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      鍍錫制品及其制造方法

      文檔序號(hào):6873543閱讀:266來(lái)源:國(guó)知局
      專利名稱:鍍錫制品及其制造方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明廣義上涉及一種鍍錫制品和其制造方法。更具體地,本發(fā)明涉及一種用作可嵌入的連接端點(diǎn)等材料的鍍錫制品及其制造方法。
      背景技術(shù)
      鍍錫制品用作可嵌入的連接端點(diǎn)的常規(guī)材料,其中鍍錫層形成于導(dǎo)電材料例如銅或銅合金的最外層。具體地說(shuō),鍍錫制品具有較小的接觸電阻,并用于汽車等的連接端點(diǎn)材料。
      然而其中的問(wèn)題是,鍍錫制品較軟,在作為可嵌入的連接端點(diǎn)相互連接時(shí)較易形變,因此它們?cè)谇度霑r(shí)摩擦系數(shù)很高。此外,由于近來(lái)使用于汽車的連接端點(diǎn)具多極端點(diǎn),在安裝時(shí)施加的嵌入應(yīng)力與多極端點(diǎn)的個(gè)數(shù)成比例增加,因此產(chǎn)生了工作負(fù)荷增加的問(wèn)題。
      為了消除這個(gè)問(wèn)題,人們將通過(guò)用反流處理來(lái)處理鍍錫材料而獲得的反流處理鍍錫制品用于汽車等的連接端點(diǎn)的典型材料。通過(guò)降低作為軟層的錫涂層的厚度,并用回流處理形成一層硬錫合金層作為下層,降低了這類反流處理鍍錫制品的摩擦系數(shù)。此外,人們提出,在電導(dǎo)底層上,通過(guò)電鍍形成復(fù)合材料涂層以提高鍍錫制品的機(jī)械耐磨性,該復(fù)合材料涂層在含錫作為主要成份的金屬基質(zhì)中包含耐磨性或潤(rùn)滑性固體粒子(參見(jiàn)如日本專利公開(kāi)公告昭54-45634,昭53-11131和昭63-145819),并提出這類復(fù)合涂層可施于連接端點(diǎn)上(參見(jiàn)如,日本專利未審查公開(kāi)號(hào)2001-526734(PCT/US96/19768翻譯件的國(guó)家公開(kāi)))。人們也提出在導(dǎo)電底層上形成一層含錫或錫/鉛和分散有石墨的涂層,來(lái)形成具有優(yōu)異耐磨性的導(dǎo)電涂層(參見(jiàn)如日本專利公開(kāi)公告昭61-227196)。
      然而,用典型回流處理的鍍錫制品具有較高的摩擦系數(shù),一般在0.2-0.25,而用上述方法制得的鍍錫制品也有相對(duì)較高的摩擦系數(shù)。具體地,日本專利公開(kāi)公告昭61-227196中提供的含錫和石墨的復(fù)合涂層的摩擦系數(shù)約為0.2。因此,如果將這類鍍錫制品作為可嵌入連接端點(diǎn)的材料,會(huì)有一個(gè)問(wèn)題,即對(duì)其嵌入的應(yīng)力會(huì)增加。
      發(fā)明概述因此本發(fā)明的一個(gè)目的就是消除上述問(wèn)題,并提供一種具有很低的摩擦系數(shù)的鍍錫制品,以及它的制造方法。
      為了達(dá)到上述和其它目的,發(fā)明者經(jīng)過(guò)辛勤研究發(fā)現(xiàn),如果使用含碳顆粒和芳香羰基化合物的鍍錫溶液在底層上電鍍形成在錫層中含碳粒子的復(fù)合材料涂層,就可以制造一種具有很低的摩擦系數(shù)的鍍錫制品。
