專利名稱：半導(dǎo)體設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體設(shè)備，特別涉及具有多個腔室的半導(dǎo)體設(shè)備。
背景技術(shù)：
隨著半導(dǎo)體制造技術(shù)的發(fā)展，為了提高產(chǎn)能，半導(dǎo)體設(shè)備從單個工藝腔室發(fā)展為多個工藝腔室。通常，多個工藝腔室公用排氣系統(tǒng)(包括排氣泵)，以減少半導(dǎo)體設(shè)備的成本。具體地，請結(jié)合圖I所示的現(xiàn)有的半導(dǎo)體設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。半導(dǎo)體設(shè)備包括兩個工藝腔室，分別是第一工藝腔室10和第二工藝腔室20，所述半導(dǎo)體設(shè)備為灰化(ash)設(shè)備。所述第一工藝腔室10具有與之相連接的第一排氣管311，所述第一排氣管311用于將第一工藝腔室10中的廢氣排出腔室；所述第二工藝腔室20具有與之相連接的第二排氣管312。所述第二排氣管312用于將第二工藝腔室20中的廢氣排出。為了降低設(shè)備的成本并且簡化半導(dǎo)體設(shè)備的結(jié)構(gòu)，現(xiàn)有的第一工藝腔室10和第二工藝腔室20公用一套公共排氣裝置。請結(jié)合圖1，所述公共排氣裝置包括第一公共排氣管32、第二公共排氣管33，、第三公共排氣管34、自動壓力控制閥(APC valve) 40、ISO閥50和真空泵60，其中，所述第一公共排氣管32的一端連接第一排氣管311和第二排氣管312，所述第一公共排氣管32的另一端與自動壓力控制閥40相連接，所述自動壓力控制閥40與第二公共排氣管33的一端相連接，所述第二公共排氣管33的另一端與ISO閥50相連接，所述ISO閥50與第三公共排氣管34的一端相連接。所述第三公共排氣管34的另一端與真空泵60相連接。在實(shí)際中發(fā)現(xiàn)，上述半導(dǎo)體設(shè)備的第一工藝腔室或第二工藝腔室發(fā)生泄露(process chamber leak issue)時,本領(lǐng)域技術(shù)人員無法快速獲得具體是哪個工藝腔室發(fā)生泄露，需要花費(fèi)大量的時間去對每一腔室進(jìn)行真空檢測，增加了維修時間，從而降低了半導(dǎo)體設(shè)備的利用率。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明解決的問題是提供了一種半導(dǎo)體設(shè)備，解決了現(xiàn)有技術(shù)中工藝腔室泄露時無法快速確認(rèn)泄露腔室、維修時間偏長的問題，提高了半導(dǎo)體設(shè)備的利用率。為解決上述問題，本發(fā)明提供一種半導(dǎo)體設(shè)備，包括至少兩個工藝腔室，每一工藝腔室具有對應(yīng)的腔室排氣管，所述排氣管連接至公共排氣裝置，至少一個工藝腔室的排氣管上設(shè)置有手動閥。 可選地，每一工藝腔室的排氣管上設(shè)置有手動閥?？蛇x地，所述半導(dǎo)體設(shè)備為灰化設(shè)備。可選地，所述公共排氣裝置包括公共排氣管，與所述排氣管和手動閥相連接；真空泵，與所述公共排氣管相連接，所述真空泵與所述公共排氣管之間設(shè)置有自動壓力控制閥和ISO閥。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有以下優(yōu)點(diǎn)本發(fā)明提供的半導(dǎo)體設(shè)備包括至少兩個工藝腔室，并且至少一個工藝腔室中設(shè)置有手動閥，當(dāng)發(fā)現(xiàn)半導(dǎo)體設(shè)備有泄露問題時，利用該手動閥能夠?qū)⑴c之相連接的工藝腔室進(jìn)行隔離，從而對半導(dǎo)體設(shè)備進(jìn)行排查，有利于盡快查處發(fā)生泄露的工藝腔室，縮短維修時間，提高半導(dǎo)體設(shè)備的利用率。


圖I是現(xiàn)有的半導(dǎo)體設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是本發(fā)明一個實(shí)施例的半導(dǎo)體設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，由于現(xiàn)有的半導(dǎo)體設(shè)備包括多個工藝腔室，多個工藝腔室公用一套公共排氣裝置，當(dāng)半導(dǎo)體設(shè)備中一個或多個工藝腔室發(fā)生泄露時，無法快速確定發(fā)生泄露的工藝腔室，使得現(xiàn)有的半導(dǎo)體設(shè)備的維修時間偏長，半導(dǎo)體設(shè)備的利用率偏低。 為解決上述問題，本發(fā)明提供一種半導(dǎo)體設(shè)備，包括至少兩個工藝腔室，每一工藝腔室具有對應(yīng)的腔室排氣管，所述排氣管連接至公共排氣裝置，至少一個工藝腔室的排氣管上設(shè)置有手動閥。下面結(jié)合實(shí)施例對本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行詳細(xì)地說明。為了更好地說明本發(fā)明的技術(shù)方案，請結(jié)合圖2所示的本發(fā)明的一個實(shí)施例的半導(dǎo)體設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。所述半導(dǎo)體設(shè)備可以為刻蝕設(shè)備、沉積設(shè)備、光刻設(shè)備等各種具有兩個以上工藝腔室的半導(dǎo)體設(shè)備。