用于控制填充具有未填充區(qū)域的檢測(cè)器的樹(shù)脂水平的裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種包括基部主體(2)和設(shè)置在所述基部主體(2)上以用樹(shù)脂填充所述基部主體(2)的樹(shù)脂供給器的裝置，其中所述基部主體(2)包括未填充區(qū)域(3)，該區(qū)域在填充完成之后未被樹(shù)脂填充，其中樹(shù)脂供給器包括在基部主體(2)內(nèi)延伸的噴射柱(4)。在填充期間，樹(shù)脂經(jīng)由噴射柱(4)進(jìn)入基部主體(2)的內(nèi)部，噴射柱在基部主體(2)內(nèi)比未填充區(qū)域(3)延伸得更深并直到這樣的距離，該距離被構(gòu)造為使得當(dāng)樹(shù)脂到達(dá)所述噴射柱(4)時(shí)，捕集在基部主體(2)中的空氣在未填充區(qū)域(3)中被壓縮，直至在未填充區(qū)域(3)中的空氣壓力與噴射柱(4)中的樹(shù)脂壓力之間建立平衡，由此填充自動(dòng)停止且未填充區(qū)域(3)不被填充。
【專利說(shuō)明】用于控制填充具有未填充區(qū)域的檢測(cè)器的樹(shù)脂水平的裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及產(chǎn)品，具體地涉及可參數(shù)化檢測(cè)器，該產(chǎn)品的機(jī)械強(qiáng)度和密封通過(guò)用樹(shù)脂填充它們的基部主體而得到加強(qiáng)。更準(zhǔn)確地說(shuō)，本發(fā)明涉及用樹(shù)脂填充主體，可優(yōu)選地通過(guò)所謂的“離心處理”技術(shù)進(jìn)行填充，所述主體包括未填充區(qū)域，即未被埋入樹(shù)脂中的區(qū)域，典型地是因?yàn)樗ㄓ须娮硬考１景l(fā)明的裝置由此允許填充這樣的主體且所述填充自動(dòng)地停止，以便未填充區(qū)域有效地不被填充樹(shù)脂。
【背景技術(shù)】
[0002]在已知的方式中，諸如可參數(shù)化檢測(cè)器的產(chǎn)品的基部主體被嵌入在樹(shù)脂中，以保證高的機(jī)械強(qiáng)度并且對(duì)它們進(jìn)行密封。在這里，非可參數(shù)化產(chǎn)品通常被總體上填充樹(shù)脂，而在可參數(shù)化產(chǎn)品-它們的基部主體中包括有電子部件-發(fā)光二極管、調(diào)節(jié)部件、開(kāi)關(guān)-的情形中，噴射的樹(shù)脂在任何情況下必需不能接觸到所述電子部件。
[0003]但是，已知的填充技術(shù)，并且特別地所述離心填充技術(shù),并不能夠自動(dòng)控制基部主體的填充水平。在其中需要用樹(shù)脂填充基部主體的可參數(shù)化產(chǎn)品的情形中，重力填充技術(shù)因此在目前得到使用，該技術(shù)是復(fù)雜且昂貴的，因?yàn)槠浔厝皇仟?dú)特的類型、精密的，且在操作者控制下來(lái)執(zhí)行。
[0004]由此，本發(fā)明的目的在于提供一種總體上自動(dòng)化的用于填充諸如可參數(shù)化檢測(cè)器的產(chǎn)品的基部主體的方案。因此本發(fā)明涉及用于將樹(shù)脂供給到基部主體的內(nèi)部的裝置，基部主體包括用于將樹(shù)脂引入所述基部主體內(nèi)部的噴射柱，可優(yōu)選地使用離心處理技術(shù)來(lái)引入，所述噴射柱的高度被構(gòu)造為使得樹(shù)脂到基部主體內(nèi)的噴射在某個(gè)水平下自動(dòng)地停止，以便包括有不可接觸到樹(shù)脂的部件的區(qū)域不被填充樹(shù)脂。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]因此，本發(fā)明涉及一種包括基部主體和配合到所述基部主體以用樹(shù)脂填充所述基部主體的樹(shù)脂供給器的裝置，所述基部主體包括未填充區(qū)域，該區(qū)域在填充完成之后未被樹(shù)脂填充，所述基部主體包括位于上端的水平處的開(kāi)口，未填充區(qū)域位于基部主體的所述上端處且在基部主體內(nèi)延伸，所述樹(shù)脂供給器包括噴射柱，所述噴射柱與所述開(kāi)口 一致并且在基部主體內(nèi)延伸，以便在填充期間使樹(shù)脂經(jīng)由噴射柱進(jìn)入基部主體的內(nèi)部,樹(shù)脂供給器的特征在于，噴射柱在所述基部主體內(nèi)比未填充區(qū)域延伸得更深直到這樣的距離，該距離構(gòu)造為使得當(dāng)在填充期間樹(shù)脂到達(dá)所述噴射柱時(shí)，捕集在基部主體中的空氣在未填充區(qū)域中被壓縮直至在未填充區(qū)域中的空氣壓力與噴射柱中的樹(shù)脂壓力之間建立平衡，由此填充自動(dòng)地停止，以便未填充區(qū)域不被填充。