      根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面,提供一種用于制造鍍錫制品的方法,該方法包括以下步驟在鍍錫溶液中加入碳粒子和芳香羰基化合物;在鍍錫溶液中電鍍一層底層,所述鍍錫溶液中含有碳粒子和芳香羰基化合物,從而在所述底層上形成在錫層中包含碳粒子的復(fù)合材料涂層。在該用于制造鍍錫制品的方法中,芳香羰基化合物優(yōu)選芳香醛或芳香酮。
      根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面,鍍錫制品包括底層;復(fù)合材料涂層,其在錫層中含有碳粒子,涂層形成于底層上,其中該鍍錫制品相對(duì)另一個(gè)同類鍍錫制品的摩擦系數(shù)不大于0.18。優(yōu)選地,在該鍍錫制品中,摩擦系數(shù)并不大于0.13,涂層的光澤度不小于0.29。涂層優(yōu)選厚度為0.5-10微米,涂層中的含碳量?jī)?yōu)選在0.1-1.5wt%。鍍錫制品優(yōu)選具有不大于1.0毫歐的接觸電阻。優(yōu)選在該涂層表面上形成多個(gè)彼此間隔的凸起,每個(gè)凸起優(yōu)選含有碳顆粒。另外,所述鍍錫制品的錫基質(zhì)的定向面(orientation plane)優(yōu)選為(101)面。
      根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面,連接端點(diǎn)包括凹端點(diǎn)(a female terminal);和適合凹端點(diǎn)的凸端點(diǎn)(a male terminal),其中,接觸其它端點(diǎn)的凹和凸端點(diǎn)中的至少一個(gè)的至少一部分由上述鍍錫制品制造。
      根據(jù)本發(fā)明,可以生產(chǎn)具有很低摩擦系數(shù)的鍍錫制品。該鍍錫制品可用于汽車等的連接端點(diǎn)的材料,即使連接端點(diǎn)具有大量的多極端點(diǎn)。


      通過(guò)以下給出的詳細(xì)說(shuō)明和本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的附圖,可以進(jìn)一步理解本發(fā)明。然而,附圖并不用于將本發(fā)明限制至一具體實(shí)施例,而是僅用來(lái)解釋和理解。
      在附圖中圖1圖示實(shí)施例和對(duì)比實(shí)施例中涂層的厚度和摩擦系數(shù)的關(guān)系;圖2圖示實(shí)施例和對(duì)比實(shí)施例的X射線衍射圖;圖3是實(shí)施例2中鍍錫制品表面的一幅掃描電子顯微鏡照片(SEM照片);圖4是實(shí)施例4中鍍錫制品表面的一幅SEM照片;
      圖5是實(shí)施例5中鍍錫制品表面的一幅SEM照片;圖6是對(duì)比實(shí)施例1的鍍錫制品表面的一幅SEM照片;圖7是對(duì)比實(shí)施例2的鍍錫制品表面的一幅SEM照片;圖8是對(duì)比實(shí)施例3的鍍錫制品表面的一幅SEM照片;圖9是實(shí)施例2的鍍錫制品截面的一幅SEM照片;圖10是對(duì)比實(shí)施例1的鍍錫制品截面的一幅SEM照片;圖11示意使用本發(fā)明鍍錫制品的連接端點(diǎn)的圖例。
      具體實(shí)施例方式
      本發(fā)明鍍錫制品的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方式中,用含碳顆粒和芳香羰基化合物的鍍錫溶液在底層上電鍍形成在錫層中含碳粒子的復(fù)合材料涂層。
