一種x射線異物檢測裝置及檢測方法
【專利摘要】一種X射線異物檢測裝置，包括射線源、探測器、傳送帶、上位機、測厚裝置及升降機構(gòu)，射線源和探測器位于傳送帶的上下方，射線源固定在升降機構(gòu)上，升降機構(gòu)安裝在X射線異物檢測裝置的基板上，測厚裝置設(shè)置在X射線異物檢測裝置的入口前端，上位機與測厚裝置連接，測厚裝置測得被測物的厚度參數(shù)后上傳至上位機，上位機通過計算結(jié)果控制升降機構(gòu)的升降，調(diào)整射線源的高度。本發(fā)明還公開了一種X射線異物檢測方法。本發(fā)明的優(yōu)點在于：通過實時調(diào)整射線源的高度，使得系統(tǒng)的分辨率不隨著物體的厚度不同發(fā)生變化，始終保持最優(yōu)分辨率，達到準確檢測異物的效果。
【專利說明】一種X射線異物檢測裝置及檢測方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及到到異物檢測【技術(shù)領(lǐng)域】，特別是涉及到X光異物檢測領(lǐng)域。

【背景技術(shù)】
[0002] X光異物檢測機工作原理：利用X光對不同物質(zhì)的穿透特性不同，檢測出混在散料 中密度較大的異物，如金屬、玻璃、石子等，再通過剔除裝置將其剔除。
[0003] 當前X光設(shè)備的射線源與探測器位置一般都是固定的，射線源高度基本取決于要 照射的物體寬度，探測器一般在傳輸帶下方，這就導致當不同厚度的物體通過設(shè)備，系統(tǒng)的 實際分辨(放大）率在發(fā)生變化，無法保證在最優(yōu)值附近。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004] 本發(fā)明的所要解決的技術(shù)問題之一在于提供一種保證系統(tǒng)的成像分辨率不隨著 物體的厚度不同發(fā)生變化的X射線異物檢測裝置。
[0005] 本發(fā)明的所要解決的技術(shù)問題之二在于提供一種保證系統(tǒng)的成像分辨率不隨著 物體的厚度不同發(fā)生變化的X射線異物檢測方法。
[0006] 本發(fā)明采用以下技術(shù)方案解決上述技術(shù)問題之一的：一種X射線異物檢測裝置， 包括射線源、探測器、傳送帶、上位機，被測物在傳送帶上傳送，所述射線源位于傳送帶的上 方，探測器位于傳送帶的下方，接收射線源發(fā)送的信號，其改進在于：還包括測厚裝置以及 升降機構(gòu)，所述射線源固定在升降機構(gòu)上，升降機構(gòu)安裝在X射線異物檢測裝置的基板上， 所述測厚裝置設(shè)置在X射線異物檢測裝置的入口前端，上位機與所述測厚裝置及所述升降 機構(gòu)連接，測厚裝置測得被測物的厚度參數(shù)后上傳至上位機，上位機通過計算結(jié)果控制升 降機構(gòu)的升降，調(diào)整射線源的高度。
[0007] 優(yōu)化的，所述測厚裝置采用光幕測量裝置，包括彼此相對設(shè)置的一組光電發(fā)射器 和接收器，光電發(fā)射器和接收器固定在傳送帶支架上，接收器接收光電發(fā)射器生成的信號， 得到被測物的厚度。
[0008] 上位機獲得被測物厚度參數(shù)后，根據(jù)以下射線源位置變化計算公式，確定射線源 相對于當前位置的位移：

【權(quán)利要求】
1. 一種X射線異物檢測裝置，包括射線源（10)、探測器、傳送帶（30)、上位機，被測物 (80)在傳送帶（30)上傳送，所述射線源（10)位于傳送帶（30)的上方，探測器位于傳送帶 (30)的下方，接收射線源（10)發(fā)送的信號，其特征在于：還包括測厚裝置（40)和升降機構(gòu) (60 )，所述射線源（10 )固定在升降機構(gòu)（60 )上，升降機構(gòu)（60 )安裝在X射線異物檢測裝置 的基板（70)上，所述測厚裝置設(shè)置在X射線異物檢測裝置的入口前端，上位機與所述測厚 裝置（40 )及所述升降機構(gòu)（60 )連接，測厚裝置（40 )測得被測物（80 )的厚度參數(shù)后上傳至 上位機，上位機通過計算結(jié)果控制所述升降機構(gòu)（60)的升降，調(diào)整射線源（10)的高度。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種X射線異物檢測裝置，其特征在于：所述測厚裝置（40) 采用光幕測量裝置，包括彼此相對設(shè)置的一組光電發(fā)射器（42)和接收器（44)，光電發(fā)射器 (42 )和接收器（44)固定在傳送帶支架（32 )上，接收器（44)接收光電發(fā)射器（42 )生成的信 號，得到被測物（80)的厚度。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種X射線異物檢測裝置，其特征在于：上位機獲得被測物 (80)厚度參數(shù)后，根據(jù)以下射線源位置變化計算公式，確定射線源（10)相對于當前位置的 位移：
