專利名稱：磁頭制造方法和磁頭制造裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種磁頭制造方法和一種磁頭制造裝置，特別涉及可把一浮動(dòng)塊(slider)后期安裝到一懸架上的一種磁頭制造方法和磁頭制造裝置。
背景技術(shù)：
硬盤驅(qū)動(dòng)器(下面稱為HDD)的容量越來越大，做得越來越薄。隨著上述進(jìn)展，磁頭(20％、30％浮動(dòng)塊)也做得越來越小。
當(dāng)使用傳統(tǒng)的制造磁頭的方法將一其上形成有一巨磁阻(GMR)元件的浮動(dòng)塊粘合在一懸架側(cè)時(shí)，首先以該浮動(dòng)塊的外部形狀作為基準(zhǔn)來對該浮動(dòng)塊進(jìn)行定位。在對該浮動(dòng)塊定位之后，在該浮動(dòng)塊的后表面一側(cè)(與其中形成一空氣支承面(ABS，air bearing surface)的一側(cè)相對的一側(cè))上涂敷粘合劑，并使該浮動(dòng)塊的該后表面?zhèn)扰c已由一加工孔定位的該懸架的遠(yuǎn)端接觸。該浮動(dòng)塊的后表面?zhèn)群驮搼壹艿倪h(yuǎn)端通過該粘合劑粘合在一起。應(yīng)注意，在將該浮動(dòng)塊移動(dòng)到該懸架的遠(yuǎn)端時(shí)，通常使用一稍小于該浮動(dòng)塊的表面積的吸嘴。
在粘合該浮動(dòng)塊和該懸架之后，形成一磁頭萬向組件(HGA)，該HGA與一致動(dòng)器組件組裝在一起從而形成一磁頭組組件(HAS，例如，參見JP 4-17174A，圖4和圖5)。
但是，上述傳統(tǒng)的磁頭制造方法存在以下問題。
即，由于浮動(dòng)塊在進(jìn)行了組裝HGA的過程后還要進(jìn)行組裝HSA的過程，所以處理時(shí)間長。因而存在該浮動(dòng)塊中的元件會(huì)因?yàn)殪o電放電(ESD)或類似原因而被損壞的危險(xiǎn)。當(dāng)在HGA組裝狀態(tài)下的無缺陷的浮動(dòng)塊在處理期間變得有缺陷時(shí)，該浮動(dòng)塊中的缺陷會(huì)在HSA組裝后被發(fā)現(xiàn)。成品合格率因此降低，而成本增加。
為解決上述問題人們想出后期安裝浮動(dòng)塊的方法。但是，在HAS中把一磁盤夾在中間的一對懸架互相正對。在利用一傳統(tǒng)的吸嘴使浮動(dòng)塊從垂直方向連接的方法中，存在這樣一個(gè)問題，即該吸嘴會(huì)與另一個(gè)面對的懸架互相干涉，從而不可能連接(安裝)該浮動(dòng)塊。
此外，在后期安裝浮動(dòng)塊時(shí)，接觸面在安裝到一致動(dòng)器組件上的該對懸架中定位在以很小間隙互相正對的內(nèi)側(cè)面上。因此無法使用普通注射器或針管涂粘結(jié)劑。因此必須把粘結(jié)劑涂在浮動(dòng)塊的后面上而非懸架上。但是其上涂粘結(jié)劑的浮動(dòng)塊表面為與ABS相反的表面。因此在涂粘結(jié)劑時(shí)必須倒置浮動(dòng)塊，在安裝浮動(dòng)塊時(shí)浮動(dòng)塊才恢復(fù)原位。但是倒置浮動(dòng)塊造成制造裝置變得復(fù)雜和浮動(dòng)塊操作量增加。因此浮動(dòng)塊內(nèi)元件由于ESD造成損壞的風(fēng)險(xiǎn)增大。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明即是為了解決上述問題。本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種能不倒置一浮動(dòng)塊就把該浮動(dòng)塊后期安裝到一懸架的遠(yuǎn)端上的磁頭制造方法和磁頭制造裝置。
本發(fā)明的原理在于，對浮動(dòng)塊的ABS所在表面進(jìn)行照相，用照相所得圖像計(jì)算一懸架的安裝位置(基準(zhǔn))，然后把粘結(jié)劑排放到浮動(dòng)塊后面上一根據(jù)該安裝位置信息算出的位置上，以及用粘結(jié)劑把浮動(dòng)塊安裝到該懸架上，就可不倒置浮動(dòng)塊就后期安裝浮動(dòng)塊。
