本發(fā)明涉及透光性導(dǎo)電體及其制造方法，尤其涉及一種具有納米結(jié)構(gòu)的圖案的透光性導(dǎo)電體及其制造方法。

背景技術(shù)：

透光性導(dǎo)電體是可見(jiàn)光區(qū)域的光能夠透過(guò)且具有導(dǎo)電性的薄導(dǎo)電膜。透光性導(dǎo)電體廣泛用于各種電子設(shè)備。例如，透光性導(dǎo)電體在平板TV或臺(tái)式PC的液晶顯示器等平板顯示板、平板電腦或智能手機(jī)的觸摸板、電子發(fā)光裝置等廣泛用作透明電極。這種透光性導(dǎo)電體的特點(diǎn)是透光性與導(dǎo)電性難以兼顧。即，通常來(lái)講透光性導(dǎo)電體的透光性高的話導(dǎo)電性差，導(dǎo)電性高的話透光性差，因此很難同時(shí)提高透光性與導(dǎo)電性。

為了使透光性高且具有導(dǎo)電性，以往普遍采用銦錫氧化物(indium tin oxide：ITO)之類的金屬氧化物作為透光性導(dǎo)電體。而這些金屬氧化物具有透光性隨著導(dǎo)電性的上升而下降的問(wèn)題。

金屬網(wǎng)結(jié)構(gòu)(metal mesh structure)的透光性導(dǎo)電體的使用也很普遍。但金屬網(wǎng)結(jié)構(gòu)的透光性導(dǎo)電體因難以形成細(xì)微的線寬，因此具有隨著可視距離具有可視性問(wèn)題，具有工序復(fù)雜、因圖案結(jié)構(gòu)而出現(xiàn)波紋現(xiàn)象的問(wèn)題。

最近在積極研究用碳納米管(carbon nanotube)或銀納米線(silver nanowire)之類的納米結(jié)構(gòu)體形成透光性導(dǎo)電體。然而，由于利用這種納米結(jié)構(gòu)體的透光性導(dǎo)電體因個(gè)別納米結(jié)構(gòu)體單位在彼此接觸的狀態(tài)下連接，因此具有導(dǎo)電性差的問(wèn)題。

因此，需要開(kāi)發(fā)出透光性及導(dǎo)電性均優(yōu)良且可視性高、能夠防止波紋現(xiàn)象、制造工序簡(jiǎn)單的透光性導(dǎo)電體。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

技術(shù)問(wèn)題

本發(fā)明的目的在于提供一種具有納米結(jié)構(gòu)的圖案的透光性導(dǎo)電體及其制造方法。

技術(shù)方案

權(quán)利要求1所述的發(fā)明涉及一種透光性導(dǎo)電體，包括基板及位于所述基板上的導(dǎo)電層，所述導(dǎo)電層包括導(dǎo)電性物質(zhì)，所述導(dǎo)電層具有納米結(jié)構(gòu)體交叉排列形成的對(duì)應(yīng)于網(wǎng)的圖案。

根據(jù)權(quán)利要求2所述的發(fā)明，其特征在于權(quán)利要求1所述導(dǎo)電層實(shí)質(zhì)上具有預(yù)定的厚度。

根據(jù)權(quán)利要求3所述的發(fā)明，其特征在于權(quán)利要求1所述導(dǎo)電層是一個(gè)一體形成的單一體。

根據(jù)權(quán)利要求4所述的發(fā)明，其特征在于權(quán)利要求1所述導(dǎo)電性物質(zhì)含金屬。

根據(jù)權(quán)利要求5所述的發(fā)明，其特征在于權(quán)利要求1所述導(dǎo)電性物質(zhì)為具有導(dǎo)電性的非金屬。

根據(jù)權(quán)利要求6所述的發(fā)明，其特征在于權(quán)利要求1所述納米結(jié)構(gòu)體為選自由納米管、納米線、納米纖維(nano-fiber)及其混合體構(gòu)成的群中的一個(gè)。

