無機(jī)架spect系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】一種無機(jī)架核成像系統(tǒng)(10)對感興趣區(qū)域(ROI)(16)進(jìn)行成像。所述系統(tǒng)(10)包括一個(gè)或多個(gè)輻射探測器(20),所述一個(gè)或多個(gè)輻射探測器生成指示伽馬光子撞擊的位置的輻射數(shù)據(jù)。所述系統(tǒng)包括可重新配置框架(22)和至少一個(gè)處理器(44、48),所述可重新配置框架(22)將所述輻射探測器(20)定位在所述ROI(16)的固定視角處。所述處理器(44、48)接收來自所述輻射探測器(20)的所述輻射數(shù)據(jù),并從接收到的輻射數(shù)據(jù)重建所述ROI(16)的圖像。
【專利說明】無機(jī)架SPECT系統(tǒng)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本申請大體涉及核醫(yī)學(xué)成像。其尤其與單光子發(fā)射計(jì)算機(jī)斷層攝影(SPECT)聯(lián)合 應(yīng)用并將參考其進(jìn)行描述。然而,要理解,本發(fā)明也應(yīng)用于其他使用場景,并且不必須被限 制為前面提及的應(yīng)用。
【背景技術(shù)】
[0002] SPECT是一種核醫(yī)學(xué)成像技術(shù),其采用被注射到患者中的放射性同位素,以對所述 患者的感興趣區(qū)域(R0I)成像。典型地,所述放射性同位素與放射性配體組合,以創(chuàng)建結(jié)合 到特定類型的組織的放射性藥物。所述放射性同位素以可預(yù)測的速率和特征能量經(jīng)歷伽馬 射線衰減。毗鄰所述患者放置一個(gè)或多個(gè)輻射探測器,以監(jiān)測并記錄發(fā)射的輻射。典型地, 所述輻射探測器為閃爍照相機(jī)。
[0003] 閃爍照相機(jī)典型地包括一個(gè)或多個(gè)光電倍增管,其被附接到一個(gè)或多個(gè)平坦閃爍 元件(例如碘化鈉晶體)后部。所述閃爍元件在被伽馬光子撞擊時(shí)生成閃光,并且所述光 電倍增管探測所述閃光的位置和強(qiáng)度。進(jìn)一步地,所述閃爍照相機(jī)典型地包括一個(gè)或多個(gè) 準(zhǔn)直器,其控制每個(gè)閃爍體元件可以從其接收輻射的方向和角展度。這樣的輻射探測器提 供輻射分布的二維圖像。
[0004] 為了獲得三維圖像,繞所述患者對所述輻射探測器進(jìn)行旋轉(zhuǎn)或轉(zhuǎn)位,以監(jiān)測從多 個(gè)角度發(fā)射的輻射,由此創(chuàng)建在不同角度的輻射分布的多個(gè)二維圖像。適當(dāng)?shù)兀捎脵C(jī)架以 支撐并繞患者移動(dòng)所述輻射探測器。使用所創(chuàng)建的二維圖像和對應(yīng)的角度,重建三維圖像。
[0005] 采用傳統(tǒng)SPECT系統(tǒng)的挑戰(zhàn)是由所述輻射探測器產(chǎn)生的,其又大又重。所述輻射 探測器要求限制移動(dòng)性的穩(wěn)定、昂貴的機(jī)架。額外的挑戰(zhàn)是由SPECT系統(tǒng)采用的所述準(zhǔn)直 器產(chǎn)生的。典型地,SPECT系統(tǒng)采用平行孔準(zhǔn)直器和/或其變型,例如扇形束準(zhǔn)直器。這種 準(zhǔn)直器的原理要求旋轉(zhuǎn)機(jī)架和至少一個(gè)探測器,典型為兩個(gè),以獲得針對重建所需要數(shù)目 的視角,這進(jìn)一步限制了移動(dòng)性并增加了成本。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0006] 本申請?zhí)峁┬碌那腋倪M(jìn)的系統(tǒng),其克服了上述問題以及其他問題。
[0007] 根據(jù)一個(gè)方面,一種對感興趣區(qū)域(R0I)進(jìn)行成像的核成像系統(tǒng)。所述系統(tǒng)包括 一個(gè)或多個(gè)輻射探測器,所述一個(gè)或多個(gè)輻射探測器生成指示伽馬光子撞擊的位置的輻射 數(shù)據(jù)。此外,所述系統(tǒng)包括框架和至少一個(gè)處理器,所述框架將所述輻射探測器定位在所述 R0I的固定視角。所述處理器接收來自所述輻射探測器的輻射數(shù)據(jù),并且由接收到的輻射數(shù) 據(jù)重建所述R0I的圖像。
