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      回轉(zhuǎn)支承密封裝置的制造方法

      文檔序號:8819304閱讀:352來源:國知局
      回轉(zhuǎn)支承密封裝置的制造方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本實用新型涉及一種回轉(zhuǎn)支承密封裝置。
      【背景技術(shù)】
      [0002]在回轉(zhuǎn)支承及軸承的內(nèi)外圈之間需要用密封裝置密封,一方面是為了保持回轉(zhuǎn)支承或軸承內(nèi)部的潤滑脂(油)在使用中不會流失,保證回轉(zhuǎn)支承或軸承處于潤滑狀態(tài),另一方面是為了保護回轉(zhuǎn)支承或軸承外界的塵?;蛴泻怏w不會進入回轉(zhuǎn)支承或軸承內(nèi)腔,以防對回轉(zhuǎn)支承或軸承造成損傷。
      [0003]目前,如圖1所示,回轉(zhuǎn)支承及軸承中的密封裝置是在回轉(zhuǎn)支承或軸承的內(nèi)圈I上加工一個縱切面為長方形的環(huán)形卡槽11 ',在外圈2上加工一個縱切面為長方形的環(huán)形卡槽21',密封圈3'的本體31'卡入卡槽11 '和卡槽21'內(nèi),密封圈3'的下唇32'與外圈2或內(nèi)圈I的表面緊密配合,來保證密封性。但是,這樣的密封圈是使用過程中經(jīng)常會從卡槽內(nèi)脫落,為了解決密封圈脫落的問題,現(xiàn)在很多密封圈的本體上都設(shè)置了鋸齒狀凸起來增大與卡槽內(nèi)壁的摩擦力。但這種結(jié)構(gòu)在使用時,時間久了還會從卡槽內(nèi)脫落,給回轉(zhuǎn)支承及軸承造成損害。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0004]為解決目前回轉(zhuǎn)支承中密封圈容易脫落的問題,本實用新型提供了一種不會脫落的回轉(zhuǎn)支承密封裝置。
      [0005]為解決上述問題,本實用新型采用以下技術(shù)方案:一種回轉(zhuǎn)支承密封裝置,包括密封圈和回轉(zhuǎn)支承內(nèi)圈和外圈上的卡槽,所述密封圈包括密封圈本體和下唇,其特征在于,沿所述密封圈本體的上表面和/或下表面設(shè)置有凸肩,并在所述凸肩下方設(shè)置有空腔;在所述卡槽的上表面和/或下表面設(shè)置有與所述凸肩相配合的凹槽I。
      [0006]優(yōu)選的,所述空腔為位于本體內(nèi)的密封空腔。更進一步的,所述空腔為橢圓形或方形。
      [0007]優(yōu)選的,所述空腔的一側(cè)開口。
      [0008]優(yōu)選的,所述凸肩位于所述密封圈本體的上表面,所述下唇的上表面在下唇與密封圈本體相交處逐漸向上壟起,與凸肩之間形成凹槽II。
      [0009]本實用新型的有益效果是:它通過對內(nèi)外圈上的卡槽結(jié)構(gòu)與密封圈本體上的凸肩緊密配合,保證了在使用過程中密封圈不會脫落;而且,空腔的設(shè)置使密封圈本體在向卡槽里插入時非常省力;下唇的上表面在下唇與密封圈本體相交處逐漸向上壟起的結(jié)構(gòu)進一步增大了下唇向下的彎力,提高了密封性能。
      【附圖說明】
      [0010]圖1是現(xiàn)有技術(shù)中密封圈與回轉(zhuǎn)軸承內(nèi)外圈配合結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0011]圖2是本實用新型回轉(zhuǎn)軸承內(nèi)外圈上的卡槽結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0012]圖3是本實用新型密封圈的第一實施例結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0013]圖4是本實用新型密封圈的第二實施例結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0014]圖5是本實用新型密封圈的第三實施例結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0015]圖6是本實用新型密封圈的第四實施例結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0016]圖7是本實用新型密封圈與回轉(zhuǎn)軸承裝配結(jié)構(gòu)示意圖。
      [0017]圖中:1內(nèi)圈、卡槽、11卡槽、111凹槽1、2外圈、2^卡槽、21卡槽、211凹槽1、3'密封圈、31 '密封圈本體、32 '下唇、3密封圈、31密封圈本體、311凸肩、312密封空腔、313開口空腔、32下唇、321壟起部、33凹槽II。
      【具體實施方式】
      [0018]本實用新型在密封圈的本體上設(shè)置凸肩,在回轉(zhuǎn)支承內(nèi)圈和外圈的卡槽21內(nèi)設(shè)置有與凸肩配合的凹槽,保證了密封圈不會在使用過程中脫落。
      [0019]下面結(jié)合附圖及具體實施例對本實用新型進行詳細的描述:
