腔室密封構件的制作方法
【專利摘要】一種反應腔室包括用于處理襯底的上部區(qū)域、用于加載襯底的下部區(qū)域、可在反應腔室內(nèi)移動的承受器、定位在承受器周界上的第一密封構件、定位在上部區(qū)域和下部區(qū)域之間的第二密封構件，其中，第一和第二密封構件有選擇地彼此嚙合，以限制上部區(qū)域和下部區(qū)域之間的連通。
【專利說明】腔室密封構件
[0001]相關申請的交互參照
[0002]本申請要求對2011年11月23日提交的美國專利臨時申請N0.61/563，232的優(yōu)先權益，本文以參見方式引入其披露內(nèi)容。

【背景技術】
[0003]薄膜沉積反應腔室一般地制造成有單一腔室或雙腔室。在雙腔室布置中，兩個腔室可定向成使一個腔室垂直地在另一腔室上方。上部腔室用于襯底的處理，而下部腔室用于襯底加載和卸載。雙腔室反應器中通常出現(xiàn)的問題是沉積顆粒涂敷在下部腔室壁上，并需要經(jīng)常進行腔室清潔。
[0004]在襯底處理工具中加熱正在處理的襯底也會是困難的。襯底加熱中的變化可導致襯底內(nèi)溫度變化。如此的襯底內(nèi)溫度變化可導致襯底內(nèi)處理的不均勻性。在某些設置中，呈現(xiàn)如此不均勻性的襯底可產(chǎn)生有缺陷的器件。此外，沉積產(chǎn)物可沉積在下部處理腔室中，導致反應腔室內(nèi)溫度降低，因此，為克服不充分的加熱而增加了能耗。此外，沉積產(chǎn)物在腔室內(nèi)積聚可導致過早清潔腔室的要求并增加成本。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的各方面涉及用于處理襯底的反應腔室。在一個方面，反應腔室包括用于處理襯底的上部區(qū)域、用于加載襯底的下部區(qū)域、可在反應腔室內(nèi)移動的承受器、定位在承受器周界上的第一密封構件、定位在上部區(qū)域和下部區(qū)域之間的第二密封構件，其中，第一和第二密封構件有選擇地彼此嚙合，以限制上部區(qū)域和下部區(qū)域之間的連通。
[0006]在一種實施方式中，第一密封構件可移除地定位在承受器上。第二密封構件可移除地定位在上部區(qū)域和下部區(qū)域之間。反應腔室還可包括承受器周界和第一密封構件之間的間隙。當反應腔室處于處理溫度下時，該間隙可減小。第一密封構件可隨承受器垂直地移動。反應腔室還可包括上部區(qū)域中的噴淋頭，其中，第二密封構件固定在噴淋頭和第一密封構件之間。當承受器處于處理位置中時，處理氣體可在第一密封構件和第二密封構件之間移動。
[0007]第一密封構件和第二密封構件可由石英組成。密封構件可自行對中在承受器上。第一密封構件還可包括至少一個向上延伸的突出部。第二密封構還可包括至少一個向下延伸的突出部。當承受器處于處理位置中時，第一密封構件的至少一個突出部和第二密封構件的至少一個突出部可嵌套在一起。蜿蜒曲折路徑可形成在第一密封構件和第二密封構件之間。第一密封構件和第二密封構件的至少一個突出部還可各包括三個突出部。
[0008]第二密封構件可以是柔性的，當承受器處于處理位置中時，第一密封構件可使第二密封構件偏移。第二密封構件可固定到下部區(qū)域內(nèi)的反應腔室。第二密封構件還可包括多個凹口。第二密封構件還可包括多個徑向對齊的狹槽。第二密封構件還可包括兩個帶有彼此偏離定位的徑向對齊狹槽的第二密封構件。
[0009]在另一方面，反應腔室隔離裝置包括可在反應腔室內(nèi)移動并可定位在承受器上的第一密封構件、定位在反應腔室內(nèi)的上部區(qū)域和下部區(qū)域之間的第二密封構件，其中，第一和第二密封構件有選擇地彼此嚙合，以限制上部區(qū)域和下部區(qū)域之間的連通。
