本發(fā)明涉及顯示裝置制程領(lǐng)域,尤其涉及一種閥門關(guān)閉裝置及閥門關(guān)閉方法。
背景技術(shù):
薄膜晶體管(thinfilmtransistor,tft)是目前液晶顯示裝置(liquidcrystaldisplay,lcd)和有機(jī)電致發(fā)光顯示裝置(organiclight-emittingdiode,amoled)中的主要驅(qū)動(dòng)元件,直接關(guān)系到高性能平板顯示裝置的發(fā)展方向。因此,不論是lcd的顯示面板,還是oled的顯示面板,通常都具有一tft基板。以lcd的顯示面板為例,其主要是由一tft基板、一彩色濾光片(colorfilter,cf)基板、以及配置于tft基板和cf基板間的液晶層(liquidcrystallayer)所構(gòu)成,其工作原理是通過在tft基板與cf基板上施加驅(qū)動(dòng)電壓來控制液晶層中液晶分子的旋轉(zhuǎn),將背光模組的光線折射出來產(chǎn)生畫面。
目前,薄膜制程技術(shù)廣泛應(yīng)用于lcd和oled上,由于利用薄膜制程技術(shù)所生產(chǎn)的產(chǎn)品具有很高附加價(jià)值,使薄膜制程技術(shù)與薄膜材料被廣泛應(yīng)用于研究和實(shí)際,同時(shí)帶來鍍膜技術(shù)的迅速發(fā)展。通常,鍍膜方法主要包括離子鍍膜法、射頻磁控濺鍍、真空蒸發(fā)法、化學(xué)氣相沉積法等。隨著人們對(duì)視覺效果越來越高的要求,tft基板上的線路愈發(fā)密集,因而需要對(duì)鍍膜過程中產(chǎn)生的顆粒(particle)進(jìn)行更嚴(yán)格的控制,防止顆粒對(duì)tft基板產(chǎn)生不良影響。
現(xiàn)有改善顆粒的方式主要為通過閥門關(guān)閉裝置控制鍍膜設(shè)備閥門的開關(guān)動(dòng)作,在閥門閉合的瞬間進(jìn)行降速,防止閥門閉合時(shí)碰撞產(chǎn)生顆粒進(jìn)入到鍍膜設(shè)備中。如圖1所示為現(xiàn)有的閥門關(guān)閉裝置,包括:中空的外殼100、貫穿所述外殼100底部的進(jìn)氣口200、露置于外殼100頂部且一端伸入外殼100內(nèi)的傳動(dòng)裝置300,閥門需要關(guān)閉時(shí),向所述進(jìn)氣口200通入氣體帶動(dòng)傳動(dòng)裝置300向上移動(dòng),從而關(guān)閉閥門,在閥門剛開始關(guān)閉時(shí)使進(jìn)氣口200的進(jìn)氣速率大,而在閥門即將完全閉合時(shí)降低進(jìn)氣口200的進(jìn)氣速率,從而使鍍膜設(shè)備閥門降速閉合,另一種現(xiàn)有的閥門關(guān)閉裝置,在圖1所示的閥門關(guān)閉裝置的基礎(chǔ)上,于外殼100底部設(shè)置多個(gè)連接不同管徑的氣管的進(jìn)氣口200,在閥門剛開始關(guān)閉時(shí)利用大管徑的氣管進(jìn)氣,而在閥門即將完全閉合時(shí)利用小管徑的氣管進(jìn)氣,從而使鍍膜設(shè)備閥門降速閉合,然而這兩種閥門關(guān)閉裝置均是對(duì)進(jìn)氣口200進(jìn)行節(jié)流,為了保證閥門閉合時(shí)不會(huì)因碰撞產(chǎn)生顆粒,需要較長的緩沖距離和時(shí)間才能實(shí)現(xiàn)閥門降速閉合,閥門的關(guān)閉速率低,會(huì)對(duì)生產(chǎn)時(shí)間(tacttime)造成一定的負(fù)面影響,降低生產(chǎn)速率,提高生產(chǎn)成本。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明的目的在于提供一種閥門關(guān)閉裝置,能夠在保證閥門關(guān)閉速率的同時(shí)避免閥門閉合時(shí)因碰撞產(chǎn)生顆粒,提升產(chǎn)品品質(zhì)。