Ma 其中，為被測物（so)的厚度為射線源（1〇)的焦點尺寸，暴為探測器的 b 分辨率。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種X射線異物檢測裝置，其特征在于：所述基板（70)上設(shè) 置有使得X射線源（10)生成的X射線光束（12)通過的開口，X射線光束（12)穿過該開口 到達設(shè)置在傳送帶（30)下方的探測器。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種X射線異物檢測裝置，其特征在于：所述升降機構(gòu)（60) 包括升降板（61)、導向機構(gòu)（62)、絲杠傳動機構(gòu)（63)和驅(qū)動電機（601)，所述升降板（61)的 四角均布導向機構(gòu)（62)，導向機構(gòu)（62)使升降板（61)只能上下移動，所述驅(qū)動電機（601) 驅(qū)動絲杠傳動機構(gòu)（63)，升降板（61)的上下移動由絲杠傳動機構(gòu)（63)實現(xiàn)。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種X射線異物檢測裝置，其特征在于：所述升降機構(gòu)還包 括第一同步帶輪（64)、第一同步帶（65)、第二同步帶輪（66)、第二同步帶（67)、第三同步帶 輪（68)，所述絲杠傳動機構(gòu)（63)對稱布置在升降板（61)的兩側(cè)，每組絲杠傳動機構(gòu)（63) 包括滑動絲杠（632)和螺母（634)，且對稱布置的兩組滑動絲杠（632)各參數(shù)完全一致，所 述升降板（61)的對應(yīng)滑動絲杠（632)的位置開設(shè)有貫穿孔，所述螺母（634)與該貫穿孔同 軸固定在升降板（61)上，所述滑動絲杠（632)的下方固定在止推軸承（636)上，止推軸承 (636)固定在X射線異物檢測裝置的基板（70)上，驅(qū)動電機（601)的輸出軸上緊固第一同 步帶輪（64)，兩個滑動絲杠（632)的下部分別緊固第二同步帶輪（66)、第三同步帶輪（68)， 第一同步帶輪（64)和第二同步帶輪（66)之間由第一同步帶（65)連接，第二同步帶輪（66) 和第三同步帶輪（68)之間由第二同步帶（67)連接，驅(qū)動電機（601)轉(zhuǎn)動，帶動第一同步帶 輪（64)轉(zhuǎn)動，進而帶動第二同步帶輪（66)和第三同步帶輪（68)轉(zhuǎn)動，從而使動力傳送到滑 動絲杠（632)，滑動絲杠（632)的轉(zhuǎn)動帶動升降板（61)的升降。
7. -種X射線異物檢測方法，其特征在于：包括以下幾個步驟： 步驟1、光幕測厚： 測量并存儲被測物（80)的厚度參數(shù)1，厚度參數(shù)Jl測出后，上傳至上位機； 步驟2、位置計算： 上位機獲得被測物厚度參數(shù)ft后，根據(jù)以下射線源位置變化計算公式，確定射線源 (10)相對于當前位置的位移：
其中，1為被測物（80)的厚度，Mep =^，_為射線源（I0)的焦點尺寸，蠢為探測器的 O 分辨率； 步驟3、執(zhí)行定位： 根據(jù)步驟2確定的射線源（10)相對于當前位置的位移，調(diào)節(jié)射線源（10)的位置使之與 上述的位移匹配。
8. 如權(quán)利要求7所述的一種X射線異物檢測方法，其特征在于：所述步驟1中，被測物 (80)的厚度的測量裝置使用測厚裝置（40)，所述測厚裝置（40)采用光幕測量裝置，包括彼 此相對設(shè)置的一組光電發(fā)射器（42)和接收器（44)，光電發(fā)射器（42)和接收器（44)固定在 傳送帶支架（32)上，接收器（44)接收光電發(fā)射器（42)生成的信號，得到被測物（80)的厚 度。
9. 如權(quán)利要求7所述的一種X射線異物檢測方法，其特征在于：所述步驟3中，射線源 (10)的位置調(diào)節(jié)通過升降機構(gòu)（60)實現(xiàn)，所述射線源（10)固定在升降機構(gòu)（60)上，升降 機構(gòu)（60)安裝在X射線異物檢測裝置的基板（70)上，上位機通過計算結(jié)果控制升降機構(gòu) (60)的升降，調(diào)整射線源（10)的高度。
10. 如權(quán)利要求9所述的一種X射線異物檢測方法，其特征在于：所述升降機構(gòu)（60)包 括升降板（61)、導向機構(gòu)（62)、絲杠傳動機構(gòu)（63)和驅(qū)動電機（601)，所述升降板（61)的四 角均布導向機構(gòu)（62)，導向機構(gòu)（62)使升降板（61)只能上下移動，所述驅(qū)動電機（601)驅(qū) 動絲杠傳動機構(gòu)（63)，升降板（61)的上下移動由絲杠傳動機構(gòu)（63)實現(xiàn)。
【文檔編號】G01N23/04GK104458776SQ201410839195
【公開日】2015年3月25日 申請日期:2014年12月30日 優(yōu)先權(quán)日:2014年12月30日
【發(fā)明者】張凱, 張昔峰 申請人:合肥美亞光電技術(shù)股份有限公司