      所述鍍錫溶液優(yōu)選烷芳基磺酸鍍錫溶液。所述碳粒子可以是任何碳粒子,并優(yōu)選鱗狀(或薄片狀)或泥狀石墨粒子。芳香羰基化合物優(yōu)選芳香醛或芳香酮。
      碳粒子在電鍍液中的濃度優(yōu)選1-80克/升。若其小于1克/升,碳粒子不足以形成復(fù)合鍍層的表面結(jié)構(gòu),若其超過(guò)80克/升,則沒(méi)有引發(fā)鍍焊(plating burning)的電流。電鍍的電流密度優(yōu)選5-15安培/分米2。若其小于5安培/分米2,產(chǎn)率很低,若其超過(guò)15安培/分米2,則引發(fā)鍍焊。此外,本發(fā)明的鍍錫制品的優(yōu)選實(shí)施方式的特征在于最外層表面結(jié)構(gòu),而并不受下層影響。因此,下層電鍍材料可依照底層的種類和其用途,選擇自各種下層電鍍材料,例如錫、銅和鎳。
      通過(guò)上述生產(chǎn)本發(fā)明鍍錫制品的方法的優(yōu)選實(shí)施方式,可以生產(chǎn)鍍錫制品,其中在底層上形成錫層中含0.1-1.5wt%碳粒子的復(fù)合材料涂層,所述涂層相對(duì)同類鍍錫制品的摩擦系數(shù)為0.20或更小,優(yōu)選0.13或更小,接觸電阻為1.0毫歐或更小,光澤度為0.29或更高。
      本發(fā)明鍍錫制品優(yōu)選實(shí)施方式中的涂層厚度優(yōu)選0.5-10微米,更優(yōu)選1-10微米。如果涂層小于0.5微米,隨使用壽命減退的接觸電阻通過(guò)錫氧化等方式而增加,因此作為連接端點(diǎn)重要功能的連接可靠性變差。另一方面來(lái)說(shuō),如果涂層厚度超過(guò)10微米,產(chǎn)率則較差。
      在本發(fā)明鍍錫制品優(yōu)選實(shí)施方式中的涂層表面,形成多個(gè)彼此間隔的島狀凸起。每個(gè)凸起含有碳粒子。通常認(rèn)為,這種島狀凸起的形成是通過(guò)在鍍錫溶液中加入芳香羰基化合物,例如芳香醛或芳香酮。即,通常認(rèn)為,如果芳香羰基化合物加入鍍錫溶液中,碳粒子在鍍錫溶液中的分散狀態(tài)成為微弱凝聚態(tài),從而形成碳粒子島狀物分散于錫基質(zhì)的涂層,因此島狀凸起形成于鍍錫制品涂層的表面。常規(guī)含碳粒子作為復(fù)合材料的涂層中,加入各種濕潤(rùn)劑以充分散碳粒子形成碳粒子基本均勻地分散于錫基質(zhì)的涂層。如果如本發(fā)明鍍錫制品的優(yōu)選實(shí)施方式,每個(gè)彼此間隔的島狀凸起含有碳粒子,則可以形成一層具有更低摩擦系數(shù)的涂層。即,據(jù)認(rèn)為,如果島狀凸起如此形成于鍍錫制品涂層表面,表面上作為接觸表面的接觸端點(diǎn)數(shù)量則減少,且如果每個(gè)凸起含有的碳粒子為潤(rùn)滑粒子時(shí),摩擦?xí)r的摩擦系數(shù)則減小。如果像常規(guī)方法一樣使用含碳粒子但不含芳香羰基化合物的鍍錫溶液,則無(wú)法形成上述島狀凸起,且摩擦系數(shù)高于本發(fā)明鍍錫制品的優(yōu)選實(shí)施方式,因?yàn)樘剂W踊揪鶆蚍稚⒂阱冨a制品的表面。
