專利名稱：多層可變折射率單元的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及可變折射率單元，涉及包括這樣的可變折射率單元的光學(xué)設(shè)備，和涉及制造這樣的單元的方法。
背景技術(shù)：
可變折射率單元是一種設(shè)備，其中可以可控地改變所述設(shè)備的至少一部分的折射率。這樣的單元例如可以用于控制透射通過(guò)所述單元的光的相位。術(shù)語(yǔ)光應(yīng)當(dāng)被理解成包括可見(jiàn)電磁輻射和其它波長(zhǎng)的電磁輻射。
用于光學(xué)地記錄和再現(xiàn)信息的信息記錄介質(zhì)(即光學(xué)記錄載體)以各種形式出現(xiàn)。例如，存在各種類型的光盤，例如CDs(光盤)和DVDs(數(shù)字視頻光盤或數(shù)字通用光盤)。在相同的記錄表面上具有多個(gè)記錄層的記錄介質(zhì)(例如每側(cè)雙層DVD)也正在發(fā)展。此外，高密度光學(xué)存儲(chǔ)設(shè)備正在發(fā)展，例如BD(藍(lán)光)。
有必要在用于讀和/或?qū)戇@樣的光學(xué)記錄載體的光信號(hào)中校正波陣面誤差。
例如，高密度光學(xué)記錄載體典型地需要物鏡具有高NA(數(shù)值孔徑)，因此增加了光束的波陣面象差。
這樣的象差可以導(dǎo)致引起設(shè)備性能的損失，例如從光學(xué)記錄載體讀和/或?qū)懶畔⒌木仁艿綋p失。因此，在高密度光學(xué)存儲(chǔ)設(shè)備中理想的是當(dāng)掃描光盤時(shí)動(dòng)態(tài)地校正所以波陣面誤差。例如，由誤差或光盤覆蓋層厚度的變動(dòng)產(chǎn)生的象差影響會(huì)變得明顯。
美國(guó)申請(qǐng)no.10/050,604(被公開(kāi)為公開(kāi)文本No.US2002/0105890 A1)描述了一種適合于校正球面象差的象差校正裝置。圖1和2分別是相同類型的象差校正元件的平面圖和橫截面圖。
圖1示出了在大體在X-Y平面中延伸的元件40的平面圖；也顯示了元件40的一部分的展開(kāi)圖40’。元件40是圓形的，并且大體圓形地對(duì)稱。
圖2顯示了大體在Z方向上延伸的元件40的徑向橫截面圖，其中ρ為徑向距離，即ρ＝0是元件的中心，ρ＝500是元件的外周邊。
可以看到元件40包括厚度均勻的液晶平面層44，其大體在元件40的整個(gè)面積上延伸。所示的特殊元件在功能上被分為十一個(gè)不同的環(huán)形區(qū)段(42a，42b，42c，...42k)。每個(gè)區(qū)段包括布置在液晶層44的兩側(cè)的一對(duì)透明電極。例如，位于外區(qū)段42a中的電極46a，46’a將液晶44夾在中間，這些電極寬度為A。每個(gè)電極通過(guò)間隙43與相同層中的相鄰電極分開(kāi)，以防止相鄰電極之間的電接觸，例如電極46’a通過(guò)間隙43與電極46’分開(kāi)。通過(guò)改變每對(duì)電極上的電壓，可以改變電極之間向列液晶的取向，從而將期望的相移賦予入射光信號(hào)。