根據(jù)權(quán)利要求7所述的發(fā)明，其特征在于權(quán)利要求1所述圖案包括：多個(gè)本體部，其對(duì)應(yīng)于所述網(wǎng)的納米結(jié)構(gòu)體；多個(gè)交叉部，其由所述本體部交叉形成；以及開(kāi)口部，其位于所述本體部之間。

根據(jù)權(quán)利要求8所述的發(fā)明，其特征在于權(quán)利要求1所述本體部與所述交叉部形成內(nèi)部包括所述開(kāi)口部的連接狀態(tài)的至少一個(gè)閉合系。

根據(jù)權(quán)利要求9所述的發(fā)明，其特征在于權(quán)利要求7所述本體部與所述交叉部形成不區(qū)分內(nèi)部與外部的連接狀態(tài)的至少一個(gè)開(kāi)放系。

根據(jù)權(quán)利要求10所述的發(fā)明，其特征在于權(quán)利要求7所述本體部的端部凸出到所述開(kāi)口部。

根據(jù)權(quán)利要求11所述的發(fā)明，其特征在于權(quán)利要求7所述本體部的厚度為t時(shí)，所述本體部的寬度w的范圍為100(nm)≤w≤5t。

根據(jù)權(quán)利要求12所述的發(fā)明，其特征在于權(quán)利要求11所述本體部的厚度t的范圍為0＜t≤500nm。

根據(jù)權(quán)利要求13所述的發(fā)明，其特征在于權(quán)利要求7所述交叉部的厚度實(shí)質(zhì)上等于所述本體部的厚度。

根據(jù)權(quán)利要求14所述的發(fā)明，其特征在于權(quán)利要求1所述圖案為非晶形(amorphous)。

根據(jù)權(quán)利要求15所述的發(fā)明，其特征在于權(quán)利要求1所述的對(duì)應(yīng)于所述導(dǎo)電層的邊緣外部的所述基板上具有與所述導(dǎo)電層電連接的端子層。

根據(jù)權(quán)利要求16所述的發(fā)明，其特征在于權(quán)利要求15所述端子層與所述導(dǎo)電層由相同的物質(zhì)形成。

根據(jù)權(quán)利要求17所述的發(fā)明，其特征在于權(quán)利要求15所述端子層的厚度實(shí)質(zhì)上等于所述導(dǎo)電層的厚度。

權(quán)利要求18所述的發(fā)明涉及一種透光性導(dǎo)電體的制造方法，包括：(1)向基板上涂布導(dǎo)電性物質(zhì)的步驟；(2)向所述導(dǎo)電性物質(zhì)上涂布感光性物質(zhì)的步驟；(3)在所述感光性物質(zhì)上排列納米結(jié)構(gòu)體的步驟，其中所述納米結(jié)構(gòu)體交叉排列形成網(wǎng)；(4)利用所述納米結(jié)構(gòu)體的網(wǎng)在所述感光性物質(zhì)上形成對(duì)應(yīng)于所述納米結(jié)構(gòu)體的網(wǎng)的形狀的步驟；以及(5)根據(jù)所述感光性物質(zhì)的形狀，在所述導(dǎo)電性物質(zhì)上形成圖案以形成導(dǎo)電層的步驟。

根據(jù)權(quán)利要求19所述的發(fā)明，其特征在于權(quán)利要求18中所述(1)步驟的所述導(dǎo)電性物質(zhì)含金屬。

根據(jù)權(quán)利要求20所述的發(fā)明，其特征在于權(quán)利要求18中所述(2)步驟的所述感光性物質(zhì)為感光性聚合物。

根據(jù)權(quán)利要求21所述的發(fā)明，其特征在于權(quán)利要求18中所述(3)步驟的所述納米結(jié)構(gòu)體為選自由納米管、納米線、納米纖維(nano-fiber)及其混合體構(gòu)成的群中的一個(gè)。

根據(jù)權(quán)利要求22所述的發(fā)明，其特征在于權(quán)利要求18中所述(4)步驟是通過(guò)所述納米結(jié)構(gòu)體的網(wǎng)曝光所述感光性物質(zhì)，在所述感光性物質(zhì)形成對(duì)應(yīng)于所述納米結(jié)構(gòu)體的網(wǎng)的形狀。