      本發(fā)明鍍錫制品的優(yōu)選實(shí)施方式中,錫基質(zhì)的定向面為(101)面。據(jù)認(rèn)為涂層含細(xì)晶粒,因此涂層的特征因晶粒生長(zhǎng)方向而極大地改變。因此,據(jù)認(rèn)為如果作為復(fù)合材料的碳粒子的晶體定向以及晶體顆粒在錫基質(zhì)中的定向是最佳的,則錫基質(zhì)容易因摩擦變形,摩擦系數(shù)在結(jié)合碳粒子的潤(rùn)滑性后極大降低。此外,在含錫和石墨微粒的常規(guī)復(fù)合電鍍制品中,錫基質(zhì)的定向面為(400)和(211)面。據(jù)認(rèn)為,這類錫基質(zhì)定向面為(101)面的涂層通過(guò)在鍍錫溶液中加入芳香羰基化合物例如芳香醛和芳香酮而形成。即認(rèn)為,如果芳香羰基化合物加入至鍍錫溶液,在鍍錫溶液中分散態(tài)的碳粒子成為呈弱聚集態(tài),從而形成一涂層,其中錫基質(zhì)的定向面為(101)面。在碳原子作為復(fù)合材料分散于錫基質(zhì)中的傳統(tǒng)涂層中,加入多種濕潤(rùn)劑,以充分分散碳粒子來(lái)形成涂層,其中錫基質(zhì)的定向面為(400)和(211)面。然而,可以通過(guò)形成錫基質(zhì)定向面為(101)面的涂層來(lái)形成一個(gè)具有更低摩擦系數(shù)的涂層,如本發(fā)明鍍錫制品優(yōu)選實(shí)施方式。即認(rèn)為,摩擦?xí)r的摩擦系數(shù)由于如此形成的錫基質(zhì)定向面為(101)面的涂層而降低。如象常規(guī)方法一樣使用含碳粒子但無(wú)芳香羰基化合物的鍍錫溶液,并不能形成上述錫基質(zhì)定向面為(101)面的涂層,因此摩擦系數(shù)就高于本發(fā)明鍍錫制品的優(yōu)選實(shí)施方式中的摩擦系數(shù)。
      如圖11所示,如果連接端點(diǎn)的凹端點(diǎn)10和配合入凹端點(diǎn)10的凸端點(diǎn)12中的至少一個(gè)是用本發(fā)明的鍍錫制品制成的,則可以提供一種摩擦系數(shù)很低的連接端點(diǎn)。這種情況下,凹端點(diǎn)10和接觸另一個(gè)端點(diǎn)的凸端點(diǎn)12中至少一個(gè)的僅一部分可能是用本發(fā)明鍍錫制品制成的。
      以下詳細(xì)闡述本發(fā)明鍍錫制品的實(shí)施例。
      實(shí)施例1-5首先,制備含60克/升金屬錫的鍍錫溶液(含600毫升/升烷芳基磺酸鹽(YUKENINDUSTRY CO.,LTD.生產(chǎn)的METASU SM)作為金屬錫鹽)和113克/升的游離酸(含84毫升/升烷芳基磺酸(YUKEN INDUSTRY CO.,LTD.生產(chǎn)的METASU SM)作為游離酸)。在鍍錫溶液中加入用于鍍錫的30毫升/升表面活性劑(YUKEN INDUSTRY CO.,LTD.生產(chǎn)的METASU LSA-M)。并在其中加入平均粒徑為3.4微米的20克/升的鱗狀(或薄片狀)石墨粒子(SEC公司生產(chǎn)的石墨SGP-3),使其分散。另外,加入30毫升/升的安息香醛作為芳香羰基化合物。此外,用以下方法獲得石墨的平均粒徑。首先,在50克含0.2wt%六偏磷酸鈉的溶液中分散0.5克的石墨粒子,并用超聲波進(jìn)一步分散。然后,用激光散射粒徑分布測(cè)量裝置測(cè)量石墨粒子粒徑以體積為基準(zhǔn)的分布,累積分布中粒徑為50%的定為平均粒徑。
      將銅-鎳-錫合金的每個(gè)厚度0.25毫米的底層(Dowa Mining有限公司制的NB-109EH)放入含上述鍍錫溶液的鍍錫浴中,在25℃溫度下和10安/分米2電流密度下電鍍,使用錫陽(yáng)極作為陽(yáng)極,同時(shí)用攪拌器攪拌溶液以制成鍍錫制品,其中,形成如表1所示厚度的錫和石墨顆粒的復(fù)合涂層。此外,復(fù)合涂層厚度通過(guò)用于測(cè)量厚度的熒光X射線光譜測(cè)定方法測(cè)定的八個(gè)點(diǎn)的厚度平均值來(lái)計(jì)算。