按照本發(fā)明的一個(gè)方面，提供一種磁頭制造方法，其中，在其上形成有一空氣支承面(ABS)的浮動(dòng)塊安裝到一懸架上，該方法包括對ABS所在上側(cè)(頂面)和該浮動(dòng)塊的外形進(jìn)行照相；用照相所得圖像識(shí)別ABS和在ABS中形成的一雕刻區(qū)，并計(jì)算一用來引導(dǎo)懸架安裝的基準(zhǔn)；把該基準(zhǔn)與該浮動(dòng)塊的外形之間的位置關(guān)系存儲(chǔ)為關(guān)聯(lián)信息；在把所述浮動(dòng)塊安裝到所述懸架上時(shí)從該浮動(dòng)塊下方測量該浮動(dòng)塊的外形；比較測量值與所述關(guān)聯(lián)信息并讀取一基準(zhǔn)；根據(jù)該基準(zhǔn)把粘結(jié)劑排放到所述懸架要安裝到其上的所述浮動(dòng)塊的表面上；以及在保持ABS在上側(cè)的同時(shí)把所述浮動(dòng)塊裝到所述懸架上。
在該磁頭制造方法的另一方面中，用一夾緊機(jī)構(gòu)傳送所述浮動(dòng)塊，用該夾緊機(jī)構(gòu)上形成的加壓面夾緊所述浮動(dòng)塊的兩側(cè)面，用所述浮動(dòng)塊的ABS與該夾緊機(jī)構(gòu)上形成的一水平調(diào)節(jié)面的接觸來調(diào)節(jié)所述浮動(dòng)塊的水平方向，并在用所述夾緊機(jī)構(gòu)保持所述浮動(dòng)塊的同時(shí)把該浮動(dòng)塊移動(dòng)到所述懸架的遠(yuǎn)端上。
按照本發(fā)明的另一個(gè)方面，提供一種把一其上形成有一空氣支承面(ABS)的浮動(dòng)塊安裝到一懸架上的磁頭制造裝置，該裝置包括位于所述浮動(dòng)塊上方、對ABS所在表面和該浮動(dòng)塊外形進(jìn)行照相的第一照相機(jī)；位于所述浮動(dòng)塊下方、對該浮動(dòng)塊外形進(jìn)行照相的第二照相機(jī)；能從下方把粘結(jié)劑分配到所述懸架要安裝于其上的所述浮動(dòng)塊的表面上的粘結(jié)劑分配裝置；被保持定位成可在ABS位于該浮動(dòng)塊的頂面上的狀態(tài)下安裝該浮動(dòng)塊的懸架；一傳送所述浮動(dòng)塊的浮動(dòng)塊傳送路徑，所述第一照相機(jī)、所述第二照相機(jī)、所述粘結(jié)劑分配裝置和所述懸架依次設(shè)置在該路徑上；一由兩塊件的兩個(gè)塊結(jié)構(gòu)體構(gòu)成的夾緊機(jī)構(gòu)，其中，該兩塊件能相對滑動(dòng)，每一塊件上形成有一加壓面，該塊件之一上形成有一接觸所述浮動(dòng)塊的ABS的水平調(diào)節(jié)面，該夾緊機(jī)構(gòu)設(shè)置成能在所述浮動(dòng)塊傳送路徑上移動(dòng)；識(shí)別由所述第一照相機(jī)拍攝的ABS和在ABS中形成的雕刻區(qū)的圖像處理裝置；以及計(jì)算引導(dǎo)懸架安裝的基準(zhǔn)的坐標(biāo)計(jì)算裝置，通過來自所述圖像處理裝置的識(shí)別信息和來自所述第二照相機(jī)的信息進(jìn)行該計(jì)算，并且該坐標(biāo)計(jì)算裝置把所述基準(zhǔn)與所述浮動(dòng)塊外形之間的位置關(guān)系存儲(chǔ)為關(guān)聯(lián)信息。
按照本發(fā)明的另一個(gè)方面，提供一種把一其上形成有一空氣支承面(ABS)的浮動(dòng)塊安裝到一懸架上的磁頭制造裝置，該裝置包括位于所述浮動(dòng)塊上方、對ABS所在表面和該浮動(dòng)塊外形進(jìn)行照相的第一照相機(jī)；位于所述浮動(dòng)塊下方、對該浮動(dòng)塊外形進(jìn)行照相的第二照相機(jī)；能從下方把粘結(jié)劑分配到所述懸架要安裝于其上的所述浮動(dòng)塊的表面上的粘結(jié)劑分配裝置；被保持成可在ABS位于該浮動(dòng)塊的頂面上的狀態(tài)下安裝該浮動(dòng)塊的方向的懸架；一傳送所述浮動(dòng)塊的浮動(dòng)塊傳送路徑，所述第一照相機(jī)、所述第二照相機(jī)、所述粘結