根據(jù)權(quán)利要求23所述的發(fā)明，其特征在于權(quán)利要求18中所述(5)步驟的所述圖案為非晶形(amorphous)。

根據(jù)權(quán)利要求24所述的發(fā)明，其特征在于還包括在對(duì)應(yīng)于權(quán)利要求18所述導(dǎo)電層的邊緣外部的所述基板上形成與所述導(dǎo)電層電連接的端子層的步驟。

根據(jù)權(quán)利要求25所述的發(fā)明，其特征在于權(quán)利要求24所述形成所述端子層的步驟包括：向基板上涂布導(dǎo)電性物質(zhì)的步驟；向所述導(dǎo)電性物質(zhì)上涂布感光性物質(zhì)的步驟；通過(guò)在所述感光性物質(zhì)上排列具有對(duì)應(yīng)于所述端子層的形狀的掩模并曝光，在所述感光性物質(zhì)形成與所述掩模的形狀對(duì)應(yīng)的形狀的步驟；以及根據(jù)所述感光性物質(zhì)的形狀，在所述導(dǎo)電性物質(zhì)形成所述端子層的圖案的步驟。

權(quán)利要求26所述的發(fā)明涉及一種透光性導(dǎo)電體的制造方法，包括：(1)向基板上涂布導(dǎo)電性物質(zhì)的步驟；(2)向所述導(dǎo)電性物質(zhì)上圖案化端子層的步驟；(3)向所述導(dǎo)電性物質(zhì)上涂布感光性物質(zhì)的步驟，其中涂布范圍包括圖案化所述端子層的部分；(4)在除對(duì)應(yīng)于所述端子層的部分以外的所述感光性物質(zhì)上排列納米結(jié)構(gòu)體的步驟，其中所述納米結(jié)構(gòu)體交叉排列形成網(wǎng)；(5)利用所述納米結(jié)構(gòu)體的網(wǎng)在所述感光性物質(zhì)上形成對(duì)應(yīng)于所述納米結(jié)構(gòu)體的網(wǎng)的形狀的步驟；以及(6)根據(jù)所述感光性物質(zhì)的形狀，在除所述端子層之外的所述導(dǎo)電性物質(zhì)上形成圖案以形成連接于所述端子層的導(dǎo)電層的步驟。

根據(jù)權(quán)利要求27所述的發(fā)明，其特征在于權(quán)利要求26中所述(1)步驟的所述導(dǎo)電性物涵蓋所述導(dǎo)電層的形成區(qū)域與所述端子層的形成區(qū)域。

根據(jù)權(quán)利要求28所述的發(fā)明，其特征在于權(quán)利要求26中所述(2)步驟通過(guò)光刻法圖案化所述端子層。

技術(shù)效果

本發(fā)明能夠提供一種具有納米結(jié)構(gòu)的圖案的透光性導(dǎo)電體及其制造方法。

附圖說(shuō)明

圖1為簡(jiǎn)要顯示透光性導(dǎo)電體的實(shí)施例1的立體圖；

圖2為顯示圖1的透光性導(dǎo)電體中基板上的導(dǎo)電層圖案的平面圖；

圖3為顯示圖2的導(dǎo)電層圖案的局部的局部平面圖；

圖4為沿圖3的IV-IV線的剖面圖；

圖5為顯示透光性導(dǎo)電體中基板上的導(dǎo)電層圖案的實(shí)施例2的平面圖；

圖6為顯示透光性導(dǎo)電體中基板上的導(dǎo)電層圖案的實(shí)施例3的平面圖；

圖7為顯示透光性導(dǎo)電體具有端子層的狀態(tài)的實(shí)施例4的立體圖；

圖8至圖15為顯示透光性導(dǎo)電體的制造方法的實(shí)施例5的示意圖；

圖16為顯示透光性導(dǎo)電體的制造方法的實(shí)施例6的示意圖；

圖17為顯示透光性導(dǎo)電體的制造方法的實(shí)施例7的示意圖。

附圖標(biāo)記說(shuō)明

100、200、300、400、500、600、700：透光性導(dǎo)電體

110、210、310、410、510、610、710：基板

120、220、320、420、540、620：導(dǎo)電層

121、221、321：本體部 122、222、322：交叉部

123、323：開(kāi)口部 124、324：端部

130：暗色層 427、627：感測(cè)部

430、630：端子層 431、631：端子部

520、720：導(dǎo)電性物質(zhì) 530、730：感光性物質(zhì)

