專利名稱：探針基板及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于探查液晶板等的探針基板及其制造方法。
背景技術(shù)：
以往，人們公知用于探查液晶板等的探針基板的各種形式，作為其代表例有，例如日本特許第2974214號(hào)所公開(kāi)的探針基板，即，在絕緣基材上以規(guī)定圖案形成的多個(gè)導(dǎo)線整個(gè)長(zhǎng)度方向的一端側(cè)基材上，形成防止上述導(dǎo)線脫落的絕緣樹(shù)脂層的探針基板。
但是，利用上述以往例子，存在以下問(wèn)題。
該公知的探針基板即使在相鄰導(dǎo)線之間的空間部分的槽中形成和導(dǎo)線厚度方向同一水平(同一高度)的絕緣樹(shù)脂層，來(lái)防止導(dǎo)線脫落，而能一定程度地提高導(dǎo)線的脫落強(qiáng)度，也很難將其充分提高。
眾所周知，形成在探針基板上的導(dǎo)線是以微小(例如15μm-25μm)線寬度配置的，又要求其和基板的粘附強(qiáng)度高到能承受檢查時(shí)壓接所引起的劃痕和拉開(kāi)等，但像上述的公知探針基板，以和導(dǎo)線厚度方向同一水平(同一高度)形成絕緣樹(shù)脂層時(shí)，因?qū)Ь€厚度微小(例如，5μm-10μm)很難將導(dǎo)線和絕緣樹(shù)脂層的接觸面積擴(kuò)大，即使能一定程度地將導(dǎo)線的脫落強(qiáng)度提高，也很難充分將其增強(qiáng)。
使探針壓接液晶板等檢查對(duì)象物重復(fù)檢查時(shí)，導(dǎo)線上會(huì)附著灰塵以發(fā)生和檢查對(duì)象物接觸不良(導(dǎo)通不良)，必要時(shí)要進(jìn)行清洗，但此時(shí)，浸漬乙醇和異丙醇等溶劑的棉棒向多方向移動(dòng)進(jìn)行清洗時(shí)，易發(fā)生導(dǎo)線脫落，特別在使棉棒垂直導(dǎo)線組移動(dòng)清洗時(shí)，此現(xiàn)象更為明顯。
本發(fā)明鑒于上述缺點(diǎn)而完成。本發(fā)明的目的是提供一種探針基板及其制造方法，該探針基板具有較高的導(dǎo)線脫落強(qiáng)度以能充分承受檢查時(shí)所產(chǎn)生的劃痕和拉開(kāi)等，同時(shí)還能充分承受用乙醇和異丙醇等溶劑所進(jìn)行的清洗。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的探針基板為絕緣基材上以規(guī)定圖案形成多個(gè)導(dǎo)線的整個(gè)長(zhǎng)度方向的兩端中的至少一端側(cè)基材上，形成防止上述導(dǎo)線脫落的絕緣樹(shù)脂層的探針基板，其特征在于，在上述導(dǎo)線一端形成臺(tái)階部分且形成能覆蓋上述臺(tái)階部分的上述絕緣樹(shù)脂層。
根據(jù)本發(fā)明的探針基板，導(dǎo)線一端形成臺(tái)階部分，形成覆蓋該臺(tái)階部分的絕緣樹(shù)脂層使導(dǎo)線牢固地固定在絕緣樹(shù)脂層。由此，變?yōu)榫哂心艹浞殖惺軝z查時(shí)所產(chǎn)生的劃痕和拉開(kāi)等，同時(shí)也能充分承受用乙醇和異丙醇等溶劑所進(jìn)行的清洗的導(dǎo)線的探針基板。