(jié)劑分配裝置和所述懸架依次設(shè)置在該路徑上；一由兩塊件的兩個(gè)塊結(jié)構(gòu)體構(gòu)成的夾緊機(jī)構(gòu)，其中，該兩塊件能相對滑動(dòng)，每一塊件上形成有一加壓面，該塊件之一上形成有一接觸所述浮動(dòng)塊的ABS的水平調(diào)節(jié)面，該夾緊機(jī)構(gòu)設(shè)置成能在所述浮動(dòng)塊傳送路徑上移動(dòng)；識(shí)別由所述第一照相機(jī)拍攝的ABS和在ABS中形成的雕刻區(qū)的圖像處理裝置；以及計(jì)算引導(dǎo)懸架安裝的基準(zhǔn)的坐標(biāo)計(jì)算裝置，用來自所述圖像處理裝置的識(shí)別信息和來自所述第二照相機(jī)的信息進(jìn)行該計(jì)算，然后該坐標(biāo)計(jì)算裝置把所述基準(zhǔn)與所述浮動(dòng)塊外形之間的位置關(guān)系存儲(chǔ)為關(guān)聯(lián)信息。
在磁頭制造裝置的另一方面中，優(yōu)選地，所述第一照相機(jī)為一對從所述浮動(dòng)塊反射的紫外線光源的紫外光進(jìn)行照相的紫外光檢測照相機(jī)，所述加壓面邊緣部上形成有斜面部，用以減小位于斜面部兩側(cè)的所述塊件和所述浮動(dòng)塊的反射率。
按照上述布置，在用比方說一夾緊機(jī)構(gòu)把一浮動(dòng)塊置于一保持臺(tái)上、使得浮動(dòng)塊的ABS面變成頂面，并用第一照相機(jī)對浮動(dòng)塊的ABS面進(jìn)行照相。然后使用一圖像處理裝置從照相所得的圖像識(shí)別ABS和一雕刻區(qū)。一般來說，ABS由于拋光呈光滑表面，而另一方面該雕刻面由于離子磨削具有一粗糙表面。因此，只要根據(jù)照相時(shí)從雕刻區(qū)和ABS反射的光量的不同進(jìn)行二進(jìn)制處理等，即能容易地用該圖像識(shí)別雕刻區(qū)和ABS。進(jìn)行處理和識(shí)別不同區(qū)域后，夾緊機(jī)構(gòu)從保持臺(tái)再次夾緊浮動(dòng)塊(移動(dòng)至第二照相機(jī)上方)，然后使用一坐標(biāo)計(jì)算裝置從不同區(qū)域和第二照相機(jī)拍攝的圖像計(jì)算懸架安裝面中的一基準(zhǔn)點(diǎn)(即懸架上的安裝位置)。
算出懸架安裝面上的該基準(zhǔn)點(diǎn)后，夾緊機(jī)構(gòu)根據(jù)該基準(zhǔn)點(diǎn)的坐標(biāo)信息把浮動(dòng)塊移動(dòng)到一粘結(jié)劑排出裝置上方一位置。然后粘結(jié)劑排出裝置把粘結(jié)劑排放到懸架安裝面上該基準(zhǔn)點(diǎn)上。
把粘結(jié)劑排放到用懸架安裝面的一基準(zhǔn)面算出的位置上后，夾緊機(jī)構(gòu)又沿浮動(dòng)塊傳送路徑把浮動(dòng)塊移動(dòng)到懸架的遠(yuǎn)端上。然后向下移動(dòng)夾緊機(jī)構(gòu)即可把浮動(dòng)塊裝到懸架遠(yuǎn)端上。因此浮動(dòng)塊定位成把ABS保持在頂面上，可在保持浮動(dòng)塊定位(方向)不變的同時(shí)沿傳送路徑移動(dòng)浮動(dòng)塊。因此，無需進(jìn)行倒置浮動(dòng)塊的復(fù)雜操作和復(fù)雜過程，可防止浮動(dòng)塊內(nèi)的元件由于ESD等造成損壞。
應(yīng)該指出，由于紫外光的波長比可見光短，因此只要用紫外光照射ABS和雕刻區(qū)并用一紫外光檢測照相機(jī)捕捉反射光就能可靠地檢測用可見光很難檢測的ABS與雕刻區(qū)之間的一臺(tái)階。因此只要進(jìn)行紫外光照射和用紫外光檢測照相機(jī)捕捉反射光就能可靠識(shí)別ABS和雕刻區(qū)。因此可以提高基準(zhǔn)的精度。
此外，如在夾緊機(jī)構(gòu)加壓面邊緣部上形成斜面，浮動(dòng)塊周邊上的光的反射率就相對浮動(dòng)塊后面降低。因此，只要組合使用邊緣斜面部和紫外光就可使浮動(dòng)塊的輪廓變得清晰，從而用圖像識(shí)別可靠獲得浮動(dòng)塊外形。