791：第一輥 792：第二輥

具體實(shí)施方式

[本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式]

以下根據(jù)實(shí)施例說(shuō)明用于實(shí)施發(fā)明的具體內(nèi)容。這些實(shí)施例是為了使本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員理解用于實(shí)施發(fā)明的具體內(nèi)容而提供的實(shí)施例，因此可以變形成其他多種形狀，本發(fā)明不受以下實(shí)施例的限制。

(實(shí)施例1)

本實(shí)施例如圖1所示，透光性導(dǎo)電體100包括基板110及導(dǎo)電層120。

透光性導(dǎo)電體100是指能夠使光透過(guò)且具有導(dǎo)電性。此處，透光率(light transmittance)優(yōu)選為90％以上。

基板110是指上部通過(guò)涂層(coating)或?qū)臃e(laminating)等形成導(dǎo)電層120?；?10可以是剛性(rigid)或柔性(flexible)。基板110可以是透光性(light transmitting)或非透光性(light non-transmitting)。基板110可以由玻璃(glass)或聚碳酸酯或丙烯酸(acrylic)之類的剛性物質(zhì)或聚酯、聚烯烴、聚乙烯、聚酰亞胺、硅膠之類的柔性物質(zhì)形成。并且，基板110可以由環(huán)烯烴聚合物(COP：cyclic olefin polymer)、環(huán)烯烴共聚物(COC：cyclic olefin copolymer)、三醋酸纖維素(TAC：triac etylecellulose)形成。但形成基板110的物質(zhì)不受以上限制。

導(dǎo)電層120是指形成于基板110上的導(dǎo)電層(electric conductive layer)。導(dǎo)電層120可具有150Ω/□以下的導(dǎo)電性。優(yōu)選地，導(dǎo)電層120可具有50Ω/□以下的導(dǎo)電性?？梢愿鶕?jù)構(gòu)成導(dǎo)電層120的導(dǎo)電性物質(zhì)的特性適當(dāng)選擇這種導(dǎo)電層120的導(dǎo)電性。導(dǎo)電層120實(shí)質(zhì)上可以具有預(yù)定的厚度。因此導(dǎo)電層120不存在向外側(cè)凸出的部分，因此難以形成靜電，從而能夠防止靜電引發(fā)相關(guān)問(wèn)題，無(wú)需為了防靜電而另外增加涂層。例如，導(dǎo)電層120的厚度優(yōu)選為100nm至300nm。優(yōu)選的是導(dǎo)電層120實(shí)質(zhì)上具有預(yù)定的厚度，但不受此限制，在能夠形成層的前提下可具有任意厚度。導(dǎo)電層120可以是一個(gè)一體形成的單一體，例如可以是銅單一層。但導(dǎo)電層120不限于一個(gè)一體形成的單一體，例如，可以是鉬-鋁-鉬(molybdenum-aluminum-molybdenum，Mo-Al-Mo)這種三層結(jié)構(gòu)等多層結(jié)構(gòu)。

導(dǎo)電層120包括導(dǎo)電性物質(zhì)。包含于導(dǎo)電層120的導(dǎo)電性物質(zhì)可包括銅、鋁、銀、鉬、鎳之類的金屬。但包含于導(dǎo)電層120的導(dǎo)電性物質(zhì)不限于金屬，只要具有導(dǎo)電性即可，例如可以是導(dǎo)電性非金屬或鹵化銀(silver halide)之類的金屬化合物。導(dǎo)電性物質(zhì)可通過(guò)多種方法形成于基板110上。例如，導(dǎo)電性物質(zhì)可通過(guò)濺射沉積形成于基板110上。