      [0020]如圖3所示,本實用新型的密封圈3包括密封圈本體31和下唇32,沿所述密封圈本體31的上表面和下表面分別設(shè)置有凸肩311,或者只在密封圈本體31的上表面或下表面設(shè)置一個凸肩311,并在所述凸肩311下方設(shè)置有空腔。優(yōu)選的,所述凸肩311位于所述密封圈本體31的上表面,所述下唇32的上表面在下唇32與密封圈本體31相交處逐漸向上壟起,形成壟起部321,壟起部321與凸肩311之間形成凹槽II 33,這樣的設(shè)計會使密封圈的下唇32在收到向上的作用力時,其向下彎曲的反作用力更大,提高了密封性能;而且,看不到內(nèi)圈和外圈卡槽的邊緣,比較美觀。如圖4所示,所述下唇32的上表面在下唇32與密封圈本體31相交處并沒有壟起,而是一個水平面,這種設(shè)計方式也可。
      [0021]如圖2所示,本實用新型設(shè)置在回轉(zhuǎn)支承內(nèi)圈I上的卡槽11和外圈2上的卡槽21內(nèi)均設(shè)置有與凸肩311配合的凹槽I 111和凹槽I 211。
      [0022]如圖3和圖4所示,所述空腔為位于密封圈本體31內(nèi)的密封空腔312。優(yōu)選的,為了容易壓下凸肩311,所述密封空腔312的縱截面為橢圓形,當然也可以采用方形。
      [0023]如圖5和圖6所示,所述空腔是一側(cè)開口的開口空腔313。
      [0024]如圖7所示,密封圈與回轉(zhuǎn)軸承裝配示意圖,為了方便示意,在該圖上采用了兩種密封圈,上方的密封圈采用有壟起部的結(jié)構(gòu),下方的采用無壟起部321的結(jié)構(gòu),對于圖5和圖6中兩種結(jié)構(gòu),沒有畫出其使用狀態(tài)圖。在安裝時,直接用力推密封圈,由于凸肩311下方為空腔,可以被壓扁,因此很容易就能將密封圈本體31推進卡槽內(nèi),凸肩311進入卡槽后,凸肩311下方的空腔復(fù)位,凸肩311被彈起,卡入凹槽I中。
      [0025]以上所述結(jié)合附圖對本實用新型的優(yōu)選實施方式和實施例作了詳述,但是本實用新型并不局限于上述實施方式和實施例,對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,在不脫離本實用新型構(gòu)思的前提下,還可以做出其它若干改進和變型,這些改進和變型也應(yīng)視為本實用新型的保護范圍。
      【主權(quán)項】
      1.一種回轉(zhuǎn)支承密封裝置,包括密封圈和回轉(zhuǎn)支承內(nèi)圈和外圈上的卡槽,所述密封圈包括密封圈本體和下唇,其特征在于,沿所述密封圈本體的上表面和/或下表面設(shè)置有凸肩,并在所述凸肩下方設(shè)置有空腔;在所述卡槽的上表面和/或下表面設(shè)置有與所述凸肩相配合的凹槽I。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的回轉(zhuǎn)支承密封裝置,其特征在于,所述空腔為位于本體內(nèi)的密封空腔。
      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的回轉(zhuǎn)支承密封裝置,其特征在于,所述空腔為橢圓形或方形。
      4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的回轉(zhuǎn)支承密封裝置,其特征在于,所述空腔的一側(cè)開口。
      5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的回轉(zhuǎn)支承密封裝置,其特征在于,所述凸肩位于所述密封圈本體的上表面,所述下唇的上表面在下唇與密封圈本體相交處逐漸向上壟起,與凸肩之間形成凹槽II。
      【專利摘要】回轉(zhuǎn)支承密封裝置,包括密封圈和回轉(zhuǎn)支撐內(nèi)圈和外圈上的卡槽,密封圈包括密封圈本體和下唇,沿密封圈本體的上表面和/或下表面設(shè)置有凸肩,并在凸肩下方設(shè)置有空腔;在卡槽的上表面和/或下表面設(shè)置有與所述凸肩相配合的凹槽Ⅰ;優(yōu)選的,空腔為位于本體內(nèi)的橢圓形密封空腔;在下唇與密封圈本體相交處有壟起部,與凸肩之間形成凹槽Ⅱ。本實用新型通過對內(nèi)外圈上的卡槽結(jié)構(gòu)與密封圈本體上的凸肩緊密配合,保證了在使用過程中密封圈不會脫落;而且,空腔的設(shè)置使密封圈本體在向卡槽里插入時非常省力;下唇的上表面在下唇與密封圈本體相交處逐漸向上壟起的結(jié)構(gòu)進一步增大了下唇向下的彎力,提高了密封性能。
      【IPC分類】F16C33-72, F16C33-78
      【公開號】CN204533218
      【申請?zhí)枴緾N201520230196
      【發(fā)明人】王克友
      【申請人】臨沂晉安機械有限公司
      【公開日】2015年8月5日
      【申請日】2015年4月16日
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