      在如此制得的鍍錫制品用超聲波清洗除去表面附著的石墨粒子后,計(jì)算鍍錫制品復(fù)合涂層的碳含量,并計(jì)算鍍錫制品的摩擦系數(shù)。還要測(cè)量鍍錫制品的接觸電阻、光澤度和硬度。此外,觀測(cè)鍍錫制品表面的外形,并評(píng)價(jià)錫基質(zhì)的定向。
      測(cè)試部件從所得的鍍錫制品(包含底片)切割下,用于錫和碳的各自的分析。錫在測(cè)試部件中的重量含量(以重量計(jì)的X%)通過(guò)等離子光譜分析方法借助ICP儀器(Jarrell Ash公司生產(chǎn)的IRIS/AR)來(lái)獲得,測(cè)試部件中碳的重量含量(以重量計(jì)的Y%)通過(guò)燃燒紅外線吸收分析方法借助碳/硫微量分析儀(HORIBA有限公司生產(chǎn)的EMIA-U510)來(lái)獲得。而后,錫涂層中碳的重量含量計(jì)作Y/(X+Y)。這樣,實(shí)施例1-5中碳的重量含量在0.6-1.2wt%范圍內(nèi)。
      獲得從所得各鍍錫制品切割下的測(cè)試部件之間的摩擦系數(shù),作為每個(gè)鍍錫制品的摩擦系數(shù)。測(cè)試部件之間的摩擦系數(shù)(μ)計(jì)算如下??虊?個(gè)部件的其中一個(gè),將其作為刻壓機(jī)(直徑3毫米),另一個(gè)部件用作評(píng)估樣品。在用3N的力施于評(píng)估樣品推刻壓機(jī)時(shí),測(cè)壓元件(load cell)用于以60毫米/分鐘的移動(dòng)速率滑動(dòng)刻壓機(jī)。于是,測(cè)量水平施于的力(F),用于由μ=F/N計(jì)算系數(shù)μ。這樣,在實(shí)施例1-5中摩擦系數(shù)在0.09-0.14范圍內(nèi)。
      通過(guò)基于JIS C5402的交替四點(diǎn)方法(alternating four-terminal method),在200毫伏的開(kāi)放式電壓、10毫安電流下將滑動(dòng)負(fù)荷從0gf增至100gf,每個(gè)鍍錫制品的接觸電阻以100gf的滑動(dòng)負(fù)荷來(lái)測(cè)量。這樣,實(shí)施例1-5的接觸電阻在0.5-1.0毫歐范圍內(nèi)。
      每個(gè)鍍錫制品的發(fā)光反射密度通過(guò)光澤測(cè)量計(jì)(Nippon Denshoku Kogyo有限公司生產(chǎn)的光密度測(cè)量計(jì)ND-1)測(cè)量,作為其光澤度。這樣,實(shí)施例1-5的光澤度在0.29-0.77范圍內(nèi)。
      每個(gè)鍍錫制品的維氏硬度值以顯微硬度計(jì)(Matuzaw Seiki有限公司生產(chǎn)的顯微硬度計(jì)DMH-1)測(cè)量,作為其硬度。這樣,實(shí)施例1-5中維氏硬度和涂層厚度一致,在Hv16-Hv97范圍內(nèi)。
      每件鍍錫制品的表面形狀以掃描電子顯微鏡(SEM)觀察得到。這樣,在實(shí)施例1-5中鍍錫制品的表面形成大量的島狀凸起。
      至于錫基質(zhì)的定向,用X射線衍射儀(XRD)(Rigaku公司生產(chǎn)的RAD-rB)測(cè)量X射線衍射的峰值,錫基質(zhì)最強(qiáng)峰值的面定向定為涂層晶體的定向。此外,將Cu-Kα用作一容器,測(cè)量在50千伏和100毫安下進(jìn)行。此外還使用閃爍計(jì)數(shù)器、廣角測(cè)角儀和單晶分光儀。掃描范圍2Θ/Θ為10-90°,階寬度為0.05°。掃描模式為FT,采樣時(shí)間為1.00秒。因此,實(shí)施例1-5中錫基質(zhì)的定向面為(101)面。