按照本發(fā)明，提供一種把其上形成有一空氣支承面(ABS)的浮動(dòng)塊安裝到一懸架上的磁頭制造方法。在該方法中，對ABS所在頂面和浮動(dòng)塊的外形一起進(jìn)行照相。然后用照相所得圖像識(shí)別ABS和ABS中形成的一雕刻區(qū)，并計(jì)算一用來引導(dǎo)懸架安裝的基準(zhǔn)。然后把該基準(zhǔn)與浮動(dòng)塊的外形之間的位置關(guān)系存儲(chǔ)為關(guān)聯(lián)信息。然后在把浮動(dòng)塊裝到懸架上時(shí)，測量浮動(dòng)塊外形、比較測量值與關(guān)聯(lián)信息以及讀取該基準(zhǔn)。根據(jù)該基準(zhǔn)從下方把粘結(jié)劑排放到浮動(dòng)塊上的懸架安裝面。然后在保持ABS為頂面的同時(shí)把浮動(dòng)塊安裝到懸架上。也可提供一種把其上形成有ABS的浮動(dòng)塊安裝到一懸架上的磁頭制造裝置。在該裝置中，在浮動(dòng)塊的一傳送路徑中依次設(shè)置有位于浮動(dòng)塊上方、對ABS所在表面和浮動(dòng)塊外形進(jìn)行照相的第一照相機(jī)；位于浮動(dòng)塊下方、對浮動(dòng)塊外形進(jìn)行照相的第二照相機(jī)；能從下方把粘結(jié)劑分配到浮動(dòng)塊的懸架安裝表面上的粘結(jié)劑排出裝置；以及在ABS處于頂面狀態(tài)下定位成可安裝浮動(dòng)塊的懸架。一由兩塊件構(gòu)成的夾緊機(jī)構(gòu)能在浮動(dòng)塊傳送路徑上移動(dòng)，其中，兩塊件能相對滑動(dòng)，每一塊件上形成有一加壓面。塊件之一上形成有一接觸浮動(dòng)塊的ABS的水平調(diào)節(jié)面。一從第一照相機(jī)拍攝的圖像識(shí)別ABS和ABS中形成的雕刻區(qū)的圖像處理裝置，和另一根據(jù)來自該圖像處理裝置中的識(shí)別信息來自所述第二照相機(jī)的信息計(jì)算引導(dǎo)懸架安裝的基準(zhǔn)并將基準(zhǔn)與浮動(dòng)塊外形之間的位置關(guān)系存儲(chǔ)為關(guān)聯(lián)信息的圖像處理裝置與該粘結(jié)劑排出裝置和該夾緊裝置連接。因此。無需倒置浮動(dòng)塊就可把浮動(dòng)塊后期安裝到懸架遠(yuǎn)端上，從而防止浮動(dòng)塊內(nèi)的元件由于ESD等造成損壞。


圖1為使用本發(fā)明一實(shí)施例的磁頭制造方法制造的磁頭的立體圖；圖2為本發(fā)明一實(shí)施例的磁頭制造裝置的俯視圖；圖3為一夾緊機(jī)構(gòu)主要部分的放大圖；圖4A為一說明圖，示出由斜面部的存在或不存在造成的圖像識(shí)別的改變并示出不存在斜面部時(shí)的圖像；圖4B為一說明圖，示出由斜面部的存在或不存在造成的圖像識(shí)別的改變并示出存在斜面部時(shí)的圖像；和圖5為一示出磁頭制造過程的說明圖。
具體實(shí)施形式下面結(jié)合附圖詳細(xì)說明本發(fā)明磁頭制造方法和磁頭制造裝置的優(yōu)選實(shí)施例。
圖1為使用本發(fā)明一實(shí)施例的磁頭制造方法制造的磁頭的立體圖。如圖1所示，使用該實(shí)施例的磁頭制造方法制造的磁頭10包括其中有一巨磁阻(GMR)件的一浮動(dòng)塊12和一固定在該浮動(dòng)塊12上的懸架14。該懸架14包括一粘接固定到浮動(dòng)塊12上的撓曲件16、一用點(diǎn)焊連接到撓曲件16上的承載梁(load beam)18和一為浮動(dòng)塊12上的GMR件提供引線的柔性印刷電路(FPC，未示出)。
浮動(dòng)塊的與一固定在HDD的主軸電動(dòng)機(jī)上的磁盤(未示出)相反一側(cè)上形成有ABS20。浮動(dòng)塊12與由ABS20造成的高速轉(zhuǎn)動(dòng)的磁盤之間生成正壓和負(fù)壓，從而使得浮動(dòng)塊12以任意高度在磁盤上方飛行。
此外，粘接固定在浮動(dòng)塊12上的撓曲件16用金屬薄片制成，從而可在浮動(dòng)塊12的上下方向、節(jié)距(pitch)方向和滾動(dòng)方向上變形。從而吸收組裝時(shí)磁盤表面的搖擺、傾斜。