環(huán)形區(qū)段的數(shù)量，和每個(gè)環(huán)形區(qū)段的寬度由需要元件40提供的相位函數(shù)確定。例如，圖1和2中所示的元件40適合于提供球面象差補(bǔ)償。因此，朝著元件周邊的許多環(huán)形區(qū)段必須具有相對(duì)較薄的寬度，從而在短徑向距離上提供所需的相對(duì)較大的相移變化。特別對(duì)于涉及高數(shù)值孔徑物鏡的應(yīng)用，位于元件的外緣的電極的期望寬度變得如此之小以至于難以制造。此外，需要分離相鄰電極的間隙43是不合需要的，因?yàn)樗鼘?dǎo)致液晶層44的取向異常，所以由元件提供的相位函數(shù)異常。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的實(shí)施方式的目標(biāo)是解決現(xiàn)有技術(shù)的一個(gè)或多個(gè)問(wèn)題，無(wú)論所述問(wèn)題在這里被提出還是另外被提出。本發(fā)明的特定實(shí)施方式的目標(biāo)是提供一種可變折射率單元，其適合于向入射光束提供相對(duì)較陡的相位輪廓，同時(shí)仍然相對(duì)容易制造。
根據(jù)本發(fā)明的第一方面提供了一種可變折射率單元，包括光軸，可控可變折射率的第一層，其以第一預(yù)定配置在橫切光軸的第一平面中延伸，和可控可變折射率的不同的第二層，其以第二預(yù)定配置在橫切光軸的不同的第二平面中延伸。第二層與第一層重疊。
術(shù)語(yǔ)重疊指的是第二層部分覆蓋第一層，或者覆蓋第一層并且延伸超出第一層。通過(guò)重疊這樣的層，通過(guò)利用僅僅一層的薄部分延伸超出另一層，可以產(chǎn)生提供陡的相位輪廓但是仍然易于制造的可變折射率單元。此外，當(dāng)所述單元使用重疊層時(shí)，可以產(chǎn)生不同的相位輪廓而不會(huì)由于在相鄰區(qū)段之間存在間隙而在相位輪廓內(nèi)出現(xiàn)異常。
優(yōu)選地所述單元至少還包括可控可變折射率的第三層，其以第三預(yù)定配置在橫切光軸的第三平面中延伸，第三層與第一層和第二層兩者重疊。
優(yōu)選地，可控可變折射率的每一層包括具有可變折射率的材料層，所述材料層的每一個(gè)具有均勻的厚度。
更優(yōu)選地，所述層的每一個(gè)包括夾在兩個(gè)透明電極之間的液晶層，所述電極用于控制液晶層的折射率。優(yōu)選地，所述單元還包括用于控制施加到每個(gè)電極的電壓的控制單元。
優(yōu)選地，所述電極僅僅將一部分所述液晶層夾在中間。
優(yōu)選地，所述層的每一個(gè)是平行的。
優(yōu)選地，所述層的每一個(gè)是環(huán)形的，每個(gè)環(huán)具有不同的尺寸。
更優(yōu)選地，每個(gè)環(huán)圍繞公共軸設(shè)置。
優(yōu)選地，所述單元被布置成通過(guò)控制所述層的折射率校正光波陣面中的象差，從而向入射光信號(hào)提供預(yù)定的相位輪廓。
根據(jù)本發(fā)明的第二方面提供了一種包括如上所述的單元的光學(xué)設(shè)備。
優(yōu)選地，所述光學(xué)設(shè)備是用于掃描光學(xué)記錄載體的信息層的光學(xué)掃描設(shè)備，所述設(shè)備還包括用于生成輻射光束的輻射源和用于將輻射光束會(huì)聚到信息層上的物鏡系統(tǒng)。
根據(jù)本發(fā)明的第三方面提供了一種操作光學(xué)設(shè)備的方法，所述光學(xué)設(shè)備包括如上所述的單元。所述方法包括控制可控可變折射率的所述層的至少一個(gè)的折射率，從而向入射光信號(hào)提供預(yù)定相位調(diào)制。
根據(jù)本發(fā)明的第四方面提供了一種制造光學(xué)設(shè)備的方法。所述方法包括提供可控可變折射率的第一層，其以第一預(yù)定配置在橫切光軸的第一平面中延伸。所述方法還包括提供可控可變折射率的不同的第二層，其以第二預(yù)定配置在橫切光軸的不同的第二平面中延伸，使得第二層與第一層重疊。


為了更好地理解本發(fā)明，和為了顯示如何實(shí)現(xiàn)相同的實(shí)施方式，現(xiàn)在將作為例子參考附圖，其中