另外，本發(fā)明的探針基板的制造方法具有如下的特征為在絕緣基材的至少一端側(cè)上形成絕緣樹(shù)脂層形成用的空間部分，利用加法或減法在上述絕緣基材上以規(guī)定圖案形成多個(gè)下層導(dǎo)線的下層導(dǎo)線形成工序；將絕緣樹(shù)脂液涂布在上述絕緣基材的整個(gè)表面以覆蓋上述下層導(dǎo)線，干燥后，用光掩模進(jìn)行紫外線曝光及顯像，形成只覆蓋上述下層導(dǎo)線一端的絕緣樹(shù)脂層的絕緣樹(shù)脂層形成工序；在上述下層導(dǎo)線的外露部分，用鍍膜法層積上層導(dǎo)線形成上端面和上述的絕緣樹(shù)脂層同高或位于上述絕緣樹(shù)脂層上方的導(dǎo)線的上層導(dǎo)線形成工序。
根據(jù)本發(fā)明的探針基板的制造方法，利用加法或減法在上述絕緣基材上以規(guī)定圖案形成多個(gè)下層導(dǎo)線之后，以在絕緣基材至少一端側(cè)上形成絕緣樹(shù)脂層形成用的空間部分；之后將絕緣樹(shù)脂液涂布在上述絕緣基材整個(gè)表面，使其干燥以復(fù)蓋下層導(dǎo)線。下面，通過(guò)用光掩模的紫外線曝光及顯像，形成只覆蓋上述下層導(dǎo)線一端的絕緣樹(shù)脂層，在上述下層導(dǎo)線的外露部分，經(jīng)鍍膜法積層上層導(dǎo)線，形成上端面和上述的絕緣樹(shù)脂層同高或位于上述絕緣樹(shù)脂層上方的導(dǎo)線。通過(guò)這樣的制造方法，可制得探針基板，較好實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的探針基板。
本發(fā)明的探針基板及其制造方法較好的一例是利用絕緣樹(shù)脂覆蓋導(dǎo)線整個(gè)長(zhǎng)度方向的中間部分。對(duì)于該導(dǎo)線中間部分的覆蓋面積無(wú)特別限制，例如，較好達(dá)到導(dǎo)線兩端部都外露的程度。導(dǎo)線覆蓋面積擴(kuò)大，則導(dǎo)線很難脫落。
用于探針基板的絕緣基材的一例為樹(shù)脂薄膜和板狀材料，作為樹(shù)脂薄膜可用聚酰亞胺薄膜。即，因其絕緣性良好。
在上述絕緣基材上，作為能形成防止導(dǎo)線脫落用的絕緣樹(shù)脂層，適合用感光性的丙烯酸樹(shù)脂或感光性的聚酰亞胺樹(shù)脂，同時(shí)，作為感光性的丙烯酸樹(shù)脂，可用感光性熱固化型耐熱丙烯酸樹(shù)脂表面涂層涂料(cover coat ink)，而作為感光性聚酰亞胺樹(shù)脂，適合用感光性聚酰亞胺樹(shù)脂前體溶液。這些絕緣樹(shù)脂因具有感光性，所以可在熱處理前進(jìn)行曝光，且曝光后，經(jīng)熱處理而固化，可形成精度良好的絕緣樹(shù)脂層。


圖1是本發(fā)明的探針基板的平面圖。
圖2是表示導(dǎo)線及絕緣樹(shù)脂層的形成形態(tài)的立體圖。
圖3是表示探針基板制造工序的圖，分別表示步驟a-f的下層導(dǎo)線的形成工序；步驟g，h的絕緣樹(shù)脂層形成工序；步驟i的上層導(dǎo)線形成工序。
圖4為圖3的右視圖。
圖5為圖4步驟i的Z-Z的截面圖。
圖6是上層導(dǎo)線外露圖案的變形例的示意圖。
圖7是上層導(dǎo)線外露圖案的變形例的示意圖。
圖8是上層導(dǎo)線外露圖案的變形例的示意圖。
具體實(shí)施例方式
以下為解決以往問(wèn)題的方式。