[0008] 根據(jù)另一方面,一種對感興趣區(qū)域(R0I)成像的方法。針對所述R0I的幾何形態(tài) 選擇框架,并且相對于所述R0I布置所述框架,以將一個(gè)或多個(gè)輻射探測器定位在所述R0I 的固定視角。所述輻射探測器生成指示伽馬光子撞擊的位置的輻射數(shù)據(jù)。由至少一個(gè)處理 器收集來自所述輻射探測器的所述輻射數(shù)據(jù),并且由所述處理器從接收到的輻射數(shù)據(jù)重建 所述ROI的圖像。
[0009] -個(gè)優(yōu)點(diǎn)在于用于近場器官聚焦成像的移動(dòng)式且通用的系統(tǒng)。
[0010] 另一優(yōu)點(diǎn)在于改進(jìn)的空間分辨率。
[0011] 另一優(yōu)點(diǎn)在于改進(jìn)的系統(tǒng)靈敏度。
[0012] 另一優(yōu)點(diǎn)在于在介入期間易于患者的進(jìn)入與成像。
[0013] 另一優(yōu)點(diǎn)在于動(dòng)態(tài)成像。
[0014] 本領(lǐng)域技術(shù)人員在閱讀和理解以下詳細(xì)描述時(shí),將認(rèn)識到本發(fā)明還要另外的優(yōu) 點(diǎn)。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0015] 本發(fā)明可以采取各種部件和部件的布置,以及各種步驟和步驟的安排的形式。附 圖僅出于圖示優(yōu)選的實(shí)施例的目的,并且不應(yīng)被解釋為限制本發(fā)明。
[0016] 圖1圖示了無機(jī)架SPECT系統(tǒng),其具有將輻射探測器定位在患者的腦部周圍的框 架。
[0017] 圖2圖示了圖1的框架。
[0018] 圖3圖示了圖1的框架在患者的腦部周圍的定位。
[0019] 圖4圖示了將輻射探測器定位在患者的心臟周圍的框架。
[0020] 圖5圖示了圖4的所述框架在患者的心臟周圍的定位。
[0021] 圖6圖示了可配置框架的范例。
[0022] 圖7圖示了輻射探測器的一種配置。
[0023] 圖8圖示了圖6的輻射探測器的另一種配置。
[0024] 圖9圖示了使用圖1的無機(jī)架SPECT系統(tǒng)對患者成像的方法的方框圖。
【具體實(shí)施方式】
[0025] 本公開提供一種單光子發(fā)射計(jì)算機(jī)斷層攝影(SPECT)系統(tǒng),其不需要固定或旋轉(zhuǎn) 機(jī)架。替代地,所述系統(tǒng)采用被布置在框架中的探測器模塊。所述系統(tǒng)尤其適合以下應(yīng)用, 例如對心臟、腦、甲狀腺、骨、關(guān)節(jié)、韌帶、肌腱、肌肉、神經(jīng)、腎、肺等成像。在成像之前,根據(jù) 感興趣區(qū)域(R0I)的幾何形態(tài)選擇框架,并將其定位在所述R0I上和/或周圍??蚣芸梢?對多個(gè)應(yīng)用是共同的,例如腦與心臟應(yīng)用,或是應(yīng)用特異性的。進(jìn)一步地,在成像期間,探測 器模塊和/或框架的位置適當(dāng)?shù)貫殪o態(tài)的。
[0026] 在一些實(shí)施例中,選擇的框架能夠針對目標(biāo)應(yīng)用進(jìn)行配置。例如,針對腦成像,所 選擇的框架的形狀可以被配置為圓或橢圓。其他形狀包括橢圓、部分圓或橢圓,等等??芍?新配置框架適當(dāng)?shù)赜上矜溡粯颖舜藰休S連接的多個(gè)子框架形成。所述子框架典型地共有共 同的大小和/或形狀,但也預(yù)期不同大小的子框架。不同的形狀包括,例如方形和矩形。 [0027] 在采用子框架的實(shí)施例中,通過將子框架樞接到期望位置,來配置所述框架。然 后,例如用鎖緊機(jī)構(gòu)和/或制動(dòng)機(jī)構(gòu),固定所述子框架相對于彼此的位置??梢允謩?dòng)地和/ 或自動(dòng)地將所述子框架樞接布置到所述期望位置中。對于后者,可以采用電機(jī)和/或致動(dòng) 器等等。也可以通過對所述框架增加和/或從所述框架移除子框架,來調(diào)節(jié)所述框架的所 述形狀。例如,當(dāng)所述R0I小時(shí),可以從框架移除子框架。作為另一個(gè)范例,當(dāng)所述R0I大 時(shí),可以對所述框架增加額外的子框架。