本實(shí)施例中，所述半導(dǎo)體設(shè)備為刻蝕設(shè)備，所述半導(dǎo)體設(shè)備為灰化設(shè)備。作為一個實(shí)施例，所述半導(dǎo)體設(shè)備包括兩個工藝腔室，分別是第一工藝腔室100和第二工藝腔室200。在其他的實(shí)施例中，所述半導(dǎo)體設(shè)備也可以包括3個或更多的工藝腔室。所述第一工藝腔室100和第二工藝腔室200分別具有與之對應(yīng)相連接的排氣管路。如圖2所示，第一工藝腔室100與第一排氣管路3111相連接，第二工藝腔室200與第二排氣管路31112相連接。作為優(yōu)選的實(shí)施例，所述第一排氣管路3111上設(shè)置有第一手動閥700。在半導(dǎo)體設(shè)備發(fā)生泄露，需要對各個工藝腔室進(jìn)行檢測時，所述第一手動閥700用于將第一工藝腔室100與半導(dǎo)體設(shè)備的其他工藝腔室進(jìn)行隔離。所述第二排氣管路3112上設(shè)置有第二手動閥800，在半導(dǎo)體設(shè)備發(fā)生泄露，需要對各個工藝腔室進(jìn)行檢測時，所述第二手動閥800用于將第二工藝腔室200與半導(dǎo)體設(shè)備的其他工藝腔室進(jìn)行隔離。作為一個實(shí)施例，也可以僅在第一工藝腔室100或第二工藝腔室200中的一個上設(shè)置手動閥。仍然參考圖2，所述第一排氣管路3111和第二排氣管路3112分別與公共排氣裝置相連接。作為一個實(shí)施例，所述公共排氣裝置包括公共排氣管，所述公共排氣管包括第一公共排氣管320、第二公共排氣管330、第三公共排氣管340、自動壓力控制閥400、ISO閥500、真空泵600。如圖所示，作為一個實(shí)施例，。第一公共排氣管320的一端與第一排氣管路3111及對應(yīng)的第一手動閥700、第二排氣管路3112及對應(yīng)的第二手動閥800相連接，所述第一公共排氣管320的另一端與自動壓力控制閥400相連接，所述自動壓力控制閥400和ISO閥500通過第二公共排氣管330相連接，所述ISO閥500通過第三公共排氣管340與真空泵600相連接。在其他的實(shí)施例中，所述自動壓力控制閥400與所述ISO閥的順序可以相互調(diào)換。本發(fā)明所述的真空泵600為干泵(dry pump)。在其他的實(shí)施例中,所述真空泵600也可以為其他類型的泵。在實(shí)際中，當(dāng)發(fā)現(xiàn)半導(dǎo)體設(shè)備有腔室泄露問題時，可以利用與工藝腔室對應(yīng)相連接的手動閥將該工藝腔室從半導(dǎo)體設(shè)備中隔離，再對半導(dǎo)體設(shè)備進(jìn)行真空檢測，若將該工藝腔室隔離后，半導(dǎo)體設(shè)備的泄露問題消除，則說明該工藝腔室存在泄露；若將該工藝腔室隔離后，半導(dǎo)體設(shè)備的泄露問題依然存在，則說明該工藝腔室不存在泄露問題，需要采用相同的方法對其他的工藝腔室進(jìn)行測試。綜上，本發(fā)明提供的半導(dǎo)體設(shè)備包括至少兩個工藝腔室，并且至少一個工藝腔室 中設(shè)置有手動閥，當(dāng)發(fā)現(xiàn)半導(dǎo)體設(shè)備有泄露問題時，利用該手動閥能夠?qū)⑴c之相連接的工藝腔室進(jìn)行隔離，從而對半導(dǎo)體設(shè)備進(jìn)行排查，有利于盡快查處發(fā)生泄露的工藝腔室，縮短維修時間，提高半導(dǎo)體設(shè)備的利用率。因此，上述較佳實(shí)施例僅為說明本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思及特點(diǎn)，其目的在于讓熟悉此項(xiàng)技術(shù)的人士能夠了解本發(fā)明的內(nèi)容并據(jù)以實(shí)施，并不能以此限制本發(fā)明的保護(hù)范圍。凡根據(jù)本發(fā)明精神實(shí)質(zhì)所作的等效變化或修飾，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種半導(dǎo)體設(shè)備，包括至少兩個工藝腔室，每一工藝腔室具有對應(yīng)的腔室排氣管，所述排氣管連接至公共排氣裝置，其特征在于，至少一個工藝腔室的排氣管上設(shè)置有手動閥。
2.如權(quán)利要求I所述的半導(dǎo)體設(shè)備，其特征在于，每一工藝腔室的排氣管上設(shè)置有手動閥。
3.如權(quán)利要求I所述的半導(dǎo)體設(shè)備，其特征在于，所述半導(dǎo)體設(shè)備為灰化設(shè)備。
4.如權(quán)利要求I所述的半導(dǎo)體設(shè)備，其特征在于，所述公共排氣裝置包括公共排氣管，與所述排氣管和手動閥相連接； 真空泵，與所述公共排氣管相連接，所述真空泵與所述公共排氣管之間設(shè)置有自動壓力控制閥和ISO閥。
全文摘要
本發(fā)明解決的問題是提供了一種半導(dǎo)體設(shè)備，包括至少兩個工藝腔室，每一工藝腔室具有對應(yīng)的腔室排氣管，所述排氣管連接至公共排氣裝置，至少一個工藝腔室的排氣管上設(shè)置有手動閥。本發(fā)明解決了現(xiàn)有技術(shù)中工藝腔室泄露時無法快速確認(rèn)泄露腔室、維修時間偏長的問題，提高了半導(dǎo)體設(shè)備的利用率。
文檔編號H01L21/67GK102751219SQ20121026190
公開日2012年10月24日 申請日期2012年7月26日 優(yōu)先權(quán)日2012年7月26日
發(fā)明者張程, 王旭東 申請人:上海宏力半導(dǎo)體制造有限公司