參照附圖，就本發(fā)明的一實(shí)施例進(jìn)行說(shuō)明。在圖1中，表示本發(fā)明探針基板俯視的樣子，該探針基板是在絕緣基材1上，以一定間隔形成多個(gè)導(dǎo)線2，并且以絕緣樹(shù)脂層3將導(dǎo)線2整個(gè)長(zhǎng)度方向的一端覆蓋。在立體圖的圖2中，顯示該覆蓋的方式。
在圖2中，在用于在絕緣基材1上形成絕緣樹(shù)脂層的空間部分4上，形成絕緣樹(shù)脂層3以使其覆蓋形成在導(dǎo)線2群每一端的臺(tái)階部分5。另外，導(dǎo)線2由形成在金屬膜6上的下層導(dǎo)線2a和積層于該下層導(dǎo)線2a上的上層導(dǎo)線2b構(gòu)成。而金屬膜6形成在絕緣基材1上。
這樣在絕緣基材1上形成絕緣樹(shù)脂層3以使其將形成于導(dǎo)線2群每一端的臺(tái)階部分5覆蓋。因此，即使對(duì)液晶板等檢查對(duì)象物進(jìn)行壓接，使形成有絕緣樹(shù)脂層3的導(dǎo)線端部保持在導(dǎo)通狀態(tài)，并重復(fù)檢查，也能長(zhǎng)期防止導(dǎo)線2的脫落。并且在此期間，即使需要時(shí)用乙醇和異丙醇等溶劑對(duì)形成導(dǎo)線2群的表面進(jìn)行清洗，也同樣能防止導(dǎo)線2的脫落。
圖1及圖2中，7表示無(wú)導(dǎo)線2群形成的空間部分，這里，無(wú)絕緣樹(shù)脂填充。另外，絕緣基材1只要具有絕緣性，可以是薄膜材料和板狀材料等，任何形態(tài)的基材即可。通常用樹(shù)脂薄膜，作為其代表例，可用聚酰亞胺薄膜。另外，既可用熱塑性的聚酰亞胺薄膜，也可用非熱塑性的聚酰亞胺薄膜。作為其他的絕緣基材，例如可用玻璃環(huán)氧基材、玻璃變性環(huán)氧基材、玻璃BT基材等。
另一方面，作為形成絕緣樹(shù)脂層3的樹(shù)脂，可用在熱處理前具有感光性而能曝光顯像的樹(shù)脂。更好用熱處理的閉環(huán)和固化后，至少具有200℃以上的Tg的耐熱性樹(shù)脂且在熱處理前具有感光性而能曝光顯像的樹(shù)脂。可用負(fù)片型、正片型中任一種。作為該樹(shù)脂的代表例，可用感光性聚酰亞胺樹(shù)脂前體溶液和感光性熱固化性耐熱丙烯酸樹(shù)脂表面涂層涂料。
對(duì)于上述探針基板的制造，例如，如制造工序中的探針基板的正面3及圖3的右視圖的圖4所示，經(jīng)步驟a-f的下層導(dǎo)線形成工序10、步驟g、h的絕緣樹(shù)脂層形成工序11和步驟i的上層導(dǎo)線形成工序12而制得。
在下層導(dǎo)線形成工序10中，如圖3的步驟f及圖4的步驟f所示，在絕緣基材1上利用加法將多個(gè)下層導(dǎo)線2a形成為規(guī)定圖案以使絕緣基材1的一端側(cè)形成絕緣樹(shù)脂層形成用的空間部分4。
此時(shí)，首先，如圖3的步驟a及圖4的步驟a所示，沿著絕緣基材1的整個(gè)長(zhǎng)度形成例如銅膜等金屬膜6。這可用濺射和銅箔粘合等適當(dāng)?shù)姆椒▉?lái)形成。
下面，如圖3的步驟b及圖4的步驟b所示，在金屬膜6上，涂布例如紫外線固化型感光性樹(shù)脂的抗電鍍膜(plating resist)8。
接下來(lái)，照射紫外線到抗電鍍膜8上，曝光顯像，如圖3的步驟c所示，形成抗電鍍膜圖案8a，它覆蓋空間部分(無(wú)導(dǎo)線形成的部分)的金屬膜6，同時(shí)使線部分(形成導(dǎo)線的部分)的金屬膜6外露。