[0028] 在到達(dá)期望位置之后,確定相鄰子框架的角度關(guān)系。這可以手動(dòng)確定,但典型地是 自動(dòng)確定的。在自動(dòng)確定相鄰子框架的角度關(guān)系的實(shí)施例中,可以采用分解器。額外地或 可選地,可以采用電子標(biāo)簽(electrical transponder)或所述框架上的基準(zhǔn)物。
[0029] 參考圖1-圖3, SPECT系統(tǒng)10包括患者支撐體12,例如病床,以支撐患者14?;?者14包括要被系統(tǒng)10成像的R0I16。R0I16的范例包括,但不限于,心臟、腦、甲狀腺、骨、 關(guān)節(jié)、韌帶、肌腱、肌肉、神經(jīng)、腎、肺、腫瘤、病變等等。在成像之前,R0I16被注射一種或多 種放射性同位素,并且患者14被置于患者支撐體12上。這樣的放射性同位素的范例包括, 但不限于Tc-99m、1-131、Ga-67和In-111。在一些實(shí)施例中,所述放射性同位素與放射性 配體組合,以創(chuàng)建放射性藥物,其結(jié)合到特定類型的組織或優(yōu)選被特定類型的組織吸收。
[0030] 系統(tǒng)10的一個(gè)或多個(gè)子框架18支撐系統(tǒng)10的一個(gè)或多個(gè)輻射探測器20 (參見 圖2),用于探測輻射事件,并對R0I16成像,如后文所討論。進(jìn)一步地,子框架18典型地將 輻射探測器20定位在R0I16的不同視角處,以允許圖像重建。例如,如所圖示的,R0I16為 患者14的腦,并且子框架18的框架22將輻射探測器20布置在繞患者14的腦的環(huán)(例如, 192mm寬、1024mm長)中。作為另一個(gè)范例,參考圖4和圖5,R0I16為心臟,并且子框架18 構(gòu)成的另一框架24或處于可重新配置狀態(tài)中的框架22將輻射探測器20布置在繞患者14 的心臟的部分環(huán)中。
[0031] 返回參考圖1-圖3,可以針對一種或多種應(yīng)用采用每個(gè)子框架。例如,針對腦成像 可以采用探測器模塊的寬帶框架,并且針對全身成像可以采用更長更薄的帶框架。在一些 實(shí)施例中,框架是針對一個(gè)或多個(gè)應(yīng)用專門設(shè)計(jì)的。在其他實(shí)施例中,可以根據(jù)需要操縱或 彎曲框架,和/或針對特定應(yīng)用調(diào)整框架的大?。ɡ缤ㄟ^增加子框架)。
[0032] 在一個(gè)范例中,子框架18為像鏈一樣彼此樞軸連接的矩形元件。當(dāng)子框架18被樞 接到選擇的位置時(shí),用鎖或閘固定所述位置。分解器可以測量相鄰子框架的角度關(guān)系。在 另一實(shí)施例中,控制電機(jī)以設(shè)定子框架18的配置。在另一實(shí)施例中,通過連接器連接子框 架18,所述連接器具有由所述連接器限定的固定的角度取向。
[0033] 在圖6中所示的另一范例中,探測器20包括至少兩個(gè)探測器,并且子框架18為所 述探測器邊緣的部分。所述探測器邊緣的相對兩側(cè)具有最少兩個(gè)球形轉(zhuǎn)位器(spherical index) 21和在相對側(cè)上的兩個(gè)磁性接收體23,允許兩個(gè)探測器耦合。球形轉(zhuǎn)位器21和磁 性接收體23在彼此耦合時(shí),允許角度操縱和斷開,用于所述兩個(gè)探測器的儲(chǔ)存??烧{(diào)節(jié)系 桿25維持所述兩個(gè)探測器的角度形狀,所述可調(diào)節(jié)系桿也是可拆卸的。系桿25也可以為 由致動(dòng)器27驅(qū)動(dòng)的電機(jī),其基于選擇的臨床協(xié)議來調(diào)節(jié)探測器20的角度形狀。
[0034] 可以使用公知的技術(shù),從所述框架的形狀,以及相對于R0I16的位置和取向,來確 定輻射探測器20的視角??蚣艿乃鑫恢煤腿∠蚩梢允褂美珉娮訕?biāo)簽或所述框架上的 基準(zhǔn)物來確定,或者由系統(tǒng)10的操作者使用用戶輸入設(shè)備來指定。