本發(fā)明的目的還在于提供一種閥門關(guān)閉方法,能夠在保證閥門關(guān)閉速率的同時(shí)避免閥門閉合時(shí)因碰撞產(chǎn)生顆粒,提升產(chǎn)品品質(zhì)。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供一種閥門關(guān)閉裝置,包括:中空的外殼、貫穿所述外殼底部的第一進(jìn)氣口、設(shè)于所述外殼內(nèi)周面上的抵擋部、貫穿所述外殼側(cè)壁且位于抵擋部上方的第二進(jìn)氣口、位于抵擋部與外殼底部之間的密封盤、露置于外殼頂部且一端伸入外殼內(nèi)的傳動(dòng)裝置;所述傳動(dòng)裝置伸入外殼內(nèi)的一端與外殼內(nèi)周面配合且位于外殼頂部與抵擋部之間;所述密封盤與外殼內(nèi)周面配合;
所述第一進(jìn)氣口用于通入流量為第一流量的氣體,推動(dòng)密封盤向上移動(dòng)至抵擋于所述抵擋部同時(shí)推動(dòng)傳動(dòng)裝置伸入外殼內(nèi)的一端向上移動(dòng)至第二進(jìn)氣口上方的第一位置;所述第二進(jìn)氣口用于通入流量為第二流量的氣體,推動(dòng)傳動(dòng)裝置伸入外殼內(nèi)的一端從第一位置向上移動(dòng);所述第一流量大于第二流量;
所述傳動(dòng)裝置用于向上移動(dòng)帶動(dòng)閥門關(guān)閉。
所述外殼為氣缸。
所述傳動(dòng)裝置包括貫穿外殼頂部的傳動(dòng)桿、及設(shè)于傳動(dòng)桿伸入外殼內(nèi)一端的活塞;所述活塞與外殼內(nèi)周面配合。
所述抵擋部的數(shù)量為2個(gè),該兩個(gè)抵擋部下表面與外殼底部之間的距離相等。
所述密封盤上表面設(shè)有推進(jìn)桿,所述推進(jìn)桿的長度大于第二進(jìn)氣口與抵擋部下表面之間的距離。
本發(fā)明還提供一種閥門關(guān)閉方法,包括如下步驟:
步驟1、提供一閥門關(guān)閉裝置;
所述閥門關(guān)閉裝置包括:中空的外殼、貫穿所述外殼底部的第一進(jìn)氣口、設(shè)于所述外殼內(nèi)周面上的抵擋部、貫穿所述外殼側(cè)壁且位于抵擋部上方的第二進(jìn)氣口、位于抵擋部與外殼底部之間的密封盤、露置于外殼頂部且一端伸入外殼內(nèi)的傳動(dòng)裝置;所述傳動(dòng)裝置伸入外殼內(nèi)的一端與外殼內(nèi)周面配合且位于外殼頂部與抵擋部之間;所述密封盤與外殼內(nèi)周面配合;
步驟2、向第一進(jìn)氣口通入流量為第一流量的氣體,推動(dòng)密封盤向上移動(dòng)至抵擋于所述抵擋部的同時(shí)推動(dòng)傳動(dòng)裝置伸入外殼內(nèi)的一端向上移動(dòng)至第二進(jìn)氣口上方的第一位置,傳動(dòng)裝置向上移動(dòng)帶動(dòng)閥門關(guān)閉;
步驟3、向第二進(jìn)氣口通入流量為第二流量的氣體,推動(dòng)傳動(dòng)裝置伸入外殼內(nèi)的一端從第一位置向上移動(dòng),傳動(dòng)裝置向上移動(dòng)帶動(dòng)閥門關(guān)閉直至閥門完全閉合;
第二流量小于第一流量。
所述外殼為氣缸。
所述傳動(dòng)裝置包括貫穿外殼頂部的傳動(dòng)桿、及設(shè)于傳動(dòng)桿伸入外殼內(nèi)一端的活塞;所述活塞與外殼內(nèi)周面配合。
所述抵擋部的數(shù)量為2個(gè),該兩個(gè)抵擋部下表面與外殼底部之間的距離相等。
所述密封盤上表面設(shè)有推進(jìn)桿,所述推進(jìn)桿的長度大于第二進(jìn)氣口與抵擋部下表面之間的距離。
本發(fā)明的有益效果:本發(fā)明的閥門關(guān)閉裝置,包括外殼、貫穿外殼底部的第一進(jìn)氣口、設(shè)于外殼內(nèi)周面上的抵擋部、貫穿外殼側(cè)壁且位于抵擋部上方的第二進(jìn)氣口、位于抵擋部與外殼底部之間的密封盤、露置于外殼頂部且一端伸入外殼內(nèi)的傳動(dòng)裝置;通過向第一進(jìn)氣口通入流量為第一流量的氣體,推動(dòng)密封盤向上移動(dòng)至抵擋于所述抵擋部的同時(shí)推動(dòng)傳動(dòng)裝置伸入外殼內(nèi)的一端向上移動(dòng)至第二進(jìn)氣口上方的第一位置,帶動(dòng)閥門快速關(guān)閉,之后向第二進(jìn)氣口通入流量為第二流量的氣體,推動(dòng)傳動(dòng)裝置伸入外殼內(nèi)的一端從第一位置繼續(xù)向上移動(dòng),帶動(dòng)閥門緩慢關(guān)閉直至完全閉合,保證閥門關(guān)閉速率的同時(shí)避免閥門閉合時(shí)因碰撞產(chǎn)生顆粒,提升產(chǎn)品品質(zhì)。本發(fā)明的閥門關(guān)閉方法,能夠在保證閥門關(guān)閉速率的同時(shí)避免閥門閉合時(shí)因碰撞產(chǎn)生顆粒,提升產(chǎn)品品質(zhì)。