圖1顯示了已知光學(xué)元件的平面圖，包括一個(gè)截面的近視圖；圖2顯示了圖1的元件的徑向橫截面；圖3顯示了根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施方式的可變折射率單元的徑向橫截面；圖4顯示了圖3的單元的平面圖；圖5顯示了可以由圖3的單元提供以用于補(bǔ)償球面象差的相位函數(shù)；和圖6顯示了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的光學(xué)掃描設(shè)備的示意圖。
具體實(shí)施例方式
圖3顯示了可變折射率單元140的橫截面圖。所述橫截面圖沿著單元的半徑截取，其中ρ表示沿著半徑距中心的距離。ρ的值是以微米為單位的。
圖4顯示了單元140的平面圖。單元140的平面圖看上去大體類似于圖1中所示的現(xiàn)有技術(shù)元件40。單元140被布置成提供適合于球面象差校正的相位函數(shù)。因此，單元140是圓形對(duì)稱的。在功能上，它被有效的分割成多個(gè)同軸環(huán)形區(qū)段142a-142k。每個(gè)區(qū)段能夠?yàn)槿肷漭椛涔馐峁┎煌南嘁?。該單?40與圖1中所示的現(xiàn)有技術(shù)相比的重要區(qū)別在于，單元140在相鄰區(qū)段之間不具有間隙43。
從圖3可以看出，單元140由多個(gè)液晶層144a-144f形成。在該特定實(shí)施方式中，單元140由六個(gè)獨(dú)立的液晶層形成。為了簡(jiǎn)化制造過(guò)程，每層基本上跨越單元140的全部面積而延伸，并且每層140a-140f具有均勻的厚度。此外，為了簡(jiǎn)化設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)，每層具有基本相等的厚度，即層144a具有與層144b相同的厚度。層140a-140f平行，并且每層在基本垂直于單元140的光軸的平面中延伸。光軸平行于Z軸延伸穿過(guò)單元的徑向中心(即穿過(guò)ρ＝0)。
在六個(gè)液晶層144a-144f中，除了一個(gè)(144f)以外的所有層都由各自的一對(duì)透明電極146a，146a’，...146e，146e’部分包圍。
通過(guò)在一對(duì)電極上施加電壓，可以改變夾在所述電極之間的液晶的取向。所以，通過(guò)控制在每對(duì)電極上施加的電壓，可以可控地改變夾在所述電極之間的液晶的折射率。在該實(shí)施方式中所述電極是大致平面的，并且每個(gè)電極在基本平行于相關(guān)液晶層的平面中延伸，即電極146a，146a’平行于液晶層144a延伸。
在該實(shí)施方式中，每個(gè)電極是環(huán)形的，并且在指定對(duì)中的每個(gè)電極具有一致的配置，即形狀和尺寸。當(dāng)所述電極用于控制液晶的折射率時(shí)，每對(duì)電極與夾在所述電極之間的液晶一同起作用，從而有效地提供可控折射率的層，該層以預(yù)定配置在橫切光軸的平面中延伸。在該特定實(shí)施方式中，所述平面垂直于光軸延伸，盡管應(yīng)當(dāng)理解術(shù)語(yǔ)橫切也涵蓋這樣的情況，即其中所述平面以不平行于光軸的任意角度延伸。
電極對(duì)被布置成使得可控可變折射率的每個(gè)有效功能層與可控可變折射率的另一層重疊。例如，由包圍液晶層144e的電極146e，146e’提供的功能層延伸到區(qū)段142b中，因此超出由在周邊包圍液晶層144d(其僅僅延伸直至并包括區(qū)段142c)的電極146d，146d’提供的功能層的端部。由于重疊的區(qū)域(即區(qū)段142b)具有相對(duì)薄的寬度(即10微米)，這允許單元140提供陡的相移輪廓，同時(shí)仍然使用相對(duì)寬的電極。
