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      一種提高產(chǎn)品良率的方法及系統(tǒng)的制作方法_3

      文檔序號(hào):9921604閱讀:來源:國知局
      對預(yù)料之內(nèi)的案件,即不會(huì)產(chǎn)生良率問題的案件,可以直接放過;2.對于懷疑會(huì)產(chǎn)生良率問題的案件,可以選擇等待WAT測試結(jié)果,等待CP偽測結(jié)果或者等待CP正常測試結(jié)果,通過良率分析系統(tǒng)的測試數(shù)據(jù)并結(jié)合篩選得出的影響產(chǎn)品良率案件,然后在MES系統(tǒng)中進(jìn)行相應(yīng)設(shè)置來對生產(chǎn)進(jìn)行調(diào)整,最后可通過EAP系統(tǒng)來控制機(jī)臺(tái)執(zhí)行相應(yīng)操作,提高產(chǎn)品良率。進(jìn)一步的,在MES系統(tǒng)中,還包括一調(diào)控模塊,根據(jù)工藝需求來通過調(diào)控模塊在MES系統(tǒng)中設(shè)置lot (批次的產(chǎn)品)需要暫停的站點(diǎn),進(jìn)而在lot進(jìn)行檢查或者其他操作。在芯片生產(chǎn)過程中設(shè)置有許多站點(diǎn),對于某些站點(diǎn)lot可以直接跳過,而對于經(jīng)過某些站點(diǎn)的lot需要進(jìn)行特殊操作或進(jìn)行測試,因此lot在經(jīng)過某些站點(diǎn)時(shí),需要進(jìn)行暫停并接受相應(yīng)操作。例如WAT站點(diǎn)由于肩負(fù)晶圓測試的任務(wù),其比較特殊,重要程度較高,lot在經(jīng)過WAT站點(diǎn)時(shí),需要在WAT站點(diǎn)暫停并接受測試,因此需要在調(diào)控模塊中設(shè)置WAT站點(diǎn)的Number (編號(hào)),在lot經(jīng)過相應(yīng)的站點(diǎn)時(shí),則會(huì)停下接受相應(yīng)操作;而對于沒有設(shè)置的站點(diǎn),lot則會(huì)直接跳過。通過對這些數(shù)據(jù)及時(shí)的分析處理,可以準(zhǔn)確的知道案件對良率的影響程度,從而控制了案件的影響面,保證了制程的穩(wěn)定。
      [0056]本發(fā)明通過利用ESB總線及數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)了機(jī)臺(tái)恢復(fù)系統(tǒng)、案件分析系統(tǒng)、良率分析系統(tǒng)與制造執(zhí)行系統(tǒng)(MES)的集成,實(shí)現(xiàn)了消息的互連互通,為提高產(chǎn)品良率提供了有效依據(jù)。
      [0057]同時(shí)本發(fā)明提供了一種提高產(chǎn)品良率的系統(tǒng),包括若干機(jī)臺(tái),具體的包括:機(jī)臺(tái)恢復(fù)模塊、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)模塊、良率分析模塊和制造執(zhí)行模塊,機(jī)臺(tái)恢復(fù)模塊、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)模塊、良率分析模塊均通過網(wǎng)絡(luò)服務(wù)總線(Web service)與ESB總線進(jìn)行連接,ESB總線通過一數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換模塊實(shí)現(xiàn)將與制造執(zhí)行模塊進(jìn)行連接,且數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換模塊通過信息總線(Message Bus)實(shí)現(xiàn)與制造執(zhí)行模塊的連接。