下面，如圖3的步驟d所示，利用加法，例如電鍍鎳等將下層導(dǎo)線2a形成在線部分的金屬膜6上，同時(shí)此后，如圖3步驟e所示用堿將抗電鍍膜8剝離。
如圖3的步驟f所示，利用例如規(guī)定濃度的鹽酸對(duì)空間部分的金屬膜6進(jìn)行蝕刻，將其除去，同時(shí)也將絕緣樹(shù)脂層形成用的空間部分4蝕刻除去。
接著移動(dòng)到絕緣樹(shù)脂層形成工序11，在該絕緣樹(shù)脂層形成工序11中，如圖4的步驟h所示，在絕緣樹(shù)脂層形成用的空間部分4上形成絕緣樹(shù)脂層3。
此時(shí)，如圖3的步驟g及圖4的步驟g所示，涂布絕緣樹(shù)脂液3a在整個(gè)絕緣基材1的上面以覆蓋下層導(dǎo)線2a群，即，由此，絕緣樹(shù)脂液填充在絕緣樹(shù)脂層形成用的空間部分及無(wú)下層導(dǎo)線2群形成的空間部分7上。
對(duì)于這種絕緣樹(shù)脂液，適合用感光性丙烯酸樹(shù)脂液或感光性聚酰亞胺樹(shù)脂液，更為具體的是，適合用感光性聚酰亞胺樹(shù)脂前體溶液和感光性熱固化型耐熱丙烯酸樹(shù)脂表面涂層涂料。
下面，經(jīng)用光掩模的紫外線曝光及顯像，形成只覆蓋下層導(dǎo)線2a一端的絕緣樹(shù)脂層3。另外，在該狀態(tài)，在空間部分7無(wú)絕緣樹(shù)脂填充。再者，下層導(dǎo)線2a的上端面位于比絕緣樹(shù)脂層3的上端面低的下方。
接著，移到上層導(dǎo)線形成工序12。在該上層導(dǎo)線形成工序12中，利用電鍍法將上層導(dǎo)線2b群積層于下層導(dǎo)線2a群的外露部分上。由此，導(dǎo)線2群的上端面位于比絕緣樹(shù)脂層3的上端面高的上方。
這樣因形成只覆蓋下層導(dǎo)線2a一端的絕緣樹(shù)脂層3，且將上層導(dǎo)線2b群層積于下層導(dǎo)線2a群的外露部分上，所以就可形成位于導(dǎo)線2群的臺(tái)階部分5(參照?qǐng)D2)。另外，如圖5所示，圖5為圖4步驟i的Z-Z截面圖，因下層導(dǎo)線2a及金屬膜6被上層導(dǎo)線2b所覆蓋，所以即使是微細(xì)的導(dǎo)線2，其強(qiáng)度也較大。
以上，雖然就一實(shí)施例進(jìn)行了敘述，但本發(fā)明中，也可以和上述不同，利用電鍍法將上層導(dǎo)線2b層積于下層導(dǎo)線2a的外露部分上，以同一高度將導(dǎo)線2上端面和絕緣樹(shù)脂層3相配置。另外，也可以利用銅箔蝕刻等減法來(lái)形成下層導(dǎo)線2a。
對(duì)于絕緣樹(shù)脂層3的形成，不一定只在絕緣基材1的一端側(cè)形成，需要時(shí)也可以在對(duì)面的另一端形成。另外，對(duì)于導(dǎo)線2群的形成圖案也可以是例如八字形、倒八字形等，可形成任何圖案。再者，也可使上層導(dǎo)線2b外露圖案(和檢查對(duì)象物接觸處的圖案)和圖1的圖案不同，配置成如圖6-8所示的圖案。具體地說(shuō)，如圖6所示的門(mén)形圖案、如圖7所示的黑白小格子圖案及如圖8所示的標(biāo)準(zhǔn)形。在這些圖案和空間部分7上，填充有絕緣樹(shù)脂，同時(shí)用絕緣樹(shù)脂2將導(dǎo)線2中間部分2c覆蓋。