[0010]在一種實施方式中，第一密封構件還可包括至少一個向上延伸的突出部，第二密封構件還可包括至少一個向下延伸的突出部。當承受器處于處理位置中時，第一密封構件的至少一個突出部和第二密封構件的至少一個突出部可嵌套在一起。蜿蜒曲折路徑可形成在第一密封構件和第二密封構件之間。第二密封構件是柔性的，當承受器處于處理位置中時，第一密封構件可使第二密封構件偏移。
[0011]以下在附圖和詳細描述中，對這里給出的本發(fā)明的各個方面和實施方式進行描述。除非有具體指出，本說明書和權利要求書中的詞語，對于本【技術領域】內(nèi)的技術人員來說都是平常、普通和慣常的含義。發(fā)明人完全知道，如果需要的話，則他們可以自己是辭典編纂者。發(fā)明人自己作為編纂者專門作出選擇，除非發(fā)明人清楚地另有所述，然后進一步闡述該術語的“特殊”定義，并解釋它如何不同于平淡和普通的含義，否則在說明書和權利要求書中只使用術語的平淡和普通的含義。沒有如此清楚陳述的意圖來應用“特殊”定義，正是發(fā)明人的意圖和愿望，用術語的簡單、平淡和普通的含義來詮釋說明書和權利要求書。
[0012]發(fā)明人還知道英語語法的一般規(guī)則。因此，如果一個名詞、術語或詞語用來進一步表示特征、規(guī)定或某種方式的狹義化，則根據(jù)英語語法的一般規(guī)則，如此的名詞、術語或詞語將清楚地包括附加的形容詞、描述性術語或其他修飾語。不使用如此的形容詞、描述性術語或其他修飾語，對于本【技術領域】內(nèi)技術人員，如上所述地，給予如此的名詞、術語或詞語以平淡的和普通的英語含義正是發(fā)明人的意圖。
[0013]從詳細描述和附圖以及從權利要求書中，本【技術領域】內(nèi)的技術人員將會明白上述的和其他的方面、特征和優(yōu)點。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0014]下面將結合附圖來描述本發(fā)明的實施例，其中，相同的附圖標記表示相同的元件，以及:
[0015]圖1示意地示出襯底處理腔室，其包括處于襯底加載位置中的第一密封構件和第二密封構件。
[0016]圖2示意地示出襯底處理腔室，其帶有承受器、處于處理位置中的第一密封構件和第二密封構件。
[0017]圖3示意地示出承受器和密封構件的一部分的仰視立體圖。
[0018]圖4示意地示出承受器和密封構件的分解的立體分解圖。
[0019]圖5示意地示出圖2中標以圖5的區(qū)域的剖視圖。
[0020]圖6示意地示出圖2中標以圖5的區(qū)域的剖視圖，該區(qū)域帶有第二實施方式的密封構件。
[0021]圖7示意地示出襯底處理腔室，其包括處于襯底加載位置中的第一密封構件和第二密封構件。
[0022]圖8示意地示出襯底處理腔室，其帶有承受器、處于處理位置中的第一密封構件和第二密封構件。
[0023]圖9示意地示出第三實施方式的第二密封構件的立體圖。
[0024]圖10示意地示出圖8中標以圖10的區(qū)域的剖視圖。
[0025]圖11示意地示出第四實施方式的第二密封構件的立體圖。
[0026]圖12示意地示出圖8中標以圖10的區(qū)域的剖視圖，其帶有第四實施方式的第二密封構件，第一和第二密封構件脫開嚙合。
[0027]圖13示意地示出大致圍繞圖12中線13-13剖切的剖視圖。
[0028]圖14示意地示出大致圍繞圖13中線14-14剖切的剖視圖。
[0029]圖15示意地示出圖8中標以圖10的區(qū)域的剖視圖，其帶有第四實施方式的第二密封構件，第一和第二密封構件嚙合中一起。

【具體實施方式】