      [0058]其中,機(jī)臺(tái)恢復(fù)模塊用于對機(jī)臺(tái)進(jìn)行恢復(fù)處理,在進(jìn)行生產(chǎn)時(shí),若部分機(jī)臺(tái)(或機(jī)臺(tái)組)由于某種異常原因而導(dǎo)致報(bào)警或者停機(jī)時(shí),此時(shí)需要對出現(xiàn)異常的機(jī)臺(tái)進(jìn)行恢復(fù)處理,以避免產(chǎn)品在有異常的機(jī)臺(tái)上繼續(xù)運(yùn)行,從而造成更大的損失。但是在進(jìn)行機(jī)臺(tái)恢復(fù)處理后,可能會(huì)對產(chǎn)品良率造成影響,因此需要將由于恢復(fù)處理從而對良率造成負(fù)面影響的因素考慮到實(shí)際生產(chǎn)中。
      [0059]數(shù)據(jù)存儲(chǔ)模塊通過ESB總線獲取在進(jìn)行恢復(fù)處理后機(jī)臺(tái)所產(chǎn)生的潛在影響產(chǎn)品良率的信息并予以存儲(chǔ)。在機(jī)臺(tái)進(jìn)行恢復(fù)處理后,機(jī)臺(tái)恢復(fù)系統(tǒng)會(huì)準(zhǔn)確及時(shí)的將機(jī)臺(tái)恢復(fù)處理的詳細(xì)情況反映給數(shù)據(jù)存儲(chǔ)模塊,并通過數(shù)據(jù)存儲(chǔ)模塊將每個(gè)潛在影響產(chǎn)品良率的信息予以記錄,以生成一潛在影響產(chǎn)品良率的案件庫并進(jìn)行存儲(chǔ)。其中,潛在影響產(chǎn)品良率因素的信息包含以下屬性信息:所處的生產(chǎn)工藝(Module)、及該生產(chǎn)工藝所對應(yīng)的站點(diǎn)(Stage)、進(jìn)行該生產(chǎn)工藝設(shè)備的ID(EQ-1D)、進(jìn)行該生產(chǎn)工藝產(chǎn)品的ID(Product-1D)和造成該異常的原因信息(Reason code) ο
      [0060]同時(shí),該數(shù)據(jù)存儲(chǔ)模塊中還設(shè)置有一篩選單元,用于對存儲(chǔ)模塊中的所有潛在影響產(chǎn)品良率因素的信息進(jìn)行確認(rèn)后并進(jìn)行篩選,篩選的規(guī)則為:在一定時(shí)間段內(nèi),若存在多個(gè)屬性信息完全相同的潛在影響產(chǎn)品良率因素的信息,則會(huì)在包含有這些屬性信息完全相同的潛在影響產(chǎn)品良率因素的信息中篩選出部分影響產(chǎn)品良率因素的信息生成影響產(chǎn)品良率案件,并通過ESB總線傳輸至制造執(zhí)行模塊,根據(jù)影響產(chǎn)品良率案件可更加清楚了解由于進(jìn)行了機(jī)臺(tái)恢復(fù)處理所可能造成影響產(chǎn)品良率的相關(guān)因素。下面就具體篩選步驟體提供一實(shí)施例來進(jìn)行進(jìn)一步闡述。
      [0061]首先根據(jù)工藝需求預(yù)設(shè)一篩選時(shí)間段,例如近三個(gè)月,然后對數(shù)據(jù)庫中近三個(gè)月內(nèi)中儲(chǔ)存的所有潛在影響廣品良率因素的?目息進(jìn)行篩選,當(dāng)潛在影響廣品良率因素的?目息包含的各項(xiàng)屬性信息存在有完全相同的情況時(shí),即所處的生產(chǎn)工藝、及該生產(chǎn)工藝所對應(yīng)的站點(diǎn)、進(jìn)行該生產(chǎn)工藝設(shè)備的ID、進(jìn)行該生產(chǎn)工藝產(chǎn)品的ID和造成該異常的原因信息全部相同時(shí),在包含有上述各項(xiàng)相同屬性信息的潛在影響產(chǎn)品良率因素的信息中篩選出部分以作為影響產(chǎn)品良率案件,這些案件可較為真實(shí)的反映在進(jìn)行機(jī)臺(tái)恢復(fù)處理后對產(chǎn)品良率所造成的影響。例如,在三個(gè)月內(nèi),如果上述屬性信息完全相同,且該類型的潛在影響產(chǎn)品良率因素的信息出現(xiàn)次數(shù)達(dá)到5*Ν件時(shí),例如相同類型案件如果出現(xiàn)有20次,則選取第5次、第10次、第15次、第20次出現(xiàn)的潛在影響產(chǎn)品良率因素的信息作為影響產(chǎn)品良率案件,并傳輸至制造執(zhí)行模塊。潛在影響產(chǎn)品良率因素的信息出現(xiàn)的次數(shù)越多,則生成的影響產(chǎn)品良率案件也會(huì)越多,更好的為提高良率所提供依據(jù)。