[0035] 可以自動(dòng)確定和/或手動(dòng)指定框架的形狀。對于前者,所述框架可以包括一個(gè)或 多個(gè)傳感器26,其生成用于識別所述框架的形狀的數(shù)據(jù)。例如,可以將電磁標(biāo)簽置于所述框 架上(例如在每個(gè)子框架之間)。作為另一個(gè)范例,可以沿長度框架放置光纖,并且可以使 用光纖布拉格光柵(FBG)原理來確定所述光纖以及因此所述框架的形狀。對于后者,系統(tǒng) 10的操作者可以用用戶輸入設(shè)備來指定框架的形狀。典型地,針對可以操縱或彎曲的框架 米用自動(dòng)方法,而針對為應(yīng)用專門設(shè)計(jì)的框架典型地米用手動(dòng)方法。
[0036] 在成像之前,典型地針對R0I16選擇并用患者支撐體12布置框架,使得所述框架 被定位在R0I16上和/或周圍。預(yù)期未在使用中的框架被存儲(chǔ)在患者支撐體12的擋板 (apron)中。典型地,為了將所述框架定位在R0I16上和/或周圍,將所述框架安裝到患者 支撐體12。然而,預(yù)期其他安裝點(diǎn),例如墻壁、天花板、架子等。在所述框架被安裝到患者支 撐體12時(shí),所述框架可以適當(dāng)?shù)乇话惭b在沿患者支撐體12的外周的任意位置,以允許對不 同R0I的成像。在一些實(shí)施例中,這通過沿所述患者支撐體的長度的軌道方便地完成,所述 軌道與所述框架互鎖并且僅允許所述框架選擇性地沿患者支撐體12的長度移動(dòng)。
[0037] 在成像期間,子框架18和/或患者支撐體12典型地是靜止的。不需要旋轉(zhuǎn)機(jī)架 或移動(dòng)患者支撐體。然而,預(yù)期子框架18和/或患者支撐體12可以在成像期間略微樞轉(zhuǎn) 和/或移動(dòng)。例如,可以在成像期間相對于輻射探測器20橫向地和/或垂直地略微移動(dòng)所 述患者,和/或可以在成像期間相對于患者支撐體12橫向地和/或垂直地略微移動(dòng)輻射探 測器20。由于子框架18典型地在成像期間保持靜止,因而子框架18支撐并且輻射探測器 20包括足夠數(shù)目的輻射探測器,以捕獲R0I16的全部視角用于圖像重建。這將取決于R0I16 和圖像重建算法。有利地,框架而非機(jī)架的使用針對某些應(yīng)用降低了成本,并且改進(jìn)了系統(tǒng) 10的移動(dòng)性。
[0038] 輻射探測器20接收由被注射到R0I16中的所述放射性同位素發(fā)射的伽馬光子,并 生成指示所述放射性同位素在R0I16內(nèi)的位置的輻射數(shù)據(jù)。在一些實(shí)施例中,輻射探測器 20為模塊化的并且共有相同的大小和面積(例如32mmX 32mm),以允許將輻射探測器20從 一個(gè)框架移動(dòng)到另一個(gè)。例如,可以通過將輻射探測器20安裝到所述框架,而將輻射探測 器20用于被設(shè)計(jì)用于心臟成像的框架,以及被設(shè)計(jì)用于腦成像的框架。為了將輻射探測器 20固定到子框架18,任意可拆卸地連接輻射探測器20的方法均為合適的。例如,框架20 可以包括軌道,用于可滑動(dòng)地容納輻射探測器20并將輻射探測器20保持在兩側(cè)上。
[0039] 參考圖7和圖8,在一些實(shí)施例中,輻射探測器28包括一個(gè)或多個(gè)閃爍體元件30, 其在被伽馬光子撞擊時(shí)生成閃光。閃光的位置對應(yīng)于伽馬光子撞擊的位置。在一些實(shí)施例 中,閃爍體元件30為像素化的,典型地具有l(wèi)X4mm像素。進(jìn)一步地,在一些實(shí)施例中,閃爍 元件30包括接收由所述放射性同位素發(fā)射的所述伽馬光子的接收面32。在接收面32接收 伽馬光子時(shí),閃爍元件30至少部分地從閃爍元件30的輸出面(未示出)--與接收面32 相反--發(fā)出閃光。閃爍元件的范例包括閃爍體板、個(gè)體閃爍晶體(例如碘化鈉晶體)等 等。在一些實(shí)施例中,閃爍體元件30為像素化的。