導(dǎo)電層120包括納米結(jié)構(gòu)體交叉排列形成的對(duì)應(yīng)于網(wǎng)的圖案。此處，納米結(jié)構(gòu)體可以是納米管、納米線、納米纖維(nano-fiber)或其混合體。只要是納米結(jié)構(gòu)體，則無(wú)論由任何物質(zhì)形成都包含于其中。例如，可以將碳納米管、銀納米線、碳納米纖維等作為納米結(jié)構(gòu)體。如上所述，由于導(dǎo)電層120包括納米結(jié)構(gòu)體交叉排列形成的對(duì)應(yīng)于網(wǎng)的圖案，因此能夠高度窄化對(duì)應(yīng)于形成導(dǎo)電層120的各納米結(jié)構(gòu)體的部分的寬度，因此能夠確保高透光性。因此，導(dǎo)電層120由具有高導(dǎo)電性的導(dǎo)電性物質(zhì)形成且具有能夠確保高透光性的對(duì)應(yīng)于納米結(jié)構(gòu)體網(wǎng)的圖案，因此能夠同時(shí)大幅提高透光性與導(dǎo)電性。

納米結(jié)構(gòu)體交叉排列形成的對(duì)應(yīng)于網(wǎng)的圖案不是指納米結(jié)構(gòu)體交叉排列形成的網(wǎng)本身，而是指對(duì)應(yīng)于這種網(wǎng)的圖案。這種圖案例如如圖2所示，具有多個(gè)本體部121、多個(gè)交叉部122及開(kāi)口部123。本體部121是指對(duì)應(yīng)于納米結(jié)構(gòu)體網(wǎng)的納米結(jié)構(gòu)體的部分，交叉部122是指本體部121交叉形成的部分，開(kāi)口部123是指本體部121之間的部分。本體部121與交叉部122是使導(dǎo)電層120具有導(dǎo)電性的要素，開(kāi)口部123是使導(dǎo)電層120具有透光性的要素。本體部121a、121b、121c、121d與交叉部122a、122b、122c、122d可形成內(nèi)部包括開(kāi)口部123a的連接狀態(tài)的閉合系(closed system)125。本體部121借此重復(fù)連接，提高這些部分之間的電連接可靠性。從而能夠有效防止透光性導(dǎo)電體100的制造工序上或使用上出現(xiàn)這些部分的電連接斷開(kāi)的問(wèn)題。并且，其他本體部121e、121f、121g與其他交叉部122e、122f、122g可形成不區(qū)分內(nèi)部與外部的連接狀態(tài)的開(kāi)放系(open system)126。開(kāi)口部123可以成為形成于閉合系125內(nèi)部的閉合系開(kāi)口部123a與通過(guò)開(kāi)放系126形成的開(kāi)放系開(kāi)口部123b。閉合系125與開(kāi)放系126可彼此分離地獨(dú)立配置，也可以相鄰配置。并且，閉合系125內(nèi)部可以具有開(kāi)放系126，反之，開(kāi)放系126內(nèi)可以具有閉合系125。本體部121可形成端部124。這種本體部121的端部124可以向閉合系開(kāi)口部123a或開(kāi)放系開(kāi)口部123b凸出。

本體部121的寬度w例如如圖3所示，可以根據(jù)形成納米結(jié)構(gòu)體的網(wǎng)的物質(zhì)形成。例如，本體部121寬度w范圍可以是100nm≤w≤2500nm。并且，本體部121的寬度w可以根據(jù)本體部121的厚度t任意形成。例如，本體部121的厚度為t時(shí)，本體部121的寬度w范圍可以是100(nm)≤w≤5t。因此，例如本體部121的厚度t為0＜t≤100nm時(shí)，本體部121的寬度w范圍可以是100nm≤w≤500nm，本體部121的厚度t為100nm＜t≤300nm時(shí)，本體部121的寬度w范圍可以是100nm≤w≤1500nm。本體部121的厚度t為300nm＜t≤500nm時(shí)，本體部121的寬度w范圍可以是100nm＜w≤2500nm。另外，交叉部122可以具有與本體部121實(shí)質(zhì)上相同的厚度。從而可以將導(dǎo)電層120的圖案制作成單一體，交叉部122具有與本體部121實(shí)質(zhì)上相同的導(dǎo)電性，因此交叉部122能夠防止通過(guò)本體部121之間的接觸形成的情況下因接觸電阻而造成觸摸感測(cè)度下降。