[0030]本發(fā)明的各方面和實施方式可用功能方塊部件和各種處理步驟來描述。如此的功能方塊可用任何數(shù)量的硬件或軟件部件來實現(xiàn)，它們構造成執(zhí)行規(guī)定的功能并達到各種結果。例如，本發(fā)明的諸方面可使用各種傳感器、探測器、流量控制裝置、加熱器等，它們可執(zhí)行各種功能。此外，本發(fā)明的各個方面和實施方式可結合任何數(shù)量的處理方法來實踐，所述裝置和系統(tǒng)可使用任何數(shù)量的處理方法，所述裝置和系統(tǒng)只是本發(fā)明應用的實例。
[0031]圖1和2分別示出處于加載/卸載位置中和處理位置中的反應腔室20的視圖。反應腔室20可包括上部區(qū)域22和下部區(qū)域24，兩個區(qū)域可被接口板26分開。一般地說，處理發(fā)生在上部區(qū)域22內(nèi)，而襯底加載和卸載發(fā)生在下部區(qū)域24內(nèi)。承受器28包括襯底安裝表面30并連接到可垂直移動的提升器32，以使承受器在襯底加載位置和襯底處理位置之間位移。襯底34可定位在襯底安裝表面30上，當所定位的承受器28沿著圖所示的箭頭38的方向向上移動時，襯底34可位于處理區(qū)域36內(nèi)，噴淋頭40形成處理區(qū)域的上表面。正如下文中要詳細討論的，第一密封構件42可定位在承受器28上并可移離承受器28，而第二密封構件44可定位在上部區(qū)域22和下部區(qū)域24之間。具體來說，第二密封構件44可定位成至少部分地擱靠在接口板26上，或可連接到接口板或反應腔室20的任何其他合適部分，這不脫離本發(fā)明的精神和范圍。
[0032]現(xiàn)參照圖3和4，承受器28顯示有分別為附連的和脫開附連的第一密封構件42和第二密封構件44。承受器28包括外表面46和向外表面46外延伸的壁架48。壁架48可大致靠近承受器下表面50定位,并布置成接納第一密封構件42。第一密封構件42包括下部52和上部54，在一個實施方式中，使下部大致徑向地定位在上部54內(nèi)，但仍可使用任何合適的結構。下部52可包括底表面56，當使用第一密封構件來分離上部區(qū)域22和下部區(qū)域24時,底表面56布置成擱靠在承受器28的壁架48上。上部54可包括上表面58,夕卜表面通過形成一部分蜿蜒曲折的路徑而有助于密封，這將在下文中詳細討論。此外，下部52可包括內(nèi)表面60和外表面62,而上部54可包括內(nèi)表面64和外表面66。因此,上部54起作突出部的功能，其從下部52向上延伸成為第一密封構件42的部分。
[0033]第二密封構件44可包括具有底表面70的外安裝環(huán)68，該外安裝環(huán)68部分地形成通道72。當使用第二密封構件44來提供上部區(qū)域22和下部區(qū)域24之間的分離時，底表面70通常與接口板26接觸。外安裝環(huán)68還可包括多個凹口 74，其可用來確保與反應腔室內(nèi)其他部件恒定的和一致的對齊。第二密封構件44還可包括大致向下延伸的外突出部76和內(nèi)突出部78。外突出部76可包括外表面80和內(nèi)表面82，而內(nèi)突出部可包括外表面84和內(nèi)表面86。在該結構布置中，外突出部76的外表面80還形成第二密封構件44內(nèi)的通道72，而內(nèi)突出部78的外表面84和外突出部76的內(nèi)表面82至少部分地形成通道88，當承受器28向上移入處理位置時，通道88用來接納第一密封構件42的上部54。在一個實施方式中，內(nèi)突出部78和外突出部76可向下延伸超出底表面70，因為底表面定位在反應腔室內(nèi)的接口板上。在另一個實施方式中，內(nèi)突出部78可向下延伸比外突出部76延伸短的距離。本【技術領域】內(nèi)技術人員將會立即認識到，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的前提下，對于密封構件可作出許多變化。
