專利名稱：用于處理玻璃基片或晶片的除灰裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于生產(chǎn)半導體器件的裝置，并且特別涉及一種用于處理玻璃基片或晶片的除灰裝置。
背景技術(shù)：
在生產(chǎn)半導體器件的晶片表面上，或生產(chǎn)液晶顯示器的玻璃基片表面上，應(yīng)用了光阻材料(photo-resist)來形成功能性薄膜的圖樣，其中薄膜的圖樣通過顯影方法形成，然后殘留在晶片或玻璃基片表面上的光阻材料通過除灰過程去除。
近年來，使用了等離子體除灰裝置，它將等離子體照射到光阻材料的被蝕刻的部分來使它們鈣化、并將它們汽化而使氣體排放到室外。如果使用這種裝置，清潔過程能夠不毀壞且污染未處理的部分，清洗過程可以簡化，并且利于周邊清潔。由此，最近等離子體除灰裝置逐漸被引入處理用于有源矩陣顯示用的基片的過程中。
圖1大致示出了用于液晶顯示器的玻璃基片的傳統(tǒng)除灰裝置，而圖2是沿圖1中I-I線截取的剖視圖。
用于液晶顯示器的玻璃基片的傳統(tǒng)除灰裝置，在其中設(shè)置有多個除灰室10和用于在除灰室10之間傳輸玻璃基片13的傳輸機構(gòu)(未示出)。同樣，緩沖室(buffer chamber)15設(shè)置在除灰室10之間的平面上。下電極17設(shè)置在除灰室10中，在下電極17上安裝有玻璃基片13，用于與上電極一起形成電場，其中上電極將在下文說明。玻璃基片13由傳輸機構(gòu)通過形成在除灰室10一側(cè)上的插入開口安裝在下電極17上。
在圖1中，箭頭的方向表示玻璃基片13通過緩沖室15插入到除灰室10中的插入方向。
下面將說明通過使用傳統(tǒng)的除灰裝置實現(xiàn)除灰的過程，其中光阻材料11施加到玻璃基片13的表面上。
首先，玻璃基片13插入到除灰室10中，用于通過傳輸機構(gòu)(未示出)，如傳輸臂進行除灰處理，并且安裝到下電極17上，其中光阻材料11施加到玻璃基片13的表面上。
然后，當玻璃基片13的安裝完成時，傳輸機構(gòu)從除灰室中拉出。然后除灰氣體從設(shè)置在除灰室10外的供氣管19a和供氣部件19提供，并且通過氣體分布盤(gas diffusion plate)21均勻分布到上電極23的整個表面上。
然后，當電源25合閘時，電場形成在上電極23與下電極17之間，并且氣體沿電場從上電極23到下電極17的方向上(圖2中的虛線方向)流動。結(jié)果，施加到玻璃基片13表面上的光阻材料11被汽化，并從排氣口27排放到除灰室10外。
在圖中，附圖標記10a指的是除灰室10的外壁。
然而，存在這樣的問題，即上述的傳統(tǒng)除灰裝置本身復(fù)雜、體積龐大并且昂貴。特別地，因為除灰室的配置由于緩沖室而受限制，所以有必要保證相對大的工作空間，并且除灰室的內(nèi)部結(jié)構(gòu)復(fù)雜，而使裝置的生產(chǎn)和成本處于劣勢。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明正是為了解決上面的問題，這樣，本發(fā)明的一個目的是通過省略傳統(tǒng)除灰裝置中的設(shè)置在除灰室之間的緩沖室，來簡化除灰裝置的結(jié)構(gòu)。
本發(fā)明的另一個目的是通過垂直地疊置除灰室來提高空間利用率，并且通過連接在除灰過程前后使用的各種設(shè)備，而能夠?qū)崿F(xiàn)它們的連續(xù)處理。
本發(fā)明的又一個目的是通過使用除灰室的外壁作為除灰室的上電極，并設(shè)置具有縫隙或管道形狀的供氣源，來簡化整個結(jié)構(gòu)。
為了實現(xiàn)上述目的，根據(jù)本發(fā)明的除灰裝置包括下電極，其上安裝有玻璃基片或晶片，其中光阻材料施加到玻璃基片或晶片上；上電極，用于與所述下電極一起形成電場；氣縫或氣管，用于供氣到所述除灰室內(nèi)；安全蓋，設(shè)置在所述上電極上，用于與所述除灰室的外壁一起形成密封環(huán)境；電源，用于在所述上電極與所述下電極之間形成電場；絕緣體，插入所述上電極與所述除灰室的外壁之間，用于防止彼此之間的電接觸；和排放口，用于將在所述除灰室中汽化的光阻材料排放到所述除灰室外。
除灰的對象最好是玻璃基片。
同樣，除灰的對象最好是晶片。