      實(shí)施例6用實(shí)施例1-5相同方法制備鍍錫制品,除了采用平均粒徑為5微米的鱗狀石墨粒子作為碳粒子(SEC公司生產(chǎn)的SGP-5石墨),涂層厚度為1.0微米。用實(shí)施例1-5相同方法,計(jì)算得鍍錫制品的涂層的碳含量,并計(jì)算得其摩擦系數(shù)。此外還測(cè)量鍍錫制品的接觸電阻、光澤度和硬度。而且,觀測(cè)鍍錫制品表面的形狀,并評(píng)價(jià)其錫基質(zhì)的定向。這樣,含碳量為以重量計(jì)1.2%,摩擦系數(shù)為0.13。此外,接觸電阻為0.8毫歐,光澤度為1.09,維氏硬度為HV65。此外,在表面形成了大量島狀凸起,錫基質(zhì)的定向面為(101)面。
      實(shí)施例7用實(shí)施例6相同方法制備鍍錫制品,除了采用平均粒徑4微米的泥狀石墨粒子作為碳粒子(Nippon Graphite有限公司生產(chǎn)的GRAPHITE HOP)。用實(shí)施例1-5相同方法,計(jì)算得鍍錫制品的涂層的碳含量,并計(jì)算得其摩擦系數(shù)。此外還測(cè)量鍍錫制品的接觸電阻、光澤度和硬度。再觀測(cè)鍍錫制品表面的形狀,并評(píng)價(jià)其錫基質(zhì)的定向。這樣,含碳量為以重量計(jì)0.7%,摩擦系數(shù)為0.13。此外,接觸電阻為0.9毫歐,光澤度為0.72,維氏硬度為HV66。此外,在表面形成了大量島狀凸起,錫基質(zhì)的定向面為(101)面。
      對(duì)比實(shí)施例1-3用實(shí)施例1-5相同的方法制備鍍錫制品,除了如日本專利公開(kāi)公告昭61-227196所述地使用含有硫酸亞錫的鍍錫浴(tin plating bath)(金屬錫26克/升)、140克/升硫酸、5克/升的酚、1克/升的二丁基苯胺和平均粒徑3.4微米的鱗狀石墨粒子,且涂層厚度分別為1.0微米、5.0微米和10微米。此外,未在這些對(duì)比實(shí)施例的鍍錫浴中加入芳香羰基化合物。用實(shí)施例1-5相同方法,計(jì)算得鍍錫制品的涂層的碳含量,并計(jì)算得其摩擦系數(shù)。此外還測(cè)量鍍錫制品的接觸電阻、光澤度和硬度。再觀測(cè)鍍錫制品表面的形狀,并評(píng)價(jià)其錫基質(zhì)的定向。這樣,含碳量以重量計(jì)為0.5%,摩擦系數(shù)為0.21-0.27。此外,接觸電阻為0.4-0.6毫歐,光澤度為0.19-0.22,維氏硬度為HV10-68,同涂層厚度一致。此外,涂層表面粗糙,碳粒子均勻分散于其表面。錫基質(zhì)的定向面為(211)和(400)面。
      對(duì)比實(shí)施例4-6用實(shí)施例1-5相同的方法制備鍍錫制品,除了使用不含任何添加劑的用于光亮電鍍的鍍錫浴,涂層厚度分別為1.0微米、5.0微米和10微米。此外,未在這些對(duì)比實(shí)施例的鍍錫浴中加入芳香羰基化合物。用實(shí)施例1-5相同的方法,計(jì)算得鍍錫制品的涂層的碳含量,并計(jì)算得其摩擦系數(shù)。此外還測(cè)量鍍錫制品的接觸電阻、光澤度和硬度。再觀測(cè)鍍錫制品表面的形狀,并評(píng)價(jià)其錫基質(zhì)的定向。這樣,含碳量以重量計(jì)為0.7-0.9%,摩擦系數(shù)為0.22-0.28。此外,接觸電阻為0.5毫歐,光澤度為0.26-0.27,維氏硬度為HV13-64,同涂層厚度一致。此外,涂層表面粗糙,碳粒子均勻分散于其表面。錫基質(zhì)的定向面為(211)和(400)面。