這樣，使形成有防止導(dǎo)線脫落用的絕緣樹(shù)脂層3的一端及其對(duì)面的另一端以一定長(zhǎng)度外露的方式，填充覆蓋導(dǎo)線2群的絕緣樹(shù)脂，即也可填充絕緣樹(shù)脂以使導(dǎo)線2群的中間部分2c被完全覆蓋。該填充是在上層導(dǎo)線形成工序12后利用絕緣樹(shù)脂涂布工序來(lái)進(jìn)行的。此外，也可以不覆蓋導(dǎo)線2的中間部分2c，僅將絕緣樹(shù)脂填充在空間部分7上，而此時(shí)較好是進(jìn)行這樣的填充以使樹(shù)脂層的上面形成在比導(dǎo)線2群上端面低的下方。
實(shí)施例1(A)下層導(dǎo)線形成工序基材是由宇部興產(chǎn)株式會(huì)社制造的，厚度為75μm的聚酰亞胺薄膜構(gòu)成。氬氣中將絕緣基材進(jìn)行粗面化處理，改善其粘附性后，利用濺射法在其上形成厚0.3μm的銅膜。
接著，作為抗電鍍膜，以25μm厚度將UV固化型感光性樹(shù)脂「PMER-N」涂布在銅膜上，該樹(shù)脂由東京應(yīng)化株式會(huì)社制造。
再者，進(jìn)行曝光·顯像，形成抗電鍍膜圖案，將空間部分(不形成導(dǎo)線的部分)的銅膜覆蓋，同時(shí)使線部分(形成導(dǎo)線的部分)的銅膜外露。該線部分的寬度為18μm，而空間部分的寬度為47μm。
經(jīng)電鍍鎳在線部分形成厚度大約5μm的鎳導(dǎo)線圖案。接著，用堿將所涂布的抗電鍍膜剝離。
用稀鹽酸軟蝕刻(soft etching)經(jīng)抗電鍍膜剝離而外露的空間部分的銅膜，形成導(dǎo)線寬度為18μm的多個(gè)下層導(dǎo)線。相鄰的下層導(dǎo)線間的空間部分的寬度為47μm。
(B)絕緣樹(shù)脂層形成工序利用輥筒涂布東レ株式會(huì)社制造的感光性聚酰亞胺樹(shù)脂前體溶液(フオトニ一スUR5400)厚度大約為4μm使之能覆蓋導(dǎo)線群，且于整平后，進(jìn)行80℃干燥。
利用光掩模，在距絕緣基材前端大約0.2mm范圍內(nèi)，利用超高壓汞燈曝光機(jī)曝光，再用專用顯像液將除上述的前端部分以外的感光性聚酰亞胺樹(shù)脂進(jìn)行顯像除去。由此，可得到除基材的一端部分以外，導(dǎo)線外露的探針基板。
(C)上層導(dǎo)線形成工序在400℃的真空加熱爐中，對(duì)該基板進(jìn)行感光性聚酰亞胺樹(shù)脂前體的過(guò)熱酰亞胺化后，在外露的下層導(dǎo)線上電鍍鎳，層積厚度大約為5μm的上層導(dǎo)線。由此，就形成上端面位于絕緣樹(shù)脂層上方的導(dǎo)線。
這樣所得的探針基板，因在絕緣基材上形成有絕緣樹(shù)脂層以使其覆蓋形成在導(dǎo)線一端的臺(tái)階部分，所以導(dǎo)線和絕緣基材的附著性足夠，即使使浸漬乙醇和異丙醇等溶劑的棉棒垂直于導(dǎo)線群移動(dòng)，進(jìn)行100次以上的清洗時(shí)，也不發(fā)生導(dǎo)線脫落。
實(shí)施例2(A)下層導(dǎo)線形成工序在三井化學(xué)株式會(huì)社制造的“エツチャ一フレツクス”，即厚度為75μm的聚酰亞胺薄膜上通過(guò)濺射法形成厚度為0.25μm的銅膜的上述銅膜上，層壓粘附作為抗電鍍膜的厚度為15μm的干膜“NIT215”，它是由日合·モ一トン株式會(huì)社制造的UV固化型感光性樹(shù)脂。
進(jìn)行曝光顯像，形成抗電鍍膜圖案，以覆蓋空間部分(不形成導(dǎo)線的部分)的銅膜，同時(shí)使線部分(形成導(dǎo)線的部分)的銅膜外露。該線部分的寬度為18μm，空間部分為47μm。