[0034]圖5示出當承受器28向上移入處理位置中時，嵌套在第二密封構件44 一部分內(nèi)的第一密封構件42的放大剖視圖。具體來說，第一密封構件42的上部54顯示定位在通道88內(nèi)，通道88至少部分地形成在外突出部76、內(nèi)突出部78和壁90之間。由于第一和第二密封構件形成的路徑蜿蜒曲折，用箭頭92表示的氣體路徑通常不易將氣體從上部區(qū)域22內(nèi)傳送到下部區(qū)域24。氣體必須移動通過由第一密封構件42的內(nèi)表面60和64與承受器28的外表面46之間的間隙94形成的蜿蜒曲折路徑，通過其中定位有上部54的通道88，并最后進入下部區(qū)域24。蜿蜒曲折路徑的寬度和長度可進行優(yōu)化，以在上部和下部區(qū)域之間允許有可變的連通量，或在上部和下部區(qū)域之間沒有連通，視處理的要求而定。
[0035]第一密封構件42和第二密封構件44可由石英、金紅石、氧化釔、氧化鋯、鉻鎳鐵合金、鈦、鈹-銅，或任何其他合適材料組成。在某些實施方式中，第一和第二密封構件尺寸可增大或減小，由反應腔室20內(nèi)溫度決定。例如，當?shù)谝幻芊鈽嫾?2由石英組成時，當反應腔室內(nèi)溫度增加時，特別是當溫度增大接近400°C時，第一密封構件42趨于膨脹，或生長。此外，當?shù)谝幻芊鈽嫾?2生長時，間隙94可減小，且第一密封構件42提供承受器28上的自對中功能。
[0036]現(xiàn)參照圖6，第一密封構件42和第二密封構件44的另一方面顯示為剖視圖，第一密封構件42與承受器28形成一體。具體來說，除了從承受器28向上延伸的突出部98、100和102之外，第二密封構件44內(nèi)還納入了中間突出部96。在該結構布置中，第一方面的壁架48用三個突出部98、100和102代替，三個突出部嵌套在通道88內(nèi)，通道88形成在從第二密封構件44向下延伸的各個不同突出部之間。在該結構布置中，氣體路徑92需要循著蜿蜒曲折路徑通過具有突出部98、100和102的多個通道88，以進一步阻礙氣體流動路徑。因此，當蜿蜒曲折路徑包括附加的突出部時，在上部區(qū)域22和下部區(qū)域24之間甚至獲得較小氣體流動連通。因此，可以看到，在第一和第二密封構件中可利用任何數(shù)量的突出部，視工具或過程所需的氣體流動限制情況而定。此外，突出部之間的距離和其間的敞開空間可根據(jù)需要進行優(yōu)化。最后，第一密封構件42中的各突出部可形成為分離的可移除塊的部分，或可與承受器形成一體，而第二密封構件44中的突出部可形成為分離的可移除塊，或可合適地與與反應腔室20或接口板形成一體。
[0037]現(xiàn)參照圖7-15，圖中示出另一方面的腔室密封裝置，但其余部件是相同的和/或類似的。第一密封構件104可移除地定位在承受器28的壁架48上，而第二密封構件106大致定位在下部區(qū)域24內(nèi)并可移除地附連到接口板26。具體來說，第二密封構件106用安裝板108和多個螺栓110可移除地固定到接口板26。第二密封構件106可在彈簧密封構件114的外周界處用安裝板108固定在下部區(qū)域24或上部區(qū)域22內(nèi)。彈簧密封構件114還可包括內(nèi)周界116，當承受器28沿箭頭38相關的方向移動直到到達處理位置時，該內(nèi)周界可被第一密封構件104偏移。