      對(duì)比實(shí)施例7在25℃、電流密度10安/分米2下,用含硫酸亞錫(60克/升金屬錫)和60克/升硫酸的鍍錫溶液,將厚度1.0微米的錫涂層形成于實(shí)施例1-5同樣的底層上后,將獲得的鍍錫材料在240℃下回流處理來(lái)形成回流處理的鍍錫材料。用實(shí)施例1-5相同的方法,計(jì)算得鍍錫制品的涂層的碳含量,并計(jì)算得其摩擦系數(shù)。此外還測(cè)量鍍錫制品的接觸電阻、光澤度和硬度。再觀測(cè)回流處理的鍍錫制品表面的形狀,并評(píng)價(jià)其錫基質(zhì)的定向。這樣,摩擦系數(shù)為0.28。此外,接觸電阻為1.0毫歐,光澤度為1.98,維氏硬度為HV80。此外,涂層表面平滑,表面未自然觀察到碳粒子。錫基質(zhì)的定向面為(112)和(101)面。
      對(duì)比實(shí)施例8-11用實(shí)施例1-5相同的方法制備光亮鍍錫制品,除了鍍錫溶液不含碳粒子和芳香外部輸入端子的分離代碼(表2),因此用戶不用直接把電視機(jī)輸入源轉(zhuǎn)換成相應(yīng)外部設(shè)備的方式,也能夠自動(dòng)轉(zhuǎn)換輸入源。
      即,如果電視機(jī)接收從統(tǒng)合遙控器輸出的分離代碼,與當(dāng)前輸入選擇狀態(tài)(輸入源)一致時(shí),可以忽略其代碼,如果不一致則用對(duì)應(yīng)分離代碼的連接在外部輸入端子的外部設(shè)備自動(dòng)轉(zhuǎn)換輸入源。
      例如,VCR連接在電視機(jī)的‘Video2’端子時(shí),用戶在上述設(shè)置過(guò)程S12中設(shè)置VCR連接于‘Video2’端子,如果收看電視途中在遙控器的VCR鍵墊中按下‘Play’鍵,如表3,則對(duì)應(yīng)VCR的‘Play’的鍵代碼(定制代碼和數(shù)據(jù)代碼)與‘Video2’對(duì)應(yīng)的“D0’h”分離代碼值一起以電視機(jī)代碼形式輸出。


      此時(shí),VCR的鍵代碼由VCR的微電腦接收,VCR的分離代碼由電視機(jī)接收。電視機(jī)接收分離代碼后把輸入源自動(dòng)轉(zhuǎn)換成連接在‘Video2’的外部輸入端子的VCR。
      要重新轉(zhuǎn)換成電視機(jī)時(shí),在遙控器中輸入對(duì)應(yīng)電視機(jī)的信號(hào),輸出與相應(yīng)代碼對(duì)應(yīng)電視機(jī)的分離代碼,使輸入源能自動(dòng)轉(zhuǎn)換成電視機(jī)。
      利用本發(fā)明統(tǒng)合遙控器,有關(guān)外部設(shè)備的鍵代碼與外部設(shè)備的分離代碼一起輸出時(shí),如果同時(shí)輸出打開(kāi)電視機(jī)電源命令有關(guān)的分離代碼,此時(shí)電視機(jī)的電源沒(méi)有被打開(kāi),則優(yōu)先打開(kāi)電視機(jī)的電源,然后用與分離代碼有關(guān)的外部設(shè)備轉(zhuǎn)換輸入源。
      利用本發(fā)明統(tǒng)合遙控器,有關(guān)外部設(shè)備的鍵代碼與對(duì)應(yīng)已連接外部設(shè)備的顯示外部輸入端子的分離代碼一起輸出,因而用戶不用直接切換輸入源也能自動(dòng)切換,執(zhí)行相應(yīng)外部設(shè)備的功能。