[0006]用樹(shù)脂填充所述基部主體有利地根據(jù)離心處理技術(shù)實(shí)現(xiàn)，以便當(dāng)配合有樹(shù)脂供給器的基部主體受到旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)時(shí)，樹(shù)脂由于離心力的作用而經(jīng)由噴射柱穿透到基部主體的內(nèi)部。
[0007]樹(shù)脂供給器可以有利地進(jìn)一步包括可移動(dòng)的移液管(pipette)，所述移液管能夠連接到噴射柱，以便在填充期間，樹(shù)脂經(jīng)由移液管和噴射柱穿透到基部主體的內(nèi)部。
[0008]在一個(gè)實(shí)施方式中，噴射柱布置在基部主體的質(zhì)塊內(nèi)。
[0009]在另一實(shí)施方式中，噴射柱布置在與基部主體分離的主體中。
[0010]本發(fā)明還涉及一種包括如上所述的基部主體和樹(shù)脂供給器的檢測(cè)器。
[0011 ]在這一檢測(cè)器中，未填充區(qū)域有利地容納電子部件。
[0012]未填充區(qū)域可以容納發(fā)光二極管。
[0013]未填充區(qū)域可以容納通訊裝置。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0014]在以下參考附圖的詳細(xì)說(shuō)明中，其它特征和優(yōu)點(diǎn)將變得清楚，其中:
[0015]圖1是可參數(shù)化檢測(cè)器的基部主體的圖解；
[0016]圖2是與可參數(shù)化檢測(cè)器的基部主體相配合的本發(fā)明的樹(shù)脂供給器的截面圖；
[0017]圖3是已經(jīng)完成樹(shù)脂填充時(shí)的可參數(shù)化檢測(cè)器的基部主體的截面圖。
【具體實(shí)施方式】
[0018]本發(fā)明涉及包括基部主體的裝置，該基部主體設(shè)計(jì)成除未填充區(qū)域之外被樹(shù)脂填充，例如，這是因?yàn)樗菁{有電子部件。本發(fā)明的裝置包括樹(shù)脂供給器，該樹(shù)脂供給器用來(lái)允許適于基部主體的自動(dòng)填充。
[0019]參考圖1，本發(fā)明的裝置表示為可參數(shù)化檢測(cè)器I的形式。如在圖2中能夠看到的，可參數(shù)化檢測(cè)器I包括基部主體2和未填充區(qū)域3。在可參數(shù)化檢測(cè)器的情形中，未填充區(qū)域3典型地包括二極管D、開(kāi)關(guān)或者電子通信部件。
[0020]可參數(shù)化檢測(cè)器I另外包括由噴射柱4和移液管6組成的樹(shù)脂供給器。如先前說(shuō)明的，諸如可參數(shù)化檢測(cè)器I的一些產(chǎn)品需要用樹(shù)脂填充它們的基部主體2，而未填充區(qū)域3不需要填充，以加強(qiáng)它們的機(jī)械強(qiáng)度和它們的密封?；恐黧w2可優(yōu)選地通過(guò)離心處理填充。在這一離心填充技術(shù)中，一組產(chǎn)品水平地布置在離心機(jī)中，并且樹(shù)脂經(jīng)由開(kāi)口 5和在開(kāi)口 5的相反端處被壓靠于基部主體2的底部的噴射柱4進(jìn)入所述產(chǎn)品。離心填充方法是優(yōu)選的，因?yàn)橛捎陔x心力的作用，樹(shù)脂中出現(xiàn)氣泡的可能性極低，而在重力填充的情況中，可能再現(xiàn)有害的這樣的氣泡。
[0021]在任一情況下，無(wú)論采用何種方式用樹(shù)脂填充基部主體2，所述樹(shù)脂經(jīng)由噴射柱4供給到產(chǎn)品中。
[0022]根據(jù)本發(fā)明，為不填充未填充區(qū)域3，基部主體2的填充水平借助于噴射柱4的長(zhǎng)度的適當(dāng)構(gòu)造被相對(duì)于未填充區(qū)域3的容積自動(dòng)地調(diào)整，所述長(zhǎng)度位于基部主體2內(nèi)。因此，當(dāng)填充基部主體2時(shí)，隨著樹(shù)脂進(jìn)入可參數(shù)化檢測(cè)器I中，容納在基部主體2中的空氣被壓縮并且經(jīng)由噴射柱4排空。如圖2所示，噴射柱4的長(zhǎng)度被調(diào)整，以便當(dāng)基部主體2中的樹(shù)脂水平到達(dá)噴射柱4的底部時(shí)，空氣不再能夠逸散并且在位于噴射柱4在基部主體2內(nèi)的端部與基部主體2的整合有開(kāi)口 5的上端之間的未填充區(qū)域3中被壓縮。由于重力的作用，或者可優(yōu)選地由于離心力的作用，樹(shù)脂繼續(xù)深入可參數(shù)化檢測(cè)器I直至未填充區(qū)域3中的空氣壓力和噴射柱4中的樹(shù)脂壓力相等。然后,基部主體2的填充自動(dòng)地停止。