[0040] 一個(gè)或多個(gè)光敏元件34感測由閃爍體元件30生成的所述閃光,并且生成指示所 述閃光的位置和強(qiáng)度的輻射數(shù)據(jù)。在一些實(shí)施例中,光敏元件34為像素化的,典型地具 有4X4mm像素。顯著地,光敏元件34的像素典型地大于閃爍體元件30的像素,并且采用 Anger邏輯用于定位閃爍體元件30。進(jìn)一步地,在一些實(shí)施例中,光敏元件34包括接收由 閃爍元件30發(fā)出的所述閃光的接收面36。在這樣的實(shí)施例中,光敏元件34的所述輸出面 和接收面36在光學(xué)上空間相關(guān)。光敏元件34然后通過感測撞擊光敏元件34的接收面36 的閃光的位置,來感測閃光的位置。由于光敏元件34的接收面36在光學(xué)上空間相關(guān),因而 可以使光敏元件34的接收面36上的位置與所述輸出面上對應(yīng)于閃爍體元件30的接收面 32上的位置的位置相關(guān)。
[0041] 預(yù)期用于使光敏元件34的輸出面與接收面36在光學(xué)上空間相關(guān)的任意方法。然 而,適當(dāng)?shù)?,這是通過將光敏元件34的接收面36定位為臨近和/或抵靠所述輸出面來實(shí)現(xiàn) 的。其他方法包括使用光導(dǎo)(例如多個(gè)光管),來將光從光敏元件34的輸出面轉(zhuǎn)移到接收 面36。光管包括例如光纖。Anger邏輯可以被用于定位所述閃爍。
[0042] 在一個(gè)實(shí)施例中,光敏元件34包括數(shù)字或模擬硅光電倍增管(SiPM)。盡管模擬 SiPM可用于本公開,但適當(dāng)?shù)夭捎脭?shù)字SiPM。像素化的閃爍體元件在一個(gè)實(shí)施例中與所述 SiPMl :1稱合。也預(yù)期光敏兀件34可以米用光電倍增管、光電二極管、光電換能器、直接光 子電轉(zhuǎn)換器(亦稱半導(dǎo)體伽馬探測器)--例如半導(dǎo)體晶體、碲鋅鎘(CZT)元件,等等。
[0043] 每個(gè)輻射探測器還包括一個(gè)或多個(gè)準(zhǔn)直器38,其控制所述輻射探測器的每個(gè)閃爍 體元件可以從其接收輻射的方向和角展度。換言之,準(zhǔn)直器38確保閃爍體元件30沿已知 的射線或軌跡接收輻射。典型地,準(zhǔn)直器38包括一個(gè)或多個(gè)開口,其將由所述閃爍體元件 接收的所述輻射限制為穿過所述開口的輻射。準(zhǔn)直器的范例包括針孔、窄條狹縫和扇形束 狹縫。
[0044] 在針孔或條狹縫準(zhǔn)直器(slat-slit collimator)中,所述針孔或窄條狹縫與針孔 相機(jī)功能相似,以將所述輻射聚焦在所述閃爍體元件或固態(tài)探測器陣列上。在窄條狹縫相 機(jī)中,窄條39將輻射軌跡的鋪展或發(fā)散限制在狹縫41的方向中。
[0045] 在一些實(shí)施例中,多個(gè)光敏元件34,例如,一行六個(gè),共用窄條狹縫或扇形束狹縫 準(zhǔn)直器。此外,在一些實(shí)施例中,準(zhǔn)直器38為模塊化的,以允許采用系統(tǒng)10用于不同的成 像技術(shù)。例如,取決于期望的成像技術(shù),可以采用用于SPECT成像或平面成像的準(zhǔn)直器。在 采用模塊化準(zhǔn)直器的實(shí)施例中,可以使用例如機(jī)械緊固件或互鎖凹槽的系統(tǒng),來將準(zhǔn)直器 38固定到它們各自的輻射探測器。
[0046] 在圖7的實(shí)施例中,輻射探測器28包括單個(gè)光敏元件陣列,例如數(shù)字SiPM陣列, 以及單個(gè)閃爍體元件,例如碘化鈉晶體的板。此外,采用單個(gè)條狹縫準(zhǔn)直器,以控制擊中所 述閃爍體元件的伽馬光子的方向和角展度。在圖8的實(shí)施例中,輻射探測器28包括單個(gè)閃 爍體元件和為一行的三個(gè)光敏元件。
[0047] 返回參考圖1-圖3,系統(tǒng)10的數(shù)據(jù)在一段時(shí)間內(nèi)采集處理器40收集針對預(yù)定時(shí) 期來自輻射探測器20中的每個(gè)的輻射數(shù)據(jù)。針對輻射探測器20中的每個(gè),所述輻射數(shù)據(jù) 典型地包括伽馬光子撞擊的能量,以及所述伽馬光子撞擊的對應(yīng)位置。在一些實(shí)施例中,針 對每個(gè)輻射探測器,數(shù)據(jù)采集處理器40使用所述輻射數(shù)據(jù),以在所述輻射探測器的空間范 圍上生成輻射分布。
[0048] 數(shù)據(jù)采集處理器40還接收和/或確定每個(gè)輻射探測器相對于R0I、16的角位置, 并將將所述角位置與所接收輻射數(shù)據(jù)和/或輻射分布相關(guān)。在一些實(shí)施例中,所述輻射探 測器的所述角位置是從輻射探測器20或系統(tǒng)10的其他部件接收的。在其他實(shí)施例中,所 述角位置是從所述框架的形狀以及相對于R0I016的位置和取向來確定的,如上文所討論。