      表2

      本發(fā)明為便于理解以優(yōu)選實(shí)施例方式進(jìn)行公開(kāi),仍應(yīng)了解本發(fā)明可在不背離發(fā)明原理的前提下以多種方式實(shí)施。因此,本發(fā)明應(yīng)理解為包括多種可能的實(shí)施方式和現(xiàn)有實(shí)施例的修改,且其均可在未背離附加權(quán)利要求規(guī)定的發(fā)明原理的前提下進(jìn)行實(shí)施。
      權(quán)利要求
      1.一種鍍錫制品的制造方法,包括以下步驟在鍍錫溶液中加入碳粒子和芳香羰基化合物;在鍍錫溶液中電鍍底層,所述鍍錫溶液含有碳粒子和芳香羰基化合物,以在底層上形成一層復(fù)合材料的涂層,所述涂層在錫層中含有碳粒子。
      2.如權(quán)利要求1中的鍍錫制品的制造方法,其中所述芳香羰基化合物是芳香醛或芳香酮。
      3.一種鍍錫制品,包含底層;和在錫層中含有碳粒子的復(fù)合材料涂層,所述涂層形成于所述底層上;其中所述鍍錫制品相對(duì)另一個(gè)同類鍍錫制品的摩擦系數(shù)不大于0.18。
      4.如權(quán)利要求3中的鍍錫制品,其中所述摩擦系數(shù)不大于0.13。
      5.如權(quán)利要求3中的鍍錫制品,其中所述涂層的光澤度不小于0.29。
      6.如權(quán)利要求3中的鍍錫制品,其中所述涂層厚度為0.5-10微米。
      7.如權(quán)利要求3中的鍍錫制品,其中所述涂層的碳含量在0.1-1.5wt%。
      8.如權(quán)利要求3中的鍍錫制品,其中所述鍍錫制品的接觸電阻不大于1.0毫歐。
      9.如權(quán)利要求3中的鍍錫制品,其中在所述涂層表面上形成有多個(gè)彼此間隔的凸起,每個(gè)所述凸起包含所述碳粒子。
      10.如權(quán)利要求3中的鍍錫制品,其中錫基質(zhì)的定向面為(101)面。
      11.一種連接端點(diǎn),包含凹端點(diǎn);凸端點(diǎn),用于配合所述凹端點(diǎn),其中所述凹端點(diǎn)和接觸另一個(gè)端點(diǎn)的凸端點(diǎn)中至少一個(gè)的至少一部分由如權(quán)利要求3中的鍍錫制品制成。
      全文摘要
      本發(fā)明涉及一種通過(guò)下述方式形成的鍍錫制品在鍍錫溶液中電鍍底層,以便在底層上形成在錫層中包含碳粒子的復(fù)合材料涂層,所述鍍錫溶液中包含碳粒子和芳香羰基化合物,所述制品相對(duì)于另一個(gè)同類鍍錫制品其摩擦系數(shù)不大于0.18,優(yōu)選不大于0.13,光澤度不小于0.29,接觸電阻不大于1.0毫歐。該涂層厚度為0.5-10微米,涂層中的碳含量范圍在0.1-1.5wt%。在涂層表面形成有含碳粒子的分離的凸起。涂層錫基質(zhì)的定向面為(101)面。
      文檔編號(hào)H01R13/03GK1855637SQ20061007412
      公開(kāi)日2006年11月1日 申請(qǐng)日期2006年3月24日 優(yōu)先權(quán)日2005年3月24日
      發(fā)明者宮澤寛, 齊藤大未 申請(qǐng)人:同和礦業(yè)株式會(huì)社
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