本發(fā)明利用統(tǒng)計(jì)分析的方法,通過對潛在影響產(chǎn)品良率的案件庫進(jìn)行篩選進(jìn)而得到一案件草稿,對連續(xù)出現(xiàn)的潛在影響良率案件進(jìn)彳丁重點(diǎn)追蹤和控制,進(jìn)而在MES系統(tǒng)中有針對性的做出相應(yīng)調(diào)整,提尚廣品良率。本發(fā)明利用統(tǒng)計(jì)分析的方法,通過對潛在影響產(chǎn)品良率的案件的信息進(jìn)行篩選進(jìn)而得到較為接近真實(shí)影響產(chǎn)品良率的案件,對連續(xù)出現(xiàn)的潛在影響良率案件進(jìn)行重點(diǎn)追蹤和控制,進(jìn)而在MES系統(tǒng)中有針對性的做出相應(yīng)調(diào)整,提高產(chǎn)品良率。
      [0062]良率分析模塊用于獲取WAT測試數(shù)據(jù)和/或CP測試數(shù)據(jù),并通過ESB總線和數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換模塊來將相應(yīng)的測試數(shù)據(jù)傳達(dá)至制造執(zhí)行模塊。在晶圓制作過程中,相應(yīng)站點(diǎn)在完成對lot完成WAT測試和/或CP測試以及其他相關(guān)測試后,可將測試的數(shù)據(jù)發(fā)送到良率分析模塊,良率分析模塊通過ESB總線及數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換模塊將WAT測試數(shù)據(jù)和/或CP測試數(shù)據(jù)及其他相關(guān)數(shù)據(jù)傳送至制造執(zhí)行模塊,通過結(jié)合這些測試數(shù)據(jù)以及影響產(chǎn)品良率案件并進(jìn)行及時(shí)的分析處理,可以準(zhǔn)確的知道案件對良率的影響程度,從而控制了案件的影響面,保證了制程的穩(wěn)定。本發(fā)明利用企業(yè)服務(wù)總線(ESB),實(shí)現(xiàn)了良率分析系統(tǒng)與MES系統(tǒng)的集成,使得在MES對生產(chǎn)進(jìn)行調(diào)整時(shí)更加有依據(jù)。
      [0063]在本發(fā)明中,數(shù)據(jù)存儲(chǔ)模塊中的篩選單元得出的影響產(chǎn)品良率案件以及良率分析模塊的測試數(shù)據(jù)由于可以通過ESB總線及數(shù)據(jù)集成系統(tǒng)傳輸至制造執(zhí)行模塊,不僅可以根據(jù)影響產(chǎn)品良率案件來對生產(chǎn)進(jìn)行調(diào)整,還可根據(jù)良率分析模塊輸出的測試數(shù)據(jù)來對生產(chǎn)進(jìn)行調(diào)整;同時(shí),本發(fā)明中還可結(jié)合案件草稿以及相應(yīng)的測試數(shù)據(jù)來進(jìn)行產(chǎn)品良率分析,從而更加準(zhǔn)確了解進(jìn)行恢復(fù)處理后對良率的影響程度,進(jìn)而更加有利于正確的對生產(chǎn)進(jìn)行調(diào)整:1.對預(yù)料之內(nèi)的案件,即不會(huì)產(chǎn)生良率問題的案件,可以直接放過;2.對于懷疑會(huì)產(chǎn)生良率問題的案件,可以選擇等待WAT測試結(jié)果,等待CP偽測結(jié)果或者等待CP正常測試結(jié)果,通過良率分析系統(tǒng)的測試數(shù)據(jù)并結(jié)合案件草稿,然后在制造執(zhí)行模塊中進(jìn)行相應(yīng)設(shè)置來對生廣進(jìn)彳丁調(diào)整,進(jìn)而提尚廣品良率。
      [0064]同時(shí),在制造執(zhí)行模塊中還設(shè)置有一調(diào)控單元,利用該調(diào)整單元來設(shè)置lot暫停的站點(diǎn),使得lot在經(jīng)過相應(yīng)的站點(diǎn)暫停。在芯片生產(chǎn)過程中設(shè)置有許多站點(diǎn),對于某些不重要的站點(diǎn)lot可以直接跳過,而對于經(jīng)過某些站點(diǎn)lot需要進(jìn)行特殊操作或進(jìn)行測試,因此lot在經(jīng)過某些站點(diǎn)時(shí),必須進(jìn)行
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