同樣，通過氣管裝置將除灰氣體從供氣部件提供到除灰室內(nèi)。


本發(fā)明的實施例將參考附圖進行說明，其中圖1示出了用于液晶顯示器玻璃基片的傳統(tǒng)除灰裝置；圖2是沿圖1中I-I線截取的剖視圖；圖3示出了本發(fā)明的用于液晶顯示器玻璃基片的除灰裝置；并且圖4是本發(fā)明的用于液晶顯示器玻璃基片的單個除灰裝置的縱向剖視圖。
具體實施例方式
現(xiàn)在將參考附圖具體說明本發(fā)明。
在下面的說明中，生產(chǎn)半導體器件中的晶片被認為是與生產(chǎn)液晶顯示器中的玻璃基片相同的東西，這樣，將不再說明用于處理晶片的除灰裝置。
圖3大致示出了根據(jù)本發(fā)明的用于液晶顯示器玻璃基片的除灰裝置。如圖3所示，本發(fā)明的除灰裝置具有垂直疊置的結(jié)構(gòu)。省略傳統(tǒng)除灰裝置中的緩沖室是可行的。上除灰室100和下除灰室101以這樣的狀態(tài)連續(xù)疊置，即它們安裝在舉升架(lift)300上，用于打開上除灰室與下除灰室。對于在小空間中保證左、右的工作空間，并且在除灰處理前后，通過連接如蝕刻過程、清洗過程及相似的過程中使用的各種設(shè)備，而能夠連續(xù)進行處理，這個結(jié)構(gòu)是非常有利的。
附圖標記200與201指的是安全蓋，與除灰室的外壁100a和101a一起形成密封環(huán)境，而附圖標記400指的是支持架。
圖4是圖3的單元除灰裝置的縱向剖視圖。如圖4所示，本發(fā)明的單元除灰裝置包括下電極117，其上安裝有玻璃基片113，具有形成圖樣的光阻材料111施加到玻璃基片上；上電極123，用于與下電極117一起形成電場；氣縫或氣管220，用于供氣到除灰室100內(nèi)；安全蓋200，設(shè)置在上電極123上，用于與除灰室的外壁100a一起形成密封環(huán)境；電源125，用于在上電極123與下電極117之間形成電場；絕緣體210，插入上電極123與除灰室的外壁100a之間，用于防止彼此之間的電接觸；和排放口127，用于將在除灰室中汽化的光阻材料排放到所述除灰室100外。
下面將說明除灰過程，其中施加到玻璃基片113表面上的光阻材料111通過使用根據(jù)本發(fā)明的除灰裝置而去除。
本發(fā)明的除灰裝置具有這樣的形狀，其中具有相同結(jié)構(gòu)的多個除灰室垂直疊置，在下文將說明在單元除灰室中進行的除灰過程。
首先，玻璃基片113插入除灰室100中，用于通過傳輸機構(gòu)裝置(未示出)如傳輸臂進行除灰過程，并且玻璃基片113安裝在下電極117上，其中光阻材料111施加到玻璃基片113的表面上。
接著，當玻璃基片113的安裝完成時，傳輸機構(gòu)從除灰室100中拉出。然后，除灰氣體從設(shè)置在除灰室100外的供氣部件(未示出)通過氣縫220提供，并且均勻分布(圖4中的虛線箭頭方向)到除灰室100中的整個表面上和上電極123的下部。
此時，氣縫220形成在除灰室100的一個外壁上，并且可以被氣管代替。這樣，與傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)相比，氣縫220具有簡單結(jié)構(gòu)，使除灰氣體協(xié)調(diào)地施加到上電極123與下電極117之間的空間，而在傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)中，氣體分布盤設(shè)置在上電極23上以均勻分布除灰氣體。
然后，當電源125合閘時，電場形成在上電極123與下電極117之間，并且氣體沿著電場從上電極123到下電極117的方向上流動。結(jié)果，施加到玻璃基片113表面上的光阻材料111被蒸發(fā)，并且通過排氣口127排放到室外。
在圖中，絕緣體210插入到上電極123與除灰室的外壁100a之間，用于防止彼此之間的電接觸。因為，在本發(fā)明中，上電極123作為除灰室100的上外壁，如果兩個室彼此接觸，通過電源的合閘而防止了兩個電極123與117之間形成電場。絕緣材料不受限制，只要它具有通常的絕緣功能。
同樣，如上所述，安全蓋200用于與除灰室100的外壁100a一起形成除灰室中的密封環(huán)境。安全蓋200由與外壁100a相同的材料形成，或具有與外壁100a相似的強度，并且安全蓋200具有保護除灰室100免受外部沖擊的功能。它不受特殊限制。