[0038]參照圖9和11，彈簧密封構件114顯示為在該彈簧密封構件的外周界112上有凹口 118。在一種實施方式中，包括24個凹口，使用螺栓將彈簧密封構件在各個凹口處固定到安裝板108并固定在接口板26和安裝板108之間。如圖11中還可見，可圍繞彈簧密封構件114的內(nèi)周界116納入多個狹槽120，以在反應腔室的上部和下部區(qū)域之間提供最小和受控的傳輸率。在一種實施方式中，各狹槽120可沿著內(nèi)周界116徑向地對齊，并可包括大約100個狹槽，或任何其他合適的數(shù)量。本【技術領域】內(nèi)技術人員將會認識到，可使用任何合適數(shù)量的凹口或狹槽，只要彈簧密封構件合適地固定，且上部區(qū)域和下部區(qū)域之間的氣體流動速率受到控制就可。
[0039]圖7、8和10示出處于未偏置位置(圖7)和偏置或偏移位置(圖8和10)的彈簧密封構件114視圖。在偏置或偏移的視圖中，彈簧密封構件114通過第一密封構件104的定表面122彈性地向上偏移。具體來說，頂表面122定位在通過間隔部分126而與壁架48分開的架子124的平坦部分上。在該結構布置中，彈簧密封構件114通過在頂表面122處的接觸而向上彎曲，由此，限制上部區(qū)域和下部區(qū)域之間的連通。流動控制環(huán)128、彈簧密封構件114、承受器28和間隙94之間的區(qū)域可收集處理或吹掃氣體的某些部分，但這在襯底卸載時，處理氣體最后可通過真空方法、吹掃，或使第一和第二密封構件之間脫開連接而被耗散掉。
[0040]現(xiàn)參照圖11-15，兩個彈簧密封構件114 一個定位在另一個頂上，特別地如圖12所示。具體來說，兩個彈簧密封構件114定位在安裝板108和接口板26之間，用螺栓110來保持部件之間的關系。圖13和14示出兩個彈簧密封構件114的布置，各個密封構件中的狹槽120彼此偏置地對齊，使得上部彈簧密封構件上的狹槽120定位在下部彈簧密封構件內(nèi)的狹槽120之間。在該布置中，當承受器28如參照圖7-10所討論那樣處于處理位置中時，下部區(qū)域內(nèi)的氣體流動被阻止流入下部區(qū)域內(nèi)，但狹槽120為例外。例如，如圖14所示的兩個彈簧密封構件114的定向，可允許氣體從上部區(qū)域在狹槽120處流過上部彈簧密封構件，然后，流過下部彈簧密封構件內(nèi)的狹槽120。在該布置中，再次形成蜿蜒曲折的路徑，由此，按照過程可能要求的，可在上部區(qū)域和下部區(qū)域之間連通有限的和受控的氣體流動量。雙彈簧密封構件的結構布置功能類似于以上討論的單個彈簧密封構件，且僅在承受器28和第一密封構件104沿著箭頭38相關的方向向上移動并且承受器處于處理位置中時，才限制和/或阻止氣體在上部和下部區(qū)域之間的流動。本【技術領域】內(nèi)的技術人員將會立即認識到，根據(jù)上部和下部區(qū)域之間要求的連通，可使用任何數(shù)量的狹槽120，而不會脫離本發(fā)明的精神和范圍。
[0041]在全部的描述中，任何的氣體流動連通已經(jīng)以控制和/或限制的方式從上部區(qū)域22通到下部區(qū)域24。然而，提供氣體從下部區(qū)域到上部區(qū)域的流動仍在本發(fā)明的精神和范圍之內(nèi)。例如，可在下部區(qū)域內(nèi)提供吹掃的惰性氣體或其他氣體流動，下部區(qū)域內(nèi)的氣體流動壓力大于下部區(qū)域內(nèi)的氣體流動壓力。在該實例中，下部區(qū)域內(nèi)較高的壓力然后允許氣體，通過上文描述和定義的各種蜿蜒曲折路徑從下部區(qū)域流動而連通到上部區(qū)域。該結構布置可通過限制上部區(qū)域內(nèi)凹腔和間隙內(nèi)的諧振來減少吹掃時間，或減少積聚在下部區(qū)域內(nèi)的顆粒。不管怎樣，各種密封構件的氣體流動連通可有選擇地進行調(diào)諧，以控制上部區(qū)域和下部區(qū)域之間氣體流動量和流動方向。