附圖說明
為了能更進(jìn)一步了解本發(fā)明的特征以及技術(shù)內(nèi)容,請(qǐng)參閱以下有關(guān)本發(fā)明的詳細(xì)說明與附圖,然而附圖僅提供參考與說明用,并非用來對(duì)本發(fā)明加以限制。
附圖中,
圖1為現(xiàn)有的閥門關(guān)閉裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本發(fā)明的閥門關(guān)閉裝置的第一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3為本發(fā)明的閥門關(guān)閉裝置的第二實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖4為本發(fā)明的閥門關(guān)閉方法的流程圖。
具體實(shí)施方式
為更進(jìn)一步闡述本發(fā)明所采取的技術(shù)手段及其效果,以下結(jié)合本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例及其附圖進(jìn)行詳細(xì)描述。
請(qǐng)參閱圖2,為本發(fā)明的閥門關(guān)閉裝置的第一實(shí)施例,本發(fā)明的閥門關(guān)閉裝置用于使真空鍍膜設(shè)備的閥門關(guān)閉,包括:中空的外殼10、貫穿所述外殼10底部的第一進(jìn)氣口20、設(shè)于所述外殼10內(nèi)周面上的抵擋部30、貫穿所述外殼10側(cè)壁且位于抵擋部30上方的第二進(jìn)氣口40、位于抵擋部30與外殼10底部之間的密封盤50、露置于外殼10頂部且一端伸入外殼10內(nèi)的傳動(dòng)裝置60;所述傳動(dòng)裝置60伸入外殼10內(nèi)的一端與外殼10內(nèi)周面配合且位于外殼10頂部與抵擋部30之間;所述密封盤50與外殼10內(nèi)周面配合;
所述第一進(jìn)氣口20用于通入流量為第一流量的氣體,推動(dòng)密封盤50向上移動(dòng)至抵擋于所述抵擋部30同時(shí)推動(dòng)傳動(dòng)裝置60伸入外殼10內(nèi)的一端向上移動(dòng)至第二進(jìn)氣口40上方的第一位置;所述第二進(jìn)氣口40用于通入流量為第二流量的氣體,推動(dòng)傳動(dòng)裝置60伸入外殼10內(nèi)的一端從第一位置向上移動(dòng);所述第一流量大于第二流量;
所述傳動(dòng)裝置60用于向上移動(dòng)帶動(dòng)閥門關(guān)閉。
需要說明的是,本發(fā)明的閥門關(guān)閉裝置在工作時(shí),先通過第一進(jìn)氣口20通入流量為第一流量的氣體,流量為第一流量的氣體推動(dòng)密封盤50向上移動(dòng),壓縮密封盤50與傳動(dòng)裝置60伸入外殼10內(nèi)的一端之間的氣體,使傳動(dòng)裝置60也向上移動(dòng),傳動(dòng)裝置60向上移動(dòng)帶動(dòng)閥門關(guān)閉,當(dāng)密封盤50移動(dòng)至抵擋于所述抵擋部30時(shí),傳動(dòng)裝置60伸入外殼10內(nèi)的一端移動(dòng)至第二進(jìn)氣口40上方的第一位置,此時(shí),向第二進(jìn)氣口40內(nèi)通入流量為第二流量的氣體,該流量為第二流量的氣體通入外殼10、密封盤50、傳動(dòng)裝置60伸入外殼10內(nèi)的一端所圍的腔體內(nèi),由于密封盤50下方氣體的