與傳統(tǒng)技術(shù)相比，處理順序具有下述差異。
(1)省略了緩沖室傳統(tǒng)地，由于緩沖室水平地設(shè)置在各自的除灰室之間，在小空間中工作是難于實現(xiàn)的，但根據(jù)本發(fā)明，省略了緩沖室，從而可以保證相對大的工作空間。
(2)除灰室具有垂直疊置的結(jié)構(gòu)傳統(tǒng)地，多個除灰室水平地設(shè)置，但根據(jù)本發(fā)明，因為省略了緩沖室，并且多個除灰室垂直地疊置，可以保證相對大的工作空間，并且在除灰處理之間或此后的過程中，通過連接處理過程中使用的各種設(shè)備，能夠連續(xù)地進行處理。
(3)多功能電極傳統(tǒng)地，上電極單獨設(shè)置在除灰室中，但根據(jù)本發(fā)明，因為上電極構(gòu)成了除灰室的一個外壁，所以上電極導致了除灰室結(jié)構(gòu)的簡化，同時也具有形成電場的必要功能。
(4)省略氣體分布盤傳統(tǒng)地，氣體分布盤用于均勻分布除灰氣體，其中除灰氣體從外部供氣源進入到除灰室內(nèi)，但在本發(fā)明中，通過設(shè)置氣縫或氣管，而通過除灰室的一側(cè)和上電極的下部直接提供除灰氣體，從而簡化結(jié)構(gòu)。
如上所述，本發(fā)明的優(yōu)選實施例涉及用于液晶顯示器玻璃基片的除灰裝置，盡管沒有在附圖中示出，但本發(fā)明可以用作處理半導體晶片的除灰裝置。由此，除了除灰對象不同，結(jié)構(gòu)、功能和導致的優(yōu)點彼此相等同，所以將不再說明用于處理晶片的除灰裝置。
根據(jù)本發(fā)明的除灰裝置，省略緩沖室來簡化結(jié)構(gòu)，通過垂直地疊置除灰室而提高了空間利用率，并且通過在除灰處理前后，通過連接處理過程中使用的各種設(shè)備，能夠連續(xù)進行處理。
同樣，根據(jù)本發(fā)明，因為除灰室的外側(cè)用作除灰室的上電極，并且設(shè)置了縫隙或管道類型的供氣源來簡化整個結(jié)構(gòu)，可以實現(xiàn)便宜并具有提高處理效率的除灰裝置。
權(quán)利要求
1.一種除灰裝置，包括下電極，在除灰室中下電極上安裝有除灰的對象，其中光阻材料施加到除灰的對象上；上電極，其構(gòu)成所述除灰室的外壁，用于與所述下電極一起形成電場；氣縫，其設(shè)置在所述除灰室內(nèi)的一側(cè)并位于所述上電極之下，用于從供氣部件供氣到所述除灰室內(nèi)，其中供氣部件設(shè)置在所述除灰室外；安全蓋，其設(shè)置在所述上電極上，用于與所述除灰室的外壁一起在所述除灰室中形成密封環(huán)境；電源，其用于在所述上電極與所述下電極之間形成電場；絕緣體，其插入所述上電極與所述除灰室的外壁之間，用于防止彼此之間的電接觸；和排氣口，其將所述除灰室中汽化的光阻材料排放到所述除灰室外。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的除灰裝置，其特征在于，所述除灰的對象是玻璃基片。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的除灰裝置，其特征在于，所述除灰的對象是晶片。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的除灰裝置，其特征在于，利用氣管裝置從所述供氣部件將除灰氣體供給到所述除灰室內(nèi)。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種用于處理玻璃基片或晶片的除灰裝置,包括:下電極,其上安裝有玻璃基片或晶片,其中光阻材料施加到玻璃基片或晶片上;上電極,用于與下電極一起形成電場;氣縫或氣管,用于供氣到除灰室內(nèi);安全蓋,設(shè)置在上電極上,用于與除灰室的外壁一起形成密封環(huán)境;電源,用于在上電極與下電極之間形成電場;絕緣體,插入上電極與除灰室的外壁之間,用于防止彼此之間的電接觸;和排氣口,將除灰室中汽化的光阻材料排放到除灰室外。
文檔編號H01L21/3065GK1342999SQ01124819
公開日2002年4月3日 申請日期2001年6月29日 優(yōu)先權(quán)日2000年6月29日
發(fā)明者裵禹慶 申請人:株式會社D.M.S