[0049] 所述輻射數(shù)據(jù)和/或所述輻射分布被儲(chǔ)存在系統(tǒng)10的成像42存儲(chǔ)器中。進(jìn)一步 地,與所述輻射數(shù)據(jù)和/或輻射分布相關(guān)的、所述輻射的所述角位置被進(jìn)一步儲(chǔ)存在成像 存儲(chǔ)器42中。系統(tǒng)10的重建處理器44將來自成像數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器42的數(shù)據(jù)處理成三維圖像 表示。在一些實(shí)施例中,這包括從所述輻射數(shù)據(jù),生成在每個(gè)輻射探測器的空間范圍上的輻 射分布。所述圖像表示被儲(chǔ)存在系統(tǒng)10的重建圖像存儲(chǔ)器46中用于后續(xù)使用。例如,所 述三維圖像可以被視頻處理器施用和/或被顯不在顯不器上。
[0050] 盡管未詳細(xì)描述,但是本領(lǐng)域技術(shù)人員將認(rèn)識到,可以通過移除所述準(zhǔn)直器并調(diào) 節(jié)重建算法,來將系統(tǒng)10修改用于正電子發(fā)射斷層攝影(PET)成像。針對這樣的PET成像 的應(yīng)用包括在正電子治療期間的劑量測定控制。進(jìn)一步地,系統(tǒng)10,不管是針對SPECT還是 針對PET成像被采用,可以與計(jì)算機(jī)斷層攝影(CT)、體積成像(XCT)或磁共振(MR)組合用 于多模態(tài)成像,其通過針對兩種應(yīng)用使用僅一個(gè)患者支撐體來進(jìn)行。
[0051] 參考圖9,提供了用于對R0I16成像的方法50。適當(dāng)?shù)?,方?0由系統(tǒng)10的操作 者在至少一個(gè)處理器的輔助下執(zhí)行,所述處理器例如數(shù)據(jù)采集處理器40和/或重建處理器 44,其運(yùn)行被儲(chǔ)存在存儲(chǔ)器(例如成像存儲(chǔ)器42和/或重建圖像存儲(chǔ)器46)上的計(jì)算機(jī)可 執(zhí)行指令。方法50包括針對R0116的幾何形態(tài)選擇52框架。
[0052] 在一些實(shí)施例中,在選擇52所述框架之后,將輻射探測器20安裝54到所述框架。 例如,用所述框架中的軌道將輻射探測器20固定到所述框架。進(jìn)一步地,在一些實(shí)施例中, 被安裝54到所述框架的輻射探測器首先被從所述框架中的另一個(gè)移除56。甚至,在一些實(shí) 施例中,所選擇的框架的形狀被重新配置58為R0I16的幾何形態(tài),和/或基于被用于圖像 重建的成像技術(shù)來選擇60輻射探測器20的準(zhǔn)直器。
[0053] 進(jìn)一步相對于患者14布置62所述框架,以將輻射探測器20定位在R0I16的固定 視角。如上所述,所述輻射探測器20,生成指示伽馬光子撞擊的位置的輻射數(shù)據(jù)。一旦布 置62 了所述框架,則由至少一個(gè)處理器收集64來自輻射探測器20的所述輻射數(shù)據(jù),并且 由所述處理器從接收到的輻射數(shù)據(jù)重建66R0I16的圖像。
[0054] 如本文中使用,存儲(chǔ)器包括以下中的一種或多種:永久性計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì);磁 盤或其他磁性儲(chǔ)存介質(zhì);光盤或其他光學(xué)儲(chǔ)存介質(zhì);隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(RAM)、只讀存儲(chǔ)器 (ROM)或其他電子存儲(chǔ)器設(shè)備或芯片或一組操作性互聯(lián)的芯片;互聯(lián)網(wǎng)/內(nèi)聯(lián)網(wǎng)服務(wù)器 (可以經(jīng)由互聯(lián)網(wǎng)/內(nèi)聯(lián)網(wǎng)或局域網(wǎng)從該服務(wù)器檢索所儲(chǔ)存的指令);等等。進(jìn)一步地,如 本文中使用,處理器包括以下中的一種或多種:微處理器、微控制器、圖形處理單元(GPU)、 專用集成電路(ASIC)、現(xiàn)場可編程門陣列(FPGA)等等;并且用戶輸入設(shè)備包括以下中的一 種或多種:鼠標(biāo)、鍵盤、觸摸屏顯不器、一個(gè)或多個(gè)按鈕、一個(gè)或多個(gè)開關(guān)、一個(gè)或多個(gè)觸發(fā) 器等等。