圖3和4中所示的可變折射率單元140被布置成提供適合于補(bǔ)償波陣面誤差的相位函數(shù)，所述波陣面誤差起因于盤面的覆蓋層為90微米而不是100微米的標(biāo)稱值，即其它層比規(guī)格薄10微米。假設(shè)用于掃描光盤的輻射光束波長(zhǎng)為λ0＝0.4微米。相位函數(shù)中的每個(gè)階躍(相位中的變化)的值為0.37157弧度。表1指示了相位函數(shù)如何與每個(gè)功能區(qū)段(142a-142k)相關(guān)。每個(gè)徑向區(qū)段的內(nèi)半徑由值ρINNER表示，并且外半徑由ρOUTER表示，每個(gè)區(qū)段具有寬度Δρ，并且也表示出了由每個(gè)區(qū)段賦予的以弧度為單位的相移。
表1


圖5根據(jù)表1示出了以弧度為單位的相移隨著徑向距離的變化。
從圖3可以看出，在該實(shí)施方式中，可控可變折射率的環(huán)形功能層被布置成使得每個(gè)連續(xù)功能層具有比前一功能層更大的內(nèi)半徑和更大的外半徑，并且每個(gè)功能層跨越預(yù)定數(shù)量(在該情況下為五個(gè))的區(qū)段延伸。由單元140的區(qū)段提供的總相移是由所述區(qū)段內(nèi)對(duì)準(zhǔn)的每個(gè)功能層提供的相移之和。例如，在區(qū)段142j中，僅僅由覆蓋一部分液晶層144a的電極146a，146a’提供的功能層出現(xiàn)在所述區(qū)段中，因此對(duì)所述區(qū)段的相位變化負(fù)責(zé)。相反，五個(gè)功能層的每一個(gè)均落入?yún)^(qū)段142f中，因此由透射通過(guò)區(qū)段142f的輻射光束經(jīng)歷的相移將是這些層提供的累積相移。
假設(shè)未限制在電極之間的液晶具有折射率n，則位于電極之間的液晶的折射率可以表示為n-|Δn|，其中Δn是由施加在電極之間的電壓導(dǎo)致的絕對(duì)折射率差。每個(gè)相鄰區(qū)段之間的折射率差Δn的絕對(duì)值由以下關(guān)系式確定其中dLC是每個(gè)液晶層的厚度，0.37157是每個(gè)區(qū)段之間的階躍值(相移的變化)。例如，如果假設(shè)dLC大約為1微米，并且假設(shè)輻射光束的波長(zhǎng)為λ0＝0.4微米，于是對(duì)于0.37157的相位階躍，這給出了絕對(duì)折射率差Δn大約為0.0237。
從圖3可以容易地看出，用于本發(fā)明的多層單元140中的電極比用于現(xiàn)有技術(shù)的單層形式的電極要寬得多。例如，從表1可以確定圖3所示的實(shí)施方式中電極的寬度在198微米和315微米之間變化(與具有類似于所述區(qū)段的尺寸的現(xiàn)有技術(shù)設(shè)計(jì)中的電極相比，因此寬度從139微米向下變化到難以制造的9微米尺寸)。
功能層由透明材料，例如由玻璃層彼此分開(kāi)。在以上實(shí)施方式中可以設(shè)想每個(gè)功能層之間的每個(gè)玻璃層的典型厚度大約為100微米。電極可以由任何透明材料制造，例如PEDOT(聚(3，4-乙二氧噻吩))。優(yōu)選地，為了使透射通過(guò)單元的輻射光束的比例最大化，電極相對(duì)薄，例如厚度小于50納米，更優(yōu)選厚度小于15納米。