點(diǎn)焊在撓曲件16上的承載梁18與撓曲件16一樣用金屬薄片制成，并生成一不變的力來平衡彈性推力在浮動(dòng)塊12上造成的向上(抬升)力。從而把浮動(dòng)塊12壓向磁盤表面。應(yīng)該指出，承載梁18兩端上各有一彎曲片22用以確保相對于HDD尋道方向(即磁盤的平面方向)的剛性。
在使用該實(shí)施例的磁頭制造方法制造的磁頭10中，用圖像處理識(shí)別ABS20和用離子磨削等在ABS20中形成的雕刻區(qū)24并把所識(shí)別的雕刻區(qū)24的質(zhì)心G26用作一基準(zhǔn)點(diǎn)(基準(zhǔn))進(jìn)行計(jì)算。用一分配器等把粘結(jié)劑涂到浮動(dòng)塊12中撓曲件16安裝面28中一與該質(zhì)心G26對應(yīng)的位置上。把該質(zhì)心G26作為一基準(zhǔn)進(jìn)行撓曲件16的安裝。此外，在制造磁頭10過程中用分配器等涂粘結(jié)劑時(shí)從撓曲件16安裝面28下方涂粘結(jié)劑。因此浮動(dòng)塊12不用倒置(換句話說，ABS保持在頂面上)。因此可防止該制造裝置變得復(fù)雜，倒置浮動(dòng)塊的復(fù)雜操作和復(fù)雜過程變得沒有必要，從而防止浮動(dòng)塊內(nèi)元件遭到損壞。
把決定著浮動(dòng)塊12飛行方向的ABS20和雕刻區(qū)24作為基準(zhǔn)、把浮動(dòng)塊12與撓曲件16(即懸架14一側(cè))粘合在一起可良好平衡浮動(dòng)塊12的出現(xiàn)在撓曲件16附近的正壓和負(fù)壓、穩(wěn)定浮動(dòng)塊12的飛行方向和獲得良好電特性。
下面說明如此結(jié)構(gòu)的磁頭10的制造順序。
圖2為該實(shí)施例的磁頭制造裝置的俯視圖。
如圖2所示，該實(shí)施例中的磁頭制造裝置30中形成有一傳送路徑40。一能裝有多個(gè)浮動(dòng)塊12的盤32作為該路徑40的始端，一裝有一安裝到一致動(dòng)器組件34上的懸架36的托架38作為終端。應(yīng)該指出，浮動(dòng)塊12在盤32中放置成其ABS20為頂面。從而防止ABS20因與盤32的底面接觸等而損壞。
然后沿傳送路徑40傳送浮動(dòng)塊12。在傳送路徑40上設(shè)置多個(gè)完成浮動(dòng)塊12與懸架36的粘合的構(gòu)成部件。
下面說明傳送路徑40上的這些構(gòu)成部件。
首先，能裝有多個(gè)浮動(dòng)塊12的盤32的下游有一臨時(shí)保持臺(tái)42，用吸嘴(未示出)之類的吸起裝置把盤32中的一個(gè)浮動(dòng)塊12放置在臨時(shí)保持臺(tái)42上。
另一方面，臨時(shí)保持臺(tái)42上方設(shè)置第一照相機(jī)44，使得可拍攝浮動(dòng)塊12的外形、ABS20和雕刻區(qū)24。應(yīng)該指出，第一照相機(jī)44為一紫外光(UV)檢測裝置，從而可接受一位于第一照相機(jī)44周邊上的UV光源46(見圖5)發(fā)出的反射UV光。從而可用波長短的UV光和檢測UV光的第一照相機(jī)44精確檢測ABS20與雕刻區(qū)24之間的一小臺(tái)階。應(yīng)該指出，盡管在該實(shí)施例中使用UV光源和檢測從UV光源反射的光的UV光檢測照相機(jī)，但該實(shí)施例不限于使用UV光源和UV光檢測照相機(jī)。只要能檢測ABS20與雕刻區(qū)24之間的臺(tái)階，也可組合使用例如常用可見光光源(如LED)和檢測可見光的照相機(jī)、組合使用UV光源和可見光檢測照相機(jī)等。
此外，在第一照相機(jī)44下游浮動(dòng)塊12的下方設(shè)置有一用作粘結(jié)劑排出裝置的排出噴嘴48。通過使得排出噴嘴48可移動(dòng)，可把一滴粘結(jié)劑50(見圖5)排放并施加到浮動(dòng)塊12的撓曲件安裝面28上。
此外，在排出噴嘴48下游浮動(dòng)塊12的下方設(shè)置有第二照相機(jī)52。第二照相機(jī)52用來從撓曲件安裝面28一側(cè)拍攝浮動(dòng)塊12的外形。