[0055] 已參考優(yōu)選的實(shí)施例描述了本發(fā)明。他人在閱讀和理解前文的詳細(xì)描述后,可以 進(jìn)行修改和變型。本發(fā)明旨在被解釋為包括所有這些修改和變型,只要它們落在權(quán)利要求 書或其等價(jià)方案的范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1. 一種用于對感興趣區(qū)域(ROI) (16)進(jìn)行成像的無機(jī)架核成像系統(tǒng)(10),所述系統(tǒng) (10)包括: 一個(gè)或多個(gè)輻射探測器(20),其生成指示伽馬光子撞擊的位置的輻射數(shù)據(jù); 框架(18),其將所述輻射探測器(20)定位在所述R0I (16)的固定視角處; 至少一個(gè)處理器(40、44),其被編程為: 接收來自所述輻射探測器(20)的所述輻射數(shù)據(jù);并且 從接收到的輻射數(shù)據(jù)重建所述R0I (16)的圖像。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)(10),其中,所述框架(18)的形狀能夠針對所述患者的 R0I (16)的幾何形態(tài)進(jìn)行重新配置。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1和2中的任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)(10),其中,所述框架(22)包括多個(gè)子 框架(18),所述多個(gè)子框架在所述輻射數(shù)據(jù)被生成之前針對所述患者的R0I (16)的所述幾 何形態(tài)而被配置,所述子框架被樞軸連接并且所述配置包括將所述子框架(18)相對于彼 此調(diào)節(jié)位置。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的系統(tǒng)(10),其中,所述配置還包括增加和/或移除子框架 (18)。
5. 根據(jù)權(quán)利要求2-4中的任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)(10),其中,所述框架(22)在所述輻射數(shù) 據(jù)被生成之前針對所述R0I (16)被配置為以下形狀中的一種:圓、橢圓和部分圓。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1-5中的任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)(10),其中,所述框架(18)包括用以確定 所述框架(22)的形狀和所述輻射探測器(20)的視角傳感器(26)。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1-6中的任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)(10),其中,所述輻射探測器(20)為模塊 化的并且能夠在框架之間移動(dòng)。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1-7中的任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)(10),其中,所述框架(22)針對所述 R0I (16)的所述幾何形態(tài)而被配置,所述配置通過對所述框架(22)的系桿的手動(dòng)調(diào)節(jié)來實(shí) 現(xiàn),和/或按照用戶選擇的臨床協(xié)議激活所述框架(22)的一個(gè)或多個(gè)致動(dòng)器來實(shí)現(xiàn)。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1-8中的任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)(10),其中,每個(gè)輻射探測器包括: 準(zhǔn)直器(38),其控制撞擊一個(gè)或多個(gè)閃爍體元件(30)或者一個(gè)或多個(gè)光敏元件(34) 的伽馬光子的方向和角展度。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)(10),其中,所述準(zhǔn)直器(38)為以下中的一種:針孔準(zhǔn) 直器、條狹縫準(zhǔn)直器和扇形束狹縫準(zhǔn)直器。