導(dǎo)電層120的圖案可以是非晶形(amorphous)。如上所述，通過(guò)形成非晶形的圖案，能夠防止因晶形化的圖案的重復(fù)而出現(xiàn)波紋(moire)現(xiàn)象。但，導(dǎo)電層的圖案不限于非晶形，只要包括納米結(jié)構(gòu)體交叉排列形成的對(duì)應(yīng)于網(wǎng)的圖案的情況下任何均可。

導(dǎo)電層120的上側(cè)面例如如圖4所示，可以形成有具有黑色之類的暗色的暗色層(dark color layer)130。因此，通過(guò)上側(cè)面具有暗色層130的導(dǎo)電層120的光不會(huì)模糊，而是清晰可見(jiàn)，因此能夠提高可視性。導(dǎo)電層120由金屬形成的情況下，可通過(guò)對(duì)其上側(cè)面進(jìn)行氧化等方法輕松地形成暗色層130。導(dǎo)電層120由非金屬形成的情況下，可以通過(guò)向?qū)щ妼?20的上側(cè)面另外形成層的方法形成暗色層130。

以上參見(jiàn)附圖所示實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了說(shuō)明，但這只是例示而已，本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)理解能夠從這些實(shí)施例導(dǎo)出多種變形及等同的其他實(shí)施例。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍以技術(shù)方案為準(zhǔn)。

[本發(fā)明的實(shí)施方式]

以下根據(jù)實(shí)施例說(shuō)明用于實(shí)施發(fā)明的具體內(nèi)容。這些實(shí)施例是為了使本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員理解用于實(shí)施發(fā)明的具體內(nèi)容而提供的實(shí)施例，因此可以變形成其他多種形狀，本發(fā)明不受以下實(shí)施例的限制。

(實(shí)施例2)

本實(shí)施例例如如圖5所示，其特征在于形成于透光性導(dǎo)電體200的基板210上的導(dǎo)電層220具有納米結(jié)構(gòu)體交叉排列形成的對(duì)應(yīng)于網(wǎng)的圖案，因此具有包括本體部221與交叉部222的圖案，但由于本體部221并非從導(dǎo)電層220的一個(gè)邊緣連續(xù)延伸至其他邊緣，因此圖案內(nèi)不存在本體部221的端部。

因此，能夠通過(guò)本體部221與交叉部222更加確保導(dǎo)電層的電連接可靠性，不僅如此，由于不存在本體部221的端部之類的切斷部分，因此能夠更加切實(shí)地防止可能會(huì)在切斷部分發(fā)生的靜電現(xiàn)象。

本實(shí)施例的導(dǎo)電層220圖案采用縱橫比非常大的納米纖維作為納米結(jié)構(gòu)體，因此能夠非常容易形成。

(實(shí)施例3)

本實(shí)施例例如如圖6所示，其特征在于形成于透光性導(dǎo)電體300的基板310上的導(dǎo)電層320具有納米結(jié)構(gòu)體交叉排列形成的對(duì)應(yīng)于網(wǎng)的圖案，因此具有本體部321、交叉部322及本體部321的端部324，但由于本體部321并非從導(dǎo)電層320的一個(gè)邊緣連續(xù)延伸至其他邊緣，因此本體部321a、321b、321c與交叉部322a、322b能夠形成不區(qū)分內(nèi)部與外部的連接狀態(tài)的開(kāi)放系326，但本體部321與交叉部322無(wú)法形成內(nèi)部包括開(kāi)口部323的連接狀態(tài)的閉合系。

因此，利用縱橫比不大的納米結(jié)構(gòu)體也形成能夠確保導(dǎo)電層的電連接可靠性的圖案。

本實(shí)施例的導(dǎo)電層320圖案采用縱橫比小于納米纖維的納米管或納米線作為納米結(jié)構(gòu)體，因此能夠非常容易形成。

(實(shí)施例4)

本實(shí)施例例如如圖7所示，其特征在于對(duì)應(yīng)于透光性導(dǎo)電體400的導(dǎo)電層420的邊緣外部的基板410上具有與導(dǎo)電層420電連接的端子層430。