應(yīng)當(dāng)理解的是以上實(shí)施方式僅僅作為例子被提供，并且各種備選實(shí)施方式對(duì)于技術(shù)人員來(lái)說(shuō)是將顯而易見(jiàn)的。例如，在以上實(shí)施方式中，可控可變折射率的每個(gè)功能層由將液晶層夾在中間的一對(duì)電極提供。每個(gè)這樣的功能層當(dāng)然可以由任何材料提供，其中可以結(jié)合控制機(jī)構(gòu)可控地改變折射率以實(shí)現(xiàn)所述改變。此外，所述單元的特定配置已被描述成適合于校正球面象差。應(yīng)當(dāng)理解的是，其它配置將適合于提供其它功能，例如用于校正光波陣面中的彗發(fā)。此外，除了圖3和4中所示的特定配置之外的其它配置實(shí)際上也可以用于校正球面象差。
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的可變折射率單元可以用于各種應(yīng)用和設(shè)備。圖6顯示了用于掃描光學(xué)記錄載體2的設(shè)備1，包括物鏡系統(tǒng)18。記錄載體包括透明層3，在其一側(cè)上布置了信息層4。背離透明層的信息層的該側(cè)受到保護(hù)層5保護(hù)以免受環(huán)境影響。面對(duì)設(shè)備的透明層的該側(cè)被稱為進(jìn)入面6。透明層3通過(guò)為信息層提供機(jī)械支撐而用作記錄載體的襯底。
可選擇地，透明層可以具有保護(hù)信息層的唯一功能，而機(jī)械支撐由信息層的另一側(cè)上的層提供，例如由保護(hù)層5或由進(jìn)一步的信息層和連接到信息層4的透明層提供。
信息可以以光學(xué)可檢測(cè)標(biāo)記的形式存儲(chǔ)在記錄載體的信息層4中，所述標(biāo)記布置在基本平行的、同心的或螺旋形的軌道中，其未在圖6中示出。所述標(biāo)記可以采用任何光學(xué)可讀形式，例如采用凹坑的形式，或者具有反射系數(shù)或磁化方向不同于它們的周圍環(huán)境的區(qū)域的形式，或者這些形式的組合。
掃描設(shè)備1包括可以發(fā)出輻射光束12的輻射源11。輻射源可以是半導(dǎo)體激光器。光束分裂器13朝著準(zhǔn)直透鏡14反射發(fā)散的輻射光束12，所述準(zhǔn)直透鏡將發(fā)散光束12轉(zhuǎn)換成準(zhǔn)直光束15。準(zhǔn)直光束15入射在物鏡系統(tǒng)18上。
物鏡系統(tǒng)18可以包括一個(gè)或多個(gè)透鏡和/或光柵。物鏡系統(tǒng)18具有光軸19。物鏡系統(tǒng)18將光束17改變成會(huì)聚光束20，入射在記錄載體2的進(jìn)入面6上。物鏡系統(tǒng)具有適于輻射光束通過(guò)透明層3的厚度穿行的球面象差校正。會(huì)聚光束20在信息層4上形成光斑21。由信息層4反射的輻射形成發(fā)散光束22，由物鏡系統(tǒng)18轉(zhuǎn)換成基本準(zhǔn)直的光束23并且隨后由準(zhǔn)直透鏡14轉(zhuǎn)換成會(huì)聚光束24。光束分裂器13通過(guò)朝著檢測(cè)系統(tǒng)25傳送至少一部分會(huì)聚光束24而分離正向和反射的光束。檢測(cè)系統(tǒng)俘獲輻射并且將它轉(zhuǎn)換成電輸出信號(hào)26。信號(hào)處理器27將這些輸出信號(hào)轉(zhuǎn)換成各種其它信號(hào)。
所述信號(hào)之一是信息信號(hào)28，其值代表從信息層4讀出的信息。信息信號(hào)由用于誤差校正的信息處理單元29處理。來(lái)自信號(hào)處理器27的其它信號(hào)是聚焦誤差信號(hào)和徑向誤差信號(hào)30。聚焦誤差信號(hào)代表光斑21和信息層4之間的軸向高度差。徑向誤差信號(hào)代表在信息層4的平面中光斑21和光斑將要跟隨的信息層中的軌道中心之間的距離。