應用于多層次全像儲存機構的導光組件的制作方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明是有關于一種光干涉模塊與應用此光干涉模塊的全像儲存裝置。
【背景技術】
[0002]隨著科技的發(fā)展，電子檔案所需的儲存用量也跟著上升。常見的儲存方式為記錄儲存介質(zhì)表面上磁或光的變化，以作為所儲存數(shù)據(jù)的依據(jù)，例如磁盤片或光盤片。然而，隨著電子檔案的所需儲存用量增加，全像儲存的技術發(fā)展開始受到注目。全像儲存技術為透過訊號光以及參考光產(chǎn)生干涉后，將影像數(shù)據(jù)寫入儲存介質(zhì)內(nèi)。當讀取數(shù)據(jù)時，透過重新照射參考光至儲存介質(zhì)(感光材料)上，即可產(chǎn)生影像數(shù)據(jù)。接著，所產(chǎn)生的影像數(shù)據(jù)再被檢測器讀取。也就是說，全像儲存技術的儲存容量與訊號光以及參考光具有相關性，而如何提升全像儲存技術的儲存容量亦成為當前相關領域研究的目標。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明涉及一種全像儲存裝置，其可利用角度多任務或位置多任務的方式將干涉圖案記錄在光儲存媒介中，藉以提升光儲存媒介之單位頁面所能儲存的數(shù)據(jù)量。此外，本發(fā)明之全像儲存裝置的馬達只需驅(qū)動光儲存媒介上的儲存區(qū)塊移動較大的距離，接著光干涉模塊可利用位置多任務的方式將多個干涉圖案形成于不同的位置上，藉以降低馬達的損耗。本發(fā)明所要解決的技術問題是提供一種光干涉模塊，包含物鏡、第一導光組件以及第二導光組件。物鏡用以投射訊號光至光儲存媒介。第一導光組件用以投射第一參考光至光儲存媒介，其中第一參考光與訊號光于光儲存媒介上產(chǎn)生第一干涉圖案。第二導光組件用以投射第二參考光至光儲存媒介，其中第二參考光與訊號光于光儲存媒介上產(chǎn)生第二干涉圖案，并且第一干涉圖案與第二干涉圖案并不相同。
[0004]優(yōu)選地，第一導光組件與第二導光組件圍繞物鏡設置。
[0005]優(yōu)選地，光干涉模塊更包含第一透鏡以及第二透鏡。第一透鏡配置于第一導光組件之出光口，且第一導光組件透過第一透鏡將第一參考光投射至光儲存媒介上。第二透鏡配置于第二導光組件之出光口，且第二導光組件透過第二透鏡將第二參考光投射至光儲存媒介上。
[0006]優(yōu)選地，第一導光于件朝第一方向投射第一參考光，第二導光組件朝第二方向投射第二參考光，第一方向與第二方向不同，且第一干涉圖案與第二干射圖案于光儲存媒介上至少部分重迭。
[0007]優(yōu)選地，光儲存媒介具有復數(shù)儲存層，第一干涉圖案與第二干涉圖案位于不同的儲存層。
[0008]優(yōu)選地，第一導光組件與第二導光組件為光導管。
[0009]本發(fā)明所要解決的另一個技術問題是提供一種全像儲存裝置，其包含全像光發(fā)射模塊、空間光調(diào)制器以及上述之光干涉模塊。全像光發(fā)射模塊提供訊號光與參考光?？臻g光調(diào)制器調(diào)制全像光發(fā)射模塊所提供之訊號光以及參考光。光干涉模塊接收空間光調(diào)制器調(diào)制之訊號光以及參考光。
[0010]優(yōu)選地，全像儲存裝置更包含馬達，用以改變物鏡與光儲存媒介之間的相對位置。
[0011]優(yōu)選地，馬達連接該光儲存媒介。
[0012]優(yōu)選地，所述全像光發(fā)射模塊包含雷射光源，用以提供訊號光與參考光。并且，全像儲存裝置更包含偏振分光鏡，用以接收訊號光與參考光，并將具有同一偏振態(tài)的訊號光與參考光導向空間光調(diào)制器。
[0013]優(yōu)選地，所述全像儲存裝置更包含透鏡組合。透鏡組合從空間光調(diào)制器接收訊號光以及參考光，并將訊號光以及參考光傳遞至物鏡、第一導光組件以及第二導光組件。
[0014]優(yōu)選地，所述全像儲存裝置更包含光學定位機構，用以提供定位光束至光儲存媒介上。
[0015]優(yōu)選地，所述全像儲存裝置更包含光學讀取機構，用以讀取光儲存媒介上儲存的數(shù)據(jù)。
[0016]優(yōu)選地，所述全像儲存裝置更包含四分之一波長相位延遲片，其配置于光學讀取機構與光儲存媒介之間的光傳遞路徑上。
[0017]本發(fā)明所要解決的再一個技術問題是提供一種光干涉模塊，其包含物鏡、復數(shù)個導光組件以及復數(shù)個透鏡。物鏡用以投射訊號光至光儲存媒介。復數(shù)個導光組件圍繞物鏡設置。復數(shù)個透鏡分別設置于復數(shù)個導光組件的出光口，其中復數(shù)個導光組件沿著不同的方向，并透過透鏡朝向光儲存媒介投射復數(shù)個參考光，且上述參考光分別與訊號光產(chǎn)生不同的干涉圖案于光儲存媒介上。
【附圖說明】
[0018]圖1繪示依照本發(fā)明一實施方式之全像儲存裝置的配置示意圖。