接著，通過(guò)電鍍鎳，在線部分上形成厚度大約為5μm的鎳導(dǎo)線圖案。經(jīng)堿將所涂布的抗電鍍膜剝離。
用稀鹽酸對(duì)經(jīng)抗電鍍膜剝離而外露的空間部分銅膜進(jìn)行軟蝕刻，形成導(dǎo)線寬度為18μm的多個(gè)下層導(dǎo)線。相鄰的下層導(dǎo)線間的空間部分寬度為47μm。
(B)絕緣樹(shù)脂層形成工序其上利用輥筒涂布新日鐵化學(xué)株式會(huì)社制造的感光性耐熱性丙烯酸樹(shù)脂表面涂層涂料(V-259PA)，厚度大約為4μm使之能覆蓋導(dǎo)線群，進(jìn)行110℃10分鐘的干燥。
利用光掩模，在距絕緣基材前端大約0.2mm范圍內(nèi)，照射300mJ/cm2的紫外線，再用專用顯像液“V-2590D”將除上述前端部分以外的丙烯酸樹(shù)脂進(jìn)行顯像除去。由此，可得到除基材的一端部分以外，導(dǎo)線外露的探針基板。
(C)上層導(dǎo)線形成工序在100℃的加熱爐中，加熱該基板1小時(shí)，使其熱固化后，在外露的下層導(dǎo)線上電鍍鎳，層積厚度大約為5μm的上層導(dǎo)線。由此，就形成上端面位于絕緣樹(shù)脂層上方的導(dǎo)線。
這樣所得的探針基板，因在絕緣基材上形成有絕緣樹(shù)脂層以使其覆蓋形成在導(dǎo)線一端的臺(tái)階部分，所以導(dǎo)線和絕緣基材的附著性足夠，即使使浸漬乙醇和異丙醇等溶劑的棉棒垂直于導(dǎo)線群移動(dòng)，進(jìn)行100次以上的清洗時(shí)，也不發(fā)生導(dǎo)線脫落。
產(chǎn)業(yè)上利用的可能性如上所述的本發(fā)明的探針基板及其制造方法，因?qū)Ь€被絕緣樹(shù)脂層覆蓋，牢固地固定于絕緣基材，很難脫落，所以適合進(jìn)行外加物理性負(fù)荷的檢查和利用溶劑所進(jìn)行的導(dǎo)線清洗。
權(quán)利要求
1.探針基板，它是在絕緣基材上以規(guī)定圖案形成的多個(gè)導(dǎo)線的整個(gè)長(zhǎng)度方向兩端中的至少一端側(cè)基板上，形成防止上述導(dǎo)線脫落的絕緣樹(shù)脂層的探針基板，其特征在于，在上述導(dǎo)線一端形成臺(tái)階部分，且形成覆蓋上述臺(tái)階部分的上述絕緣樹(shù)脂層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的探針基板，其特征在于，還用絕緣樹(shù)脂覆蓋上述導(dǎo)線的整個(gè)長(zhǎng)度方向的中間部分。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的探針基板，其特征在于，上述絕緣基材為樹(shù)脂薄膜。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的探針基板，其特征在于，上述樹(shù)脂薄膜為聚酰亞胺薄膜。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的探針基板，其特征在于，上述絕緣樹(shù)脂層由感光性丙烯酸樹(shù)脂或感光性聚酰亞胺樹(shù)脂構(gòu)成。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的探針基板，其特征在于，上述感光性丙烯酸樹(shù)脂為感光性熱固化型耐熱丙烯酸樹(shù)脂表面涂層涂料固化后的樹(shù)脂。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的探針基板，其特征在于，上述感光性聚酰亞胺樹(shù)脂為感光性聚酰亞胺樹(shù)脂前體溶液固化后的樹(shù)脂。