聚焦誤差信號(hào)和徑向誤差信號(hào)30被饋送到伺服電路31中，其將這些信號(hào)轉(zhuǎn)換成伺服控制信號(hào)32以用于分別控制聚焦致動(dòng)器和徑向致動(dòng)器。所述致動(dòng)器未在圖6中示出。聚焦致動(dòng)器控制物鏡系統(tǒng)18在聚焦方向33上的位置，由此控制光斑21的實(shí)際位置，使得它基本上與信息層4的平面重合。徑向致動(dòng)器控制物鏡18在徑向方向34上的位置，由此控制光斑21的徑向位置，使得它基本上與信息層4中將被跟隨的軌道的中心線重合。圖6中的軌道行進(jìn)在垂直于圖6的平面的方向上。
在該特定實(shí)施方式中的圖6的設(shè)備也適于掃描第二種類型的記錄載體，該記錄載體具有比記錄載體2更厚的透明層。所述設(shè)備可以使用輻射光束12或具有用于掃描第二種類型的記錄載體的不同波長(zhǎng)的輻射光束。該輻射光束的NA可以適合所述類型的記錄載體。物鏡系統(tǒng)的球面象差補(bǔ)償必須相應(yīng)地被適應(yīng)。
例如，在雙層DVR(數(shù)字視頻記錄)光盤中，兩個(gè)信息層具有0.1mm和0.08mm的深度；它們因此典型地被分開(kāi)0.02mm。當(dāng)從一層到另一層重新聚焦時(shí)，由于信息層深度的差異，產(chǎn)生一些200mλ的不希望的球面象差，其需要進(jìn)行補(bǔ)償。這可以通過(guò)將預(yù)定量的球面象差引入到物鏡系統(tǒng)18中，使得球面象差抵消而得以實(shí)現(xiàn)。
在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式中，通過(guò)使用根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的可變折射率單元140，通過(guò)改變?nèi)肷涞轿镧R系統(tǒng)18上的光束15的相位將球面象差引入到物鏡系統(tǒng)18中。這樣的可變折射率單元140可以作為額外的設(shè)備結(jié)合在光束15的光程內(nèi)，或者可以形成透鏡14的一部分。通過(guò)改變單元內(nèi)的所述層的折射率，可以改變跨越光束15的相位分布，從而引入期望的球面象差。
通過(guò)將合適的控制信號(hào)(或多個(gè)控制信號(hào))施加到可變折射率單元140來(lái)引發(fā)期望的球面象差。例如，如果可變折射率單元140利用夾在各個(gè)電極之間的液晶層，那么將從電壓源提供合適的電壓信號(hào)以按照需要改變每層內(nèi)的折射率，從而提供期望的總球面象差。
通過(guò)提供利用可控可變折射率的重疊層的可變折射率單元，能夠提供這樣的單元，其中在小面積上發(fā)生折射率變化，而不需要具有可變折射率的單獨(dú)的相應(yīng)的小面積層。
權(quán)利要求
1.一種可變折射率單元(140)包括-光軸；-可控可變折射率的第一層(144a，146a，146a’)，以第一預(yù)定配置在橫切光軸的第一平面中延伸；和-可控可變折射率的不同的第二層(144b，146b，146b’)，以第二預(yù)定配置在橫切光軸的不同的第二平面中延伸；其中第二層(144b，146b，146b’)與第一層(144a，146a，146a’)重疊。
2.如權(quán)利要求1所述的單元，還至少包括可控可變折射率的第三層(144c，146c，146c’)，以第三預(yù)定配置在橫切光軸的第三平面中延伸，該第三層(144c，146c，146c’)與第一層(144a，146a，146a’)和第二層(144b，146b，146b’)兩者重疊。
3.如權(quán)利要求1或2所述的單元，其中可控可變折射率的每一層(144a-144e，146a-146e，146a’-146e’)包括具有可變折射率的材料層(144a-144e)，所述材料層(144a-144e)的每一個(gè)具有均勻的厚度。