[0019]圖2繪示依照本發(fā)明一實施方式之光干涉模塊之俯視圖。
[0020]圖3繪示依照本發(fā)明一實施方式之光干涉模塊以角度多任務的方式投射參考光的示意圖。
[0021]圖4繪示依照本發(fā)明一實施方式之光干涉模塊以位置多任務的方式投射參考光的示意圖。
[0022]圖5繪示依照本發(fā)明一實施方式之光干涉模塊以位置多任務的方式投射參考光的示意圖。
[0023]圖6繪示依照本發(fā)明一實施方式中，經(jīng)空間光調(diào)制器調(diào)制后的參考光示意圖。
[0024]圖7繪示依照本發(fā)明一實施方式中，全像儲存裝置執(zhí)行讀取程序的示意圖。
[0025]99馬達；100全像儲存裝置；110全像光發(fā)射模塊；
120 空間光調(diào)制器;130、130a、130b、130c、130d 光干涉模塊;140 物鏡;150、151、152 導光組件；
150a、152a第一導光組件；150b、152b第二導光組件；
152c第三導光組件；152d第四導光組件；152e第五導光組件；152f第六導光組件；152g第七導光組件；
152h第八導光組件;160光儲存媒介;161、162、163、164儲存層;171第一透鏡；172第二透鏡；173第三透鏡；174第四透鏡；175第五透鏡；176第六透鏡；177第七透鏡；178第八透鏡；180極化分光鏡；190透鏡組合；200反射單元；210光學定位機構；211發(fā)光源；
212光傳感器；213第一分光鏡；214反射單元；
215第二分光鏡；216透鏡；220光學讀取機構；221感光組件；222透鏡；223光圈；224偏振分光鏡；
225四分之一波長相位延遲片；
S訊號光；R參考光；R1第一參考光；R2第二參考光；
BI亮區(qū)域；B2暗區(qū)域；M定位光束。
【具體實施方式】
[0026]以下將以圖式及詳細說明清楚說明本發(fā)明之精神，任何所屬技術領域中具有通常知識者在了解本發(fā)明之較佳實施例后，當可由本發(fā)明所教示之技術，加以改變及修飾，其并不脫離本發(fā)明之精神與范圍。
[0027]關于本文中所使用之“第一”、“第二”、…等，并非特別指稱次序或順位的意思，亦非用以限定本發(fā)明，其僅僅是為了區(qū)別以相同技術用語描述的組件或操作而已。
[0028]圖1為本發(fā)明一實施方式之全像儲存裝置的配置示
意圖。如圖1所示，全像儲存裝置100包含全像光發(fā)射模塊110、空間光調(diào)制器120以及光干涉模塊130。光干涉模塊130包含物鏡140以及復數(shù)個導光組件150。為了方便說明，圖1系繪示有兩個導光組件，分別為第一導光組件150a與第二導光組件150b。
[0029]請繼續(xù)參考圖1，全像光發(fā)射模塊110用以提供訊號光S與參考光R?？臻g光調(diào)制器120用以調(diào)制全像光發(fā)射模塊110堤供之訊號光S與參考光R。光干涉模塊130之物鏡140用以接收訊號光S并投射至一光儲存媒介160。光干涉模塊130之第一導光組件150a與第二導光組件150b用以接收參考光R并投射參考光R至光儲存媒介160。
[0030]如圖1，經(jīng)由空間光調(diào)制器120發(fā)射出來的訊號光S帶有特定信息，例如經(jīng)由空間光調(diào)制器120發(fā)射出來的訊號光S可具有明暗分布，用以代表I與O的訊號。第一導光組件150a投射之參考光R會與帶有某一特定信息的訊號光S在光儲存媒介160上干涉而產(chǎn)生第一干涉圖案。第二導光組件150b投射之參考光R會與帶有另一特定信息的訊號光S在光儲存媒介160上干涉而產(chǎn)生第二干涉圖案。如第I圖所示，由于第一導光組件150a投射之參考光R與第二導光組件150b投射之參考光R射向光儲存媒介160之方向不同，因此光儲存媒介160上的第一干涉圖案與第二干涉圖案并不相同，藉以達到角度多任務的儲存效果，而提升全像儲存技術的儲存容量。
[0031]如圖2，其為本發(fā)明一實施方式之光干涉模塊130a
之俯視圖。如圖所示，光干涉模塊130a包含復數(shù)個導光組件151，且復數(shù)個導光組件151圍繞物鏡140設置。在本實施方式中，復數(shù)個導光組件151緊貼于物鏡140之周圍，但本發(fā)明不以此為限。在其他實施方式中，復數(shù)個導光組件151可與物鏡140分開一段距離。
[0032]如圖3，其為本發(fā)明一實施方式之光干涉模塊130b以角度多任務的方式投射參考光的示意圖。如圖所示，復數(shù)個導光組件152可例如包含第一導光組件152a、第二導光組件152b、第三導光組件152c、第四導光組件152d、第五導光組件152e、第六導光組件152f、第七導光組件152g以及第八導光組件152h。第一至第八導光組件152a~152h由于所在的位置不同，因此可將參考光R分別從八個不同的方向投射至