[0042]在操作中，第一密封構件42或104定位在承受器28上，如果適用的話，可具體地定位在壁架48上。第二密封構件44或106然后大致定位在上部和下部區(qū)域之間，或與接口板26接觸，在第二密封構件44的情形中為上方，而在第二密封構件106的情形中為下方。隨著第一和第二密封構件就位，承受器28下降到襯底加載位置，在該位置，襯底定位在提升銷上。接下來，承受器沿著與箭頭38相關的方向向上移動，直到第一密封構件與第二密封構件形成蜿蜒曲折路徑為止。在某些實施方式中，當承受器處于處理位置中時，第一和第二密封構件彼此接觸，而在其他的實施方式中，在第一和第二密封構件之間保持小的間隙，但一般地被納入在蜿蜒曲折路徑內(nèi)。不管采用哪一種方面和實施方式，當承受器處于處理位置中時，上部和下部區(qū)域之間的氣體流動受到控制和/或減到最小。在過程完成之后，承受器下降到下部區(qū)域內(nèi)，上部區(qū)域和下部區(qū)域之間可再建立起規(guī)則的連通，直到另一襯底加載到承受器上，且承受器再一次移入處理位置中。
[0043]用于腔室密封構件的方法和裝置的上述的和其他的實施例，可包括參照以上所述腔室密封構件的裝置的實施例所描述的概念、實施例和構造。所示和所描述的特殊實施方式僅是用來說明本發(fā)明和其最佳實施方式，并不意圖用任何方式另外來限制諸方面的范圍和實施方式。的確，為了簡潔起見，系統(tǒng)的傳統(tǒng)制造、連接、準備和其他功能性方面可不作詳細描述。此外，各種圖中所示的連接線旨在代表各種元件之間示范的功能性關系和/或物理偶聯(lián)。許多替代的或附加的功能性關系或物理偶聯(lián)可出現(xiàn)在實用的系統(tǒng)中，和/或在某些實施例中可不出現(xiàn)它們。
[0044]如文中使用的，術語“包括”、“包含”或其任何的變體，用來指非排外的納入，這樣，包括元件清單的過程、方法、物件、組成物或裝置不僅包括這些所例舉的元件，而且還包括未明白列出的或如此過程、方法、物件、組成物或裝置固有的其他元件。除了未予具體列出的之外，本發(fā)明實踐中所用的上述結構、布置、應用、比例、元件、材料或部件的其他的組合和/或修改可以改變，或其他方式特別地適用于特別的環(huán)境、制造技術規(guī)格書、設計參數(shù)或其他操作要求，而不會脫離它們的一般原理。
[0045]應該理解到，文中所描述的構造和/或方法本質(zhì)上是示范性的，這些實施例或實例不應被認為是限制意義的，因為許多變化都是可能的。文中所述的特殊程序或方法可代表任何多種處理策略中的一種或多種。因此，所示的各種動作可按所示順序或其他順序執(zhí)行，或在某些情形中可省略掉。
[0046]本發(fā)明的主題內(nèi)容包括各種過程、系統(tǒng)和構造和其他特征、功能、動作和/或文中所述的特性，以及任何它們的等價物和全部的等價物的所有新穎和非凡的組合和子組合。
【權利要求】
1.一種反應腔室，包括: 用于處理襯底的上部區(qū)域； 用于加載襯底的下部區(qū)域； 在所述反應腔室內(nèi)可移動的承受器； 定位在所述承受器周界上的第一密封構件； 定位在所述上部區(qū)域和所述下部區(qū)域之間的第二密封構件； 其中，所述第一和第二密封構件有選擇地彼此嚙合，以限制所述上部區(qū)域和所述下部區(qū)域之間的連通。
2.如權利要求1所述的反應腔室，其特征在于，所述第一密封構件可移除地定位在所述承受器上。