4.如上述任一權(quán)利要求所述的單元，其中可控可變折射率的所述層(144a-144e，146a-146e，146a’-146e’)的每一個(gè)包括夾在兩個(gè)透明電極(146a-146e，146a’-146e’)之間的液晶層(144a-144e)，所述電極用于控制液晶層(144a-144e)的折射率，所述單元還包括用于控制施加到每個(gè)電極的電壓的控制單元。
5.如權(quán)利要求4所述的單元，其中所述電極(146a-146e，146a’-146e’)僅僅將一部分所述液晶層(144a-144e)夾在中間。
6.如上述任一權(quán)利要求所述的單元，其中所述層(144a-144e，146a-146e，146a’-146e’)的每一個(gè)是平行的。
7.如上述任一權(quán)利要求所述的單元，其中所述層(144a-144e，146a-146e，146a’-146e’)的每一個(gè)是環(huán)形的，每個(gè)環(huán)具有不同的尺寸。
8.如權(quán)利要求7所述的單元，其中每個(gè)環(huán)圍繞公共軸設(shè)置。
9.如上述任一權(quán)利要求所述的單元，其中所述單元被布置成通過(guò)控制所述層(144a-144e，146a-146e，146a’-146e’)的折射率來(lái)校正光學(xué)波陣面中的象差，從而向入射的光學(xué)信號(hào)提供預(yù)定相位輪廓。
10.一種光學(xué)設(shè)備(1)，包括如權(quán)利要求1所述的單元(140)。
11.如權(quán)利要求10所述的光學(xué)設(shè)備(1)，其中所述光學(xué)設(shè)備(1)是用于掃描光學(xué)記錄載體(2)的信息層(4)的光學(xué)掃描設(shè)備，所述設(shè)備(1)還包括用于生成輻射光束(12)的輻射源(11)和用于將輻射光束(12)會(huì)聚到信息層(4)上的物鏡系統(tǒng)(18)。
12.一種操作光學(xué)設(shè)備(1)的方法，所述光學(xué)設(shè)備(1)包括如權(quán)利要求1所述的單元(140)，所述方法包括-控制可控可變折射率的所述層(144a-144e，146a-146e，146a’-146e’)的至少其中一個(gè)的折射率，從而向入射光學(xué)信號(hào)提供預(yù)定的相位調(diào)制。
13.一種制造光學(xué)設(shè)備(1)的方法，所述方法包括-提供可控可變折射率的第一層(144a，146a，146a’)，其以第一預(yù)定配置在橫切光軸的第一平面中延伸；和-提供可控可變折射率的不同的第二層(144b，146b，146b’)，其以第二預(yù)定配置在橫切光軸的不同的第二平面中延伸，使得第二層與第一層重疊。
全文摘要
一種可變折射率單元(140)包括光軸和可控可變折射率的第一層(144a，146a，146a’)，第一層以第一預(yù)定配置在橫切光軸的第一平面中延伸?？煽乜勺冋凵渎实牟煌牡诙?144b，146b，146b’)以第二預(yù)定配置在橫切光軸的不同的第二平面中延伸。第二層(144b，146b，146b’)與第一層(144a，146a，146a’)重疊。
文檔編號(hào)G11B7/135GK1934630SQ200580009156
公開(kāi)日2007年3月21日 申請(qǐng)日期2005年3月8日 優(yōu)先權(quán)日2004年3月22日
發(fā)明者O·K·安德森, M·L·M·巴里斯特雷里 申請(qǐng)人:皇家飛利浦電子股份有限公司