8.探針基板的制造方法，其特征在于，為在絕緣基材的至少一端側(cè)形成絕緣樹(shù)脂層形成用的空間部分，利用加法或減法在上述絕緣基材上以規(guī)定圖案形成多個(gè)下層導(dǎo)線的下層導(dǎo)線形成工序；為覆蓋上述的下層導(dǎo)線，將絕緣樹(shù)脂液涂布在上述絕緣基材的整個(gè)表面，干燥后，用光掩模進(jìn)行紫外線曝光及顯像，形成只覆蓋上述下層導(dǎo)線一端的絕緣樹(shù)脂層的絕緣樹(shù)脂層形成工序；用鍍膜法將上層導(dǎo)線層積于上述的下層導(dǎo)線的外露部分上，形成上端面和上述絕緣樹(shù)脂層同高或上端面位于上述絕緣樹(shù)脂層上方的導(dǎo)線的上層導(dǎo)線形成工序。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的探針基板的制造方法，其特征在于，上述的上層導(dǎo)線形成工序中具有形成上層導(dǎo)線后，用絕緣樹(shù)脂覆蓋上述導(dǎo)線整個(gè)長(zhǎng)度方向中間部分的絕緣樹(shù)脂涂布工序。
10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的探針基板的制造方法，其特征在于，上述絕緣基材為樹(shù)脂薄膜。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的探針基板的制造方法，其特征在于，上述樹(shù)脂薄膜為聚酰亞胺薄膜。
12.根據(jù)權(quán)利要求8-11中任一項(xiàng)所述的探針基板的制造方法，其特征在于，上述絕緣樹(shù)脂液為感光性丙烯酸樹(shù)脂液或感光性聚酰亞胺樹(shù)脂液。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的探針基板的制造方法，其特征在于，上述感光性丙烯酸樹(shù)脂液為感光性熱固化型耐熱丙烯酸樹(shù)脂表面涂層涂料。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的探針基板的制造方法，其特征在于，上述感光性聚酰亞胺樹(shù)脂液為感光性聚酰亞胺樹(shù)脂前體溶液。
全文摘要
本發(fā)明的探針基板為在以規(guī)定圖案形成在絕緣基材1(例如樹(shù)脂薄膜)上的多個(gè)導(dǎo)線2的各端形成臺(tái)階部分5，同時(shí)在絕緣基材1上形成覆蓋該臺(tái)階部分5的絕緣樹(shù)脂層3。而導(dǎo)線2的上端面位于絕緣樹(shù)脂層3的上方。
文檔編號(hào)G01R1/067GK1500213SQ02807319
公開(kāi)日2004年5月26日 申請(qǐng)日期2002年4月1日 優(yōu)先權(quán)日2001年4月5日
發(fā)明者高瀨太介, 秋田雅典, 上原秀雄, 典, 雄 申請(qǐng)人:東麗工程株式會(huì)社