[0023]如圖3所示，在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式中，基部主體2通過(guò)離心處理被填充，而移液管6配合到噴射柱4以完成本發(fā)明的樹(shù)脂供給器，該樹(shù)脂供給器被設(shè)計(jì)用以將樹(shù)脂供給到基部主體2中。
[0024]總而言之，本發(fā)明包括一種包括有待用樹(shù)脂填充的基部主體和未填充區(qū)域的裝置；為允許當(dāng)樹(shù)脂已經(jīng)到達(dá)需要水平時(shí)自動(dòng)地停止填充，本發(fā)明提供了在產(chǎn)品內(nèi)部的噴射柱，該噴射柱的長(zhǎng)度被調(diào)整以便在用樹(shù)脂填充基部主體期間，在樹(shù)脂已經(jīng)到達(dá)所述噴射柱的端部且停止基部主體的填充之后，在樹(shù)脂壓力和位于噴射柱的端部與基部主體的上端之間的未填充區(qū)域中的空氣壓力之間自動(dòng)地獲得平衡。
【權(quán)利要求】
1.一種包括基部主體(2)和配合到所述基部主體以用樹(shù)脂填充所述基部主體(2)的樹(shù)脂供給器的裝置，所述基部主體(2)包括未填充區(qū)域(3)，該區(qū)域在填充完成之后未被樹(shù)脂填充，所述基部主體(2)包括位于上端的水平處的開(kāi)口(5)，所述未填充區(qū)域(3)位于所述基部主體(2)的所述上端處且在所述基部主體(2)內(nèi)部延伸，所述樹(shù)脂供給器包括噴射柱(4)，所述噴射柱與所述開(kāi)口(5) —致并且在所述基部主體(2)內(nèi)部延伸，以便在填充期間使樹(shù)脂經(jīng)由所述噴射柱(4)進(jìn)入所述基部主體(2)的內(nèi)部，所述樹(shù)脂供給器的特征在于，所述噴射柱(4)在所述基部主體(2)內(nèi)部比所述未填充區(qū)域(3)延伸得更深直到這樣的距離，該距離被構(gòu)造為使得當(dāng)在所述填充期間樹(shù)脂到達(dá)所述噴射柱(4)時(shí)，捕集在所述基部主體(2)中的空氣在所述未填充區(qū)域(3)中被壓縮，直至在所述未填充區(qū)域(3)中的空氣壓力與所述噴射柱(4)中的樹(shù)脂壓力之間建立平衡，由此填充自動(dòng)地停止，以便所述未填充區(qū)域(3)不被填充。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，用樹(shù)脂填充所述基部主體(2)根據(jù)離心處理技術(shù)實(shí)現(xiàn)，以便當(dāng)配合有所述樹(shù)脂供給器的所述基部主體(2)受到旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)時(shí)，樹(shù)脂由于離心力的作用而經(jīng)由所述噴射柱(4)穿透到所述基部主體(2)的內(nèi)部。
3.根據(jù)權(quán)利要求1和2中任一項(xiàng)所述的裝置，所述樹(shù)脂供給器進(jìn)一步包括可移動(dòng)的移液管(6)，所述移液管能夠連接到所述噴射柱(4)，以便在填充期間，樹(shù)脂經(jīng)由所述移液管(6)和所述噴射柱(4)穿透到所述基部主體(2)的內(nèi)部。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，所述噴射柱(4)布置在所述基部主體(2)的質(zhì)塊內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，所述噴射柱(4)布置在與所述基部主體(2)分離的主體中。
6.一種包括根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的基部主體(2)和樹(shù)脂供給器的檢測(cè)器。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的檢測(cè)器，其特征在于，所述未填充區(qū)域(3)容納電子部件。
8.根據(jù)權(quán)利要求6和7中任一項(xiàng)所述的檢測(cè)器，其特征在于，所述未填充區(qū)域(3)容納發(fā)光二極管(D)。
9.根據(jù)權(quán)利要求6至8中任一項(xiàng)所述的檢測(cè)器，其特征在于，所述未填充區(qū)域(3)容納通訊裝置。
【文檔編號(hào)】G01D11/24GK103764362SQ201280041877
【公開(kāi)日】2014年4月30日 申請(qǐng)日期:2012年8月23日 優(yōu)先權(quán)日:2011年9月1日
【發(fā)明者】J.蓋勒德拉特, P.多馬琳 申請(qǐng)人:施耐德電器工業(yè)公司