因此，透光性導(dǎo)電體400通過(guò)端子層430連接于外部電路(未示出)，因此能夠起到觸摸板等系統(tǒng)的構(gòu)成部分的作用。

端子層430可以由與導(dǎo)電層420相同的物質(zhì)形成，因此，用戶在導(dǎo)電層420上的觸摸等電子作用能夠順利地傳輸?shù)蕉俗訉?30。

導(dǎo)電層420由相隔預(yù)定間隔的多個(gè)感測(cè)部427構(gòu)成，用于感測(cè)外部的觸摸并傳輸電子信號(hào)。端子層430由多個(gè)端子部431、與導(dǎo)電層420的各感測(cè)部427連接的接入部432構(gòu)成。感測(cè)部427感測(cè)的電子信號(hào)通過(guò)端子層430的接入部432與端子部431傳輸?shù)酵獠侩娐贰?/p>

可以使端子層430具有實(shí)質(zhì)上與導(dǎo)電層420相同的厚度，因此能夠一起形成端子層430與導(dǎo)電層420，從而能夠簡(jiǎn)化工序。

(實(shí)施例5)

本實(shí)施例例如如圖8至圖15所示，顯示透光性導(dǎo)電體的制造方法。

根據(jù)本實(shí)施例的透光性導(dǎo)電體的制造方法，首先向基板510上涂布導(dǎo)電性物質(zhì)520(圖8)。此處，導(dǎo)電性物質(zhì)520可以是金、銀、銅等導(dǎo)電性好的金屬或具有導(dǎo)電性的非金屬。向基板520上涂布導(dǎo)電性物質(zhì)520的方法可以采用旋轉(zhuǎn)涂布、鍍金等多種方法。然后，向?qū)щ娦晕镔|(zhì)520上涂布感光性物質(zhì)530(圖9)。感光性物質(zhì)530可采用包含感光性聚合物而具有感光性的多種物質(zhì)。可通過(guò)涂布裝置531將感光性物質(zhì)漿料印刷在導(dǎo)電性物質(zhì)520上等多種方法向?qū)щ娦晕镔|(zhì)520上涂布感光性物質(zhì)530。涂布感光性物質(zhì)530后在其上面排列納米結(jié)構(gòu)體，此處納米結(jié)構(gòu)體交叉排列形成網(wǎng)540(圖10)。納米結(jié)構(gòu)體可以采用納米管、納米線、納米纖維(nano-fiber)或其混合體。然后，利用納米結(jié)構(gòu)體網(wǎng)540在感光性物質(zhì)530上形成對(duì)應(yīng)于納米結(jié)構(gòu)體網(wǎng)540的形狀(圖11)。此處，可以通過(guò)納米結(jié)構(gòu)體網(wǎng)540將感光性物質(zhì)530曝光于光源550，在感光性物質(zhì)530上形成對(duì)應(yīng)于納米結(jié)構(gòu)體網(wǎng)540的形狀。之后，用噴嘴560之類的裝置噴射顯像液使感光性物質(zhì)530形成對(duì)應(yīng)于納米結(jié)構(gòu)體網(wǎng)540的形狀(圖12)。從顯像成具有對(duì)應(yīng)于納米結(jié)構(gòu)體網(wǎng)540的形狀的感光性物質(zhì)530上部用噴嘴570之類的裝置噴射蝕刻液蝕刻使得導(dǎo)電性物質(zhì)520具有對(duì)應(yīng)于納米結(jié)構(gòu)體網(wǎng)540的圖案(圖13)。此處，優(yōu)選的是使圖案為對(duì)應(yīng)于納米結(jié)構(gòu)體網(wǎng)540的非晶形圖案。然后，用噴嘴580之類的裝置剝離殘留于具有對(duì)應(yīng)于納米結(jié)構(gòu)體網(wǎng)540的圖案的導(dǎo)電性物質(zhì)520上面的感光性物質(zhì)530形成導(dǎo)電層550(圖14)。通過(guò)如上過(guò)程制成透光性導(dǎo)電體500。

進(jìn)一步地，