該自密封副結(jié)構(gòu)在環(huán)形凸塊與其上端的環(huán)形凹槽的配合作用下可以實(shí)現(xiàn)高、低壓密封,具有良好的自密封特性,錐面密封可以有效修正加工及裝配偏差;真空度達(dá)到-0.002MPa時閥門開啟,在0.02MPa正壓力下就可實(shí)現(xiàn)低壓密封,在一定范圍定,正壓力越大密封性越好。再進(jìn)一步地,所述閥瓣的外周呈錐面狀。閥瓣的外周錐面與自密封副結(jié)構(gòu)的環(huán)形錐面相配合,實(shí)現(xiàn)錐面密封,而自密封副結(jié)構(gòu)內(nèi)側(cè)下部的環(huán)形凸塊抵在閥瓣的外周錐面上,實(shí)現(xiàn)自密封。更進(jìn)一步地,所述彈簧上端頂托所述閥瓣的底面,所述彈簧下端固定在所述下導(dǎo)向座上。通過彈簧的壓緊與回位實(shí)現(xiàn)導(dǎo)向軸的上下滑動,從而實(shí)現(xiàn)閥瓣的上下移動,使閥門關(guān)閉或開啟。
圖1為升降式真空破壞閥的正剖結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為圖1中閥瓣與自密封副結(jié)構(gòu)密封處的放大結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步的詳細(xì)說明,便于更清楚地了解本實(shí)用新型,但它們不對本實(shí)用新型構(gòu)成限定。如圖1所示,本升降式真空破壞閥,包括閥體1,所述閥體I的上端設(shè)有閥座2,所述閥座2的頂端設(shè)有閥蓋3,所述閥座2與閥蓋3間設(shè)有進(jìn)氣口 4,所述閥座2上固定連有自密封副結(jié)構(gòu)5,該自密封副結(jié)構(gòu)5為一橡膠密封圈,自密封副結(jié)構(gòu)5的外周固定在所述閥座
2的內(nèi)壁上,自密封副結(jié)構(gòu)5的內(nèi)周上部設(shè)有環(huán)形錐面501,其內(nèi)周下部設(shè)有環(huán)形凸塊502,所述環(huán)形凸塊502與所述環(huán)形錐面501之間開有環(huán)形凹槽503 (如圖2),所述閥體I內(nèi)頂端設(shè)有上導(dǎo)向座6,所述閥體I內(nèi)底端設(shè)有下導(dǎo)向座7,所述上導(dǎo)向座6和下導(dǎo)向座7間滑動連有導(dǎo)向軸8,所述導(dǎo)向軸8上設(shè)有閥瓣9,閥瓣9的外周面呈錐面,閥瓣9下方的導(dǎo)向軸8上套有彈簧10,彈簧10的上端頂托所述閥瓣9的底面,彈簧10的下端固定在所述下導(dǎo)向座7上。本實(shí)用新型的工作過程如下:正常情況下,彈簧10頂托閥瓣9,使閥門處于關(guān)閉狀態(tài),此時,環(huán)形凸塊502被擠壓變形向其上端的環(huán)形凹槽503內(nèi)擴(kuò)展,使得自密封副結(jié)構(gòu)5實(shí)現(xiàn)良好的自密封性能,而彈簧10的壓力則很小,在0.02MPa正壓力下就可實(shí)現(xiàn)低壓密封;當(dāng)管線排水或其他原因?qū)е鹿艿莱霈F(xiàn)負(fù)壓,真空度達(dá)到-0.002MPa時,因之前彈簧10壓縮形變量小,可迅速響應(yīng)真空,使得閥瓣9被外界大氣壓推壓迅速下降,閥門開啟,大量吸氣,從而破壞管道真空、消除管道負(fù)壓,以防止管道凹裂損壞,而上、下雙向?qū)蛐问较啾葌鹘y(tǒng)的單向?qū)蛎芊飧煽?,能保障閥門的開啟或關(guān)閉無卡阻。
權(quán)利要求1.一種真空破壞閥,包括閥體(I),所述閥體(I)的上端設(shè)有閥座(2),所述閥座(2)的頂端設(shè)有閥蓋(3),所述閥座⑵與閥蓋(3)間設(shè)有進(jìn)氣口(4),其特征在于:所述閥座(2)上固定連有自密封副結(jié)構(gòu)(5),所述閥體⑴內(nèi)頂端設(shè)有上導(dǎo)向座(6),所述閥體⑴內(nèi)底端設(shè)有下導(dǎo)向座(7),所述上導(dǎo)向座(6)和下導(dǎo)向座(7)間滑動連有導(dǎo)向軸(8),所述導(dǎo)向軸⑶上設(shè)有閥瓣(9),所述閥瓣(9)與所述下導(dǎo)向座(7)間的導(dǎo)向軸⑶上套有彈簧(10)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空破壞閥,其特征在于:所述自密封副結(jié)構(gòu)(5)為橡膠密封圈,其外周固定在所述閥座(2)的內(nèi)壁上,其內(nèi)周上部設(shè)有環(huán)形錐面(501),其內(nèi)周下部設(shè)有環(huán)形凸塊(502),所述環(huán)形凸塊(502)與所述環(huán)形錐面(501)之間開有環(huán)形凹槽(503)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空破壞閥,其特征在于:所述閥瓣(9)的外周呈錐面狀。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空破壞閥,其特征在于:所述彈簧(10)上端頂托所述閥瓣(9)的底面,所述彈簧(10)下端固定在所述下導(dǎo)向座(7)上。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種升降式真空破壞閥,包括閥體,所述閥體的上端設(shè)有閥座,所述閥座的頂端設(shè)有閥蓋,所述閥座與閥蓋間設(shè)有進(jìn)氣口,所述閥座上固定連有自密封副結(jié)構(gòu),所述閥體內(nèi)頂端設(shè)有上導(dǎo)向座,所述閥體內(nèi)底端設(shè)有下導(dǎo)向座,所述上導(dǎo)向座和下導(dǎo)向座間滑動連有導(dǎo)向軸,所述導(dǎo)向軸上設(shè)有閥瓣,所述閥瓣與所述下導(dǎo)向座間的導(dǎo)向軸上套有彈簧。本實(shí)用新型能快速響應(yīng)負(fù)壓快速吸氣,且吸氣量大,能迅速徹底地消除管線真空;上、下兩端雙導(dǎo)向結(jié)構(gòu)確保閥門可靠密封同時實(shí)現(xiàn)了閥門可靠開啟或關(guān)閉無卡阻;本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡單緊湊,故障率小。
文檔編號F16K17/04GK203023558SQ20122070855
公開日2013年6月26日 申請日期2012年12月20日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月20日
發(fā)明者李習(xí)洪, 何銳 申請人:武漢大禹閥門股份有限公司