作用,密封盤50保持抵擋于抵擋部30,流量為第二流量的氣體能夠推動(dòng)傳動(dòng)裝置60伸入外殼10內(nèi)的一端從第一位置繼續(xù)向上移動(dòng),繼續(xù)帶動(dòng)閥門關(guān)閉,直至閥門完全閉合,且由于第一流量大于第二流量,使得傳動(dòng)裝置60伸入外殼10內(nèi)的一端上升至第一位置之前的速度大于其從第一位置繼續(xù)向上移動(dòng)的速度,從而使該傳動(dòng)裝置60帶動(dòng)閥門關(guān)閉時(shí),在剛開始關(guān)閉時(shí)速度快,而在閥門即將完全閉合時(shí)速度降低,無需設(shè)置較長的緩沖距離和時(shí)間即可實(shí)現(xiàn)閥門降速閉合,能夠保證閥門的關(guān)閉速率,實(shí)現(xiàn)對(duì)生產(chǎn)時(shí)間影響的最小化,同時(shí)能夠防止閥門閉合時(shí)因碰撞產(chǎn)生顆粒,提升產(chǎn)品的品質(zhì)。
具體地,所述第一進(jìn)氣口20接入管徑較大的氣管,所述第二進(jìn)氣口40接入管徑較小的氣管,以實(shí)現(xiàn)所述第一流量大于第二流量;或者,
使所述第一進(jìn)氣口20的進(jìn)氣速率大于第二進(jìn)氣口40的進(jìn)氣速率,以實(shí)現(xiàn)所述第一流量大于第二流量。
具體地,所述外殼10為氣缸。
具體地,所述傳動(dòng)裝置60包括貫穿外殼10頂部的傳動(dòng)桿61、及設(shè)于傳動(dòng)桿61伸入外殼10內(nèi)一端的活塞62;所述活塞62與外殼10內(nèi)周面配合。
具體地,所述抵擋部30的數(shù)量為2個(gè),該兩個(gè)抵擋部30下表面與外殼10底部之間的距離相等。當(dāng)然,所述抵擋部30的數(shù)量也可大于2個(gè),以更好地對(duì)密封盤50進(jìn)行限位,進(jìn)一步地,所述抵擋部30還可為環(huán)狀結(jié)構(gòu)。
具體地,請(qǐng)參閱圖3,為本發(fā)明的閥門關(guān)閉裝置的第二實(shí)施例,該實(shí)施例與上述第一實(shí)施例的區(qū)別在于,所述密封盤50上表面設(shè)有推進(jìn)桿51,所述推進(jìn)桿51的長度大于第二進(jìn)氣口40與抵擋部30下表面之間的距離。
需要說明的是,通過設(shè)置長度大于第二進(jìn)氣口40與抵擋部30下表面之間的距離的推進(jìn)桿51,使密封盤50與傳動(dòng)裝置60伸入外殼10內(nèi)的一端之間的距離至少為第二進(jìn)氣口40與抵擋部30下表面之間的距離,確保當(dāng)密封盤50移動(dòng)至抵擋于所述抵擋部30時(shí)傳動(dòng)裝置60伸入外殼10內(nèi)的一端能夠位于第二進(jìn)氣口40的上方。
請(qǐng)參閱圖4,基于上述閥門關(guān)閉裝置,本發(fā)明還提供一種閥門關(guān)閉方法,包括如下步驟:
步驟1、請(qǐng)參閱圖2,提供一閥門關(guān)閉裝置;
所述閥門關(guān)閉裝置包括:中空的外殼10、貫穿所述外殼10底部的第一進(jìn)氣口20、設(shè)于所述外殼10內(nèi)周面上的抵擋部30、貫穿所述外殼10側(cè)壁且位于抵擋部30上方的第二進(jìn)氣口40、位于抵擋部30與外殼10底部之間的密封盤50、露置于外殼10頂部且一端伸入外殼10內(nèi)的傳動(dòng)裝置60;所述傳動(dòng)裝置60伸入外殼10內(nèi)的一端與外殼10內(nèi)周面配合且位于外殼10頂部與抵擋部30之間;所述密封盤50與外殼10內(nèi)周面配合。
具體地,所述外殼10為氣缸。
具體地,所述傳動(dòng)裝置60包括貫穿外殼10頂部的傳動(dòng)桿61、及設(shè)于傳動(dòng)桿61伸入外殼10內(nèi)一端的活塞62;所述活塞62與外殼10內(nèi)周面配合。
具體地,所述抵擋部30的數(shù)量為2個(gè),該兩個(gè)抵擋部30下表面與外殼10底部之間的距離相等。當(dāng)然,所述抵擋部30的數(shù)量也可大于2個(gè),以更好地對(duì)密封盤50進(jìn)行限位,進(jìn)一步地,所述抵擋部30還可為環(huán)狀結(jié)構(gòu)。