11. 根據(jù)權(quán)利要求1-10中的任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)(10),其中,所述輻射探測器(20)中的 至少一個(gè)包括: 閃爍體元件(30),其響應(yīng)于伽馬光子撞擊而生成閃光;以及 光敏元件(34),例如數(shù)字硅光電倍增管,其響應(yīng)于所述閃光而生成輻射數(shù)據(jù)。
12. 根據(jù)權(quán)利要求1-11中的任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)(10),其中,所述輻射探測器(20)中的 至少一個(gè)包括: 光敏元件(34),例如半導(dǎo)體伽馬探測器,其響應(yīng)于伽馬光子撞擊而生成輻射數(shù)據(jù)。
13. -種用于對感興趣區(qū)域(R0I) (16)進(jìn)行成像的方法(50),所述方法(50)包括: 針對所述R0I (16)的幾何形態(tài)選擇(52)框架(22); 相對于所述R0I (16)布置(62)所述框架(22),以將一個(gè)或多個(gè)輻射探測器(20)定位 在所述ROI (16)的固定視角處,所述輻射探測器(20)生成指不伽馬光子撞擊的位置的輻射 數(shù)據(jù); 由至少一個(gè)處理器(40、44)收集來自所述輻射探測器(20)的所述輻射數(shù)據(jù);并且 由所述處理器(40、44),從接收到的輻射數(shù)據(jù)重建(66)所述R0I (16)的圖像。
14. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法(50),還包括: 在所述輻射數(shù)據(jù)被生成之前,針對所述R0I (16)的幾何形態(tài)來重新配置(58)所選擇的 框架⑵的形狀。
15. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法(50),其中,所述框架(22)包括多個(gè)子框架(18),所 述子框架被樞軸連接,并且其中,所述重新配置包括將所述子框架(18)相對于彼此調(diào)節(jié)位 置。
16. 根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法(50),其中,所述重新配置還包括增加和/或移除子 框架(18)。
17. 根據(jù)權(quán)利要求14-16中的任一項(xiàng)所述的方法(50),其中,所述框架(22)針對所述 R0I (16)被配置為以下形狀中的一種:圓、橢圓和部分圓。
18. 根據(jù)權(quán)利要求13-17中的任一項(xiàng)所述的方法(50),還包括: 將所述輻射探測器(20)從另一框架(22)移除(56);并且 將所述輻射探測器安裝(64)到所選擇的框架(22)。
19. 根據(jù)權(quán)利要求13-18中的任一項(xiàng)所述的方法(50),其中,每個(gè)輻射探測器(20)包 括生成輻射數(shù)據(jù)的數(shù)字和/或模擬硅光電倍增管、和/或半導(dǎo)體伽馬探測器。
20. 根據(jù)權(quán)利要求13-19中的任一項(xiàng)所述的方法(50),其中,所述框架(22)將所述輻 射探測器(20)中的一個(gè)保持在用于重建所述圖像的所述R0I (16)的每個(gè)視角處。
【文檔編號】G01T1/164GK104067147SQ201280067949
【公開日】2014年9月24日 申請日期:2012年11月12日 優(yōu)先權(quán)日:2011年11月22日
【發(fā)明者】H·K·維喬雷克, J·耶, L·邵, R·哈桑 申請人:皇家飛利浦有限公司