3.如權利要求1所述的反應腔室，其特征在于，所述第二密封構件可移除地定位在所述上部區(qū)域和所述下部區(qū)域之間。
4.如權利要求1所述的反應腔室，其特征在于，還包括所述承受器周界和所述第一密封構件之間的間隙。
5.如權利要求4所述的反應腔室，其特征在于，當所述反應腔室處于處理溫度下時，所述間隙減小。
6.如權利要求1所述的反應腔室，其特征在于，所述第一密封構件隨所述承受器垂直地移動。
7.如權利要求1所述的反應腔室，其特征在于，還包括所述上部區(qū)域中的噴淋頭，其中，所述第二密封構件固定在所述噴淋頭和所述第一密封構件之間。
8.如權利要求1所述的反應腔室，其特征在于，當所述承受器處于處理位置中時，處理氣體在所述第一密封構件和所述第二密封構件之間行進。
9.如權利要求1所述的反應腔室，其特征在于，所述第一密封構件和所述第二密封構件由石英組成。
10.如權利要求1所述的反應腔室，其特征在于，所述密封構件自對中在所述承受器上。
11.如權利要求1所述的反應腔室，其特征在于，所述第一密封構件還包括至少一個向上延伸的突出部。
12.如權利要求11所述的反應腔室，其特征在于，所述第二密封構還包括至少一個向下延伸的突出部。
13.如權利要求12所述的反應腔室，其特征在于，當所述承受器處于處理位置中時，所述第一密封構件的至少一個突出部和所述第二密封構件的至少一個突出部嵌套在一起。
14.如權利要求13所述的反應腔室，其特征在于，蜿蜒曲折路徑形成在所述第一密封構件和所述第二密封構件之間。
15.如權利要求12所述的反應腔室，其特征在于，所述第一密封構件和所述第二密封構件的至少一個突出部還各包括三個突出部。
16.如權利要求1所述的反應腔室，其特征在于，所述第二密封構件是撓性的，當所述承受器處于所述處理位置中時，所述第一密封構件使第二密封構件偏移。
17.如權利要求16所述的反應腔室，其特征在于，所述第二密封構件在所述下部區(qū)域內(nèi)固定到所述反應腔室。
18.如權利要求16所述的反應腔室，其特征在于，所述第二密封構件還包括多個凹口。
19.如權利要求16所述的反應腔室，其特征在于，所述第二密封構件還包括多個徑向對齊的狹槽。
20.如權利要求19所述的反應腔室，其特征在于，所述第二密封構件還包括兩個帶有彼此偏離定位的徑向對齊狹槽的第二密封構件。
21.一種反應腔室隔離裝置，包括: 在反應腔室內(nèi)可移動并可定位在承受器上的第一密封構件； 在反應腔室內(nèi)的上部區(qū)域和下部區(qū)域之間可定位的第二密封構件；以及其中，第一和第二密封構件有選擇地彼此嚙合，以限制所述上部區(qū)域和所述下部區(qū)域之間的連通。
22.如權利要求21所述的反應腔室隔離裝置，其特征在于，所述第一密封構件還包括至少一個向上延伸的突出部，所述第二密封構件還包括至少一個向下延伸的突出部。
23.如權利要求22所述的反應腔室隔離裝置，其特征在于，當所述承受器處于處理位置中時，所述第一密封構件的至少一個突出部和所述第二密封構件的至少一個突出部嵌套在一起。
24.如權利要求23所述的反應腔室隔離裝置，其特征在于，蜿蜒曲折路徑形成在所述第一密封構件和所述第二密封構件之間。
25.如權利要求21所述的反應腔室隔離裝置，其特征在于，所述第二密封構件是撓性的，當所述承受器處于處理位置中時，所述第一密封構件使第二密封構件偏移。
【文檔編號】H01L21/67GK104081512SQ201280057466
【公開日】2014年10月1日 申請日期:2012年11月15日 優(yōu)先權日:2011年11月23日
【發(fā)明者】M·哈平, E·謝羅, C·懷特, F·阿羅擴哉, J·溫克勒, T·鄧恩 申請人:Asm Ip控股有限公司