可選地,請(qǐng)參閱圖3,所述密封盤50上表面設(shè)有推進(jìn)桿51,所述推進(jìn)桿51的長度大于第二進(jìn)氣口40與抵擋部30下表面之間的距離。
步驟2、向第一進(jìn)氣口20通入流量為第一流量的氣體,推動(dòng)密封盤50向上移動(dòng)至抵擋于所述抵擋部30的同時(shí)推動(dòng)傳動(dòng)裝置60伸入外殼10內(nèi)的一端向上移動(dòng)至第二進(jìn)氣口40上方的第一位置,傳動(dòng)裝置60向上移動(dòng)帶動(dòng)閥門關(guān)閉。
步驟3、向第二進(jìn)氣口40通入流量為第二流量的氣體,推動(dòng)傳動(dòng)裝置60伸入外殼10內(nèi)的一端從第一位置向上移動(dòng),傳動(dòng)裝置60向上移動(dòng)帶動(dòng)閥門關(guān)閉直至閥門完全閉合;
第二流量小于第一流量。
需要說明的是,由于第二流量小于第一流量,使得傳動(dòng)裝置60伸入外殼10內(nèi)的一端上升至第一位置之前的速度也即步驟2中傳動(dòng)裝置60向上移動(dòng)的速度大于傳動(dòng)裝置60伸入外殼10內(nèi)的一端從第一位置繼續(xù)向上移動(dòng)的速度也即步驟3中傳動(dòng)裝置60向上移動(dòng)的速度,從而使該傳動(dòng)裝置60帶動(dòng)閥門關(guān)閉時(shí),在剛開始關(guān)閉時(shí)速度快,而在閥門即將完全閉合時(shí)速度降低,無需設(shè)置較長的緩沖距離和時(shí)間即可實(shí)現(xiàn)閥門降速閉合,能夠保證閥門的關(guān)閉速率,實(shí)現(xiàn)對(duì)生產(chǎn)時(shí)間影響的最小化,同時(shí)能夠防止閥門閉合時(shí)因碰撞產(chǎn)生顆粒,提升產(chǎn)品的品質(zhì)。
具體地,所述第一進(jìn)氣口20接入管徑較大的氣管,所述第二進(jìn)氣口40接入管徑較小的氣管,以實(shí)現(xiàn)所述第一流量大于第二流量;或者,
使所述第一進(jìn)氣口20的進(jìn)氣速率大于第二進(jìn)氣口40的進(jìn)氣速率,以實(shí)現(xiàn)所述第一流量大于第二流量。
綜上所述,本發(fā)明的閥門關(guān)閉裝置,包括外殼、貫穿外殼底部的第一進(jìn)氣口、設(shè)于外殼內(nèi)周面上的抵擋部、貫穿外殼側(cè)壁且位于抵擋部上方的第二進(jìn)氣口、位于抵擋部與外殼底部之間的密封盤、露置于外殼頂部且一端伸入外殼內(nèi)的傳動(dòng)裝置;通過向第一進(jìn)氣口通入流量為第一流量的氣體,推動(dòng)密封盤向上移動(dòng)至抵擋于所述抵擋部的同時(shí)推動(dòng)傳動(dòng)裝置伸入外殼內(nèi)的一端向上移動(dòng)至第二進(jìn)氣口上方的第一位置,帶動(dòng)閥門快速關(guān)閉,之后向第二進(jìn)氣口通入流量為第二流量的氣體,推動(dòng)傳動(dòng)裝置伸入外殼內(nèi)的一端從第一位置繼續(xù)向上移動(dòng),帶動(dòng)閥門緩慢關(guān)閉直至完全閉合,保證閥門關(guān)閉速率的同時(shí)避免閥門閉合時(shí)因碰撞產(chǎn)生顆粒,提升產(chǎn)品品質(zhì)。本發(fā)明的閥門關(guān)閉方法,能夠在保證閥門關(guān)閉速率的同時(shí)避免閥門閉合時(shí)因碰撞產(chǎn)生顆粒,提升產(chǎn)品品質(zhì)。
以上所述,對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,可以根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案和技術(shù)構(gòu)思作出其他各種相應(yīng)的改變和變形,而所有這些改變和變形都應(yīng)屬于本發(fā)明后附的權(quán)利要求的保護(hù)范圍。