傳送路徑40終端上的托架38位于第二照相機(jī)52的下游。托架38中裝有兩個(gè)裝有懸架36的致動(dòng)器組件34。成為浮動(dòng)塊12的安裝對象的懸架36設(shè)定在由插入一活動(dòng)臂54而預(yù)定的高度(圖5中尺寸A所示)上。此外，可用一驅(qū)動(dòng)裝置如一伺服電動(dòng)機(jī)(未示出)把托架38從傳送路徑40的終端移動(dòng)到第二照相機(jī)52上方一位置(圖2中箭頭56所示。也可在圖2中箭頭58方向上移動(dòng)托架38)。通過移動(dòng)托架38，第二照相機(jī)52可拍攝設(shè)置在懸架36遠(yuǎn)端上的浮動(dòng)塊的安裝基準(zhǔn)位置。
傳送路徑40上設(shè)置有一夾緊浮動(dòng)塊12的夾緊機(jī)構(gòu)60。通過移動(dòng)夾緊機(jī)構(gòu)60，可把浮動(dòng)塊12從臨時(shí)保持臺(tái)42傳送到第二照相機(jī)52，并可連接浮動(dòng)塊12與懸架36。
圖3為該夾緊機(jī)構(gòu)主要部分的放大圖。
如圖3所示，夾緊機(jī)構(gòu)60包括可把浮動(dòng)塊12夾在中間的兩塊件即第一塊件和第二塊件。
構(gòu)成夾緊機(jī)構(gòu)60的第一塊件上設(shè)置有第一突起件62。應(yīng)該指出，第一突起件62的厚度比要夾緊的浮動(dòng)塊12薄。第一突起件62在用該第一突起件62遠(yuǎn)端上形成的第一加壓面64夾緊浮動(dòng)塊12一側(cè)面并將該浮動(dòng)塊12安裝到懸架36上時(shí)不會(huì)與懸架36干涉。
另一方面，與第一塊件一起構(gòu)成夾緊機(jī)構(gòu)60的第二塊件上設(shè)置有與第一塊件的第一突起件似的第二突起件66。應(yīng)該指出，第二突起件66的遠(yuǎn)端部68的厚度比突起件66的中部70厚。使用從中部70向遠(yuǎn)端部68突起的部分上設(shè)置的第二加壓面72和第一塊件遠(yuǎn)端上的第一加壓面64可夾緊浮動(dòng)塊12。此外，中部70在與浮動(dòng)塊12的ABS20相對的一側(cè)上形成有一水平調(diào)節(jié)面74。把浮動(dòng)塊12的ABS20緊貼水平調(diào)節(jié)面74就可使得浮動(dòng)塊12的方向與第二塊件一致(可水平夾緊浮動(dòng)塊12)。
夾緊浮動(dòng)塊12的第一加壓面64和第二加壓面72的邊緣部分中設(shè)置有斜面76。浮動(dòng)塊12在垂直方向上的光反射率比撓曲件斜面28的低。
圖4A和圖4B為說明圖，示出由斜面部的存在或不存在造成的圖像識(shí)別的改變。圖4A示出不存在斜面部時(shí)的圖像，圖4B示出存在斜面部時(shí)的圖像。如圖4A和4B所示，第一加壓面64和第二加壓面72的邊緣部中不存在斜面部76時(shí)浮動(dòng)塊12的邊緣部界線不清晰，因此浮動(dòng)塊12位置檢測精度有下降的危險(xiǎn)。但是，如圖4B所示，第一加壓面64和第二加壓面72的邊緣部中存在斜面部76時(shí)浮動(dòng)塊12的邊緣部界線清晰。因此浮動(dòng)塊12位置檢測精度提高。
下面說明使用如此構(gòu)成的該磁頭制造裝置30把浮動(dòng)塊12裝到懸架36上的順序。
圖5為一示出一磁頭的制造過程的說明圖。
參見圖5，為把浮動(dòng)塊12安裝到懸架36上，首先把浮動(dòng)塊12置于臨時(shí)保持臺(tái)42上并用第一照相機(jī)44拍攝浮動(dòng)塊12的ABS20側(cè)。應(yīng)該指出，拍攝浮動(dòng)塊12時(shí)，可點(diǎn)亮第一照相機(jī)44周邊上設(shè)置的環(huán)形UV光源46，第一照相機(jī)44可接受從浮動(dòng)塊12反射的光。在該實(shí)施例中該臨時(shí)保持臺(tái)42內(nèi)置背光。在第一照相機(jī)44拍攝浮動(dòng)塊12時(shí)從浮動(dòng)塊12后方點(diǎn)亮背光可提高浮動(dòng)塊邊緣部的對比度。從而可提高浮動(dòng)塊12外形識(shí)別精度。然后根據(jù)第一照相機(jī)44拍攝的圖像用一圖像處理裝置301對浮動(dòng)塊12的外形、ABS20和雕刻區(qū)24進(jìn)行圖像處理和識(shí)別。然后，用一坐標(biāo)計(jì)算裝置302將所識(shí)別雕刻區(qū)24的質(zhì)心G26作為一基準(zhǔn)點(diǎn)(基準(zhǔn))算出(步驟1)。
第一照相機(jī)44如此拍攝浮動(dòng)塊12后，夾緊裝置60把浮動(dòng)塊12移動(dòng)到第二照相機(jī)52上方一位置，第二照相機(jī)52從浮動(dòng)塊12下方檢測浮動(dòng)塊12的外形。第二照相機(jī)52與坐標(biāo)計(jì)算裝置302連接。然后比較第二照相機(jī)52所得浮動(dòng)塊外形坐標(biāo)與第一照相機(jī)44所得坐標(biāo)信息，計(jì)算撓曲件安裝面28上與質(zhì)心G26對應(yīng)的位置。把該點(diǎn)作為粘接點(diǎn)(步驟2)。
在算出粘接點(diǎn)后夾緊機(jī)構(gòu)60再次沿傳送路徑40移動(dòng)到排出噴嘴48上方一位置。應(yīng)該指出，夾緊機(jī)構(gòu)60在粘接過程中可微動(dòng)。從排出噴嘴48遠(yuǎn)端排出的該滴粘結(jié)劑落在浮動(dòng)塊12上的位置可設(shè)置成與浮動(dòng)塊12上的粘接點(diǎn)相一致(步驟3)。
應(yīng)該指出，盡管以上說明把質(zhì)心G26作為粘接點(diǎn)，但該滴粘結(jié)劑50所落位置不限于質(zhì)心G26。把浮動(dòng)塊12安裝到懸架36遠(yuǎn)端上時(shí)也可使用其他位置，只要在該位置上粘結(jié)劑可牢牢粘接浮動(dòng)塊12與懸架36的遠(yuǎn)端。此外，步驟2和步驟3也可反置而先進(jìn)行步驟3再進(jìn)行步驟2，這可視設(shè)計(jì)方便而定。
另一方面，在傳送路徑40終端上相對托架38上的懸架36插入活動(dòng)臂54，把懸架36的遠(yuǎn)端保持在預(yù)定高度上(圖5中尺寸A)(步驟4)。
在把懸架36遠(yuǎn)端高度設(shè)定在一經(jīng)調(diào)節(jié)高度上后移動(dòng)托架38。把成為浮動(dòng)塊12安裝/粘接對象的懸架36的遠(yuǎn)端移動(dòng)到第二照相機(jī)52上方一位置，第二照相機(jī)52檢測確定懸架36遠(yuǎn)端上用來粘接浮動(dòng)塊12的基準(zhǔn)位置(步驟5)。
在浮動(dòng)塊12一側(cè)上完成步驟3和在托架38一側(cè)上完成步驟5后，可分別根據(jù)坐標(biāo)位置移動(dòng)夾緊機(jī)構(gòu)60，然后用粘結(jié)劑把浮動(dòng)塊12粘到懸架36遠(yuǎn)端上。
使用上述過程不倒置浮動(dòng)塊12就可把粘結(jié)劑涂在撓曲件安裝面28上。因此可防止制造裝置的結(jié)構(gòu)變得復(fù)雜，倒置浮動(dòng)塊的復(fù)雜操作和復(fù)雜過程變得沒有必要，可防止浮動(dòng)塊內(nèi)元件由于ESD等造成損壞。
本申請要求作為參考包括在此、申請日為2003年12月9日的日本專利申請No.2003-409911的優(yōu)先權(quán)。
權(quán)利要求
1.一種磁頭制造方法，其中，在其上形成有一空氣支承面(ABS)的浮動(dòng)塊安裝到一懸架上，該方法包括對ABS形成于其上的上側(cè)和該浮動(dòng)塊的外形進(jìn)行照相；用照相所得圖像識(shí)別ABS和在ABS中形成的一雕刻區(qū)，并計(jì)算一用來引導(dǎo)懸架安裝的基準(zhǔn)；把該基準(zhǔn)與該浮動(dòng)塊的外形之間的位置關(guān)系存儲(chǔ)為關(guān)聯(lián)信息；在把所述浮動(dòng)塊安裝到所述懸架上時(shí)從該浮動(dòng)塊下方測量該浮動(dòng)塊的外形；比較測量值與所述關(guān)聯(lián)信息并讀取一基準(zhǔn)；根據(jù)該基準(zhǔn)把粘結(jié)劑排放到所述懸架要安裝到其上的所述浮動(dòng)塊的表面上；以及在保持ABS在上側(cè)的同時(shí)把所述浮動(dòng)塊裝到所述懸架上。
2.按權(quán)利要求1所述的磁頭制造方法，其特征在于，用一夾緊機(jī)構(gòu)傳送所述浮動(dòng)塊，其中，用該夾緊機(jī)構(gòu)上形成的加壓面夾緊所述浮動(dòng)塊的兩側(cè)面，用所述浮動(dòng)塊的ABS與該夾緊機(jī)構(gòu)上形成的一水平調(diào)節(jié)面的接觸來調(diào)節(jié)所述浮動(dòng)塊的水平方向，并在用所述夾緊機(jī)構(gòu)保持所述浮動(dòng)塊的同時(shí)把該浮動(dòng)塊移動(dòng)到所述懸架的遠(yuǎn)端上。
3.一種把一其上形成有一空氣支承面(ABS)的浮動(dòng)塊安裝到一懸架上的磁頭制造裝置，該裝置包括位于所述浮動(dòng)塊上方、對ABS形成于其上的表面和該浮動(dòng)塊外形進(jìn)行照相的第一照相機(jī)；位于所述浮動(dòng)塊下方、對該浮動(dòng)塊外形進(jìn)行照相的第二照相機(jī)；能從下方把粘結(jié)劑分配到所述懸架要安裝于其上的所述浮動(dòng)塊的表面上的粘結(jié)劑分配裝置；被保持定位成可在ABS位于該浮動(dòng)塊的頂面上的狀態(tài)下安裝該浮動(dòng)塊的懸架；一傳送所述浮動(dòng)塊的浮動(dòng)塊傳送路徑，所述第一照相機(jī)、所述第二照相機(jī)、所述粘結(jié)劑分配裝置和所述懸架依次設(shè)置在該路徑上；一由兩塊件的兩個(gè)塊結(jié)構(gòu)體構(gòu)成的夾緊機(jī)構(gòu)，其中，該兩塊件能相對滑動(dòng)，每一塊件上形成有一加壓面，該塊件之一上形成有一接觸所述浮動(dòng)塊的ABS的水平調(diào)節(jié)面，該夾緊機(jī)構(gòu)設(shè)置成能在所述浮動(dòng)塊傳送路徑上移動(dòng)；識(shí)別由所述第一照相機(jī)拍攝的ABS和在ABS中形成的所述雕刻區(qū)的圖像處理裝置；以及計(jì)算引導(dǎo)所述懸架安裝的基準(zhǔn)的坐標(biāo)計(jì)算裝置，通過來自所述圖像處理裝置的識(shí)別信息和來自所述第二照相機(jī)的信息進(jìn)行該計(jì)算，并且該坐標(biāo)計(jì)算裝置把所述基準(zhǔn)與所述浮動(dòng)塊外形之間的位置關(guān)系存儲(chǔ)為關(guān)聯(lián)信息。
4.按權(quán)利要求3所述的磁頭制造裝置，其特征在于，所述第一照相機(jī)為一對從所述浮動(dòng)塊反射的紫外線光源的紫外光進(jìn)行照相的紫外(UV)光檢測照相機(jī)。
5.按權(quán)利要求3或4所述的磁頭制造裝置，其特征在于，所述加壓面邊緣部上形成有斜面部，用以減小位于斜面部兩側(cè)的所述塊件和所述浮動(dòng)塊的反射率。
全文摘要
本發(fā)明提供一種磁頭制造方法和磁頭制造裝置。對ABS所在頂面和浮動(dòng)塊的外形進(jìn)行照相后用照相所得圖像識(shí)別ABS和ABS中形成的一雕刻區(qū)。然后計(jì)算一成為引導(dǎo)懸架安裝的基準(zhǔn)，并把該基準(zhǔn)與浮動(dòng)塊的外形之間的位置關(guān)系存儲(chǔ)為關(guān)聯(lián)信息。接著，在把浮動(dòng)塊裝到懸架上時(shí)，測量浮動(dòng)塊的外形，并比較測量值與關(guān)聯(lián)信息而讀取一基準(zhǔn)。根據(jù)該基準(zhǔn)從下方把粘結(jié)劑排放到浮動(dòng)塊的懸架安裝面上。然后可在把ABS保持在浮動(dòng)塊頂面?zhèn)鹊臓顟B(tài)下把浮動(dòng)塊安裝到懸架上。
文檔編號(hào)G05G15/00GK1627370SQ200410096689
公開日2005年6月15日 申請日期2004年12月3日 優(yōu)先權(quán)日2003年12月9日
發(fā)明者高貫一明, 進(jìn)藤修, 中尾明正, 山口哲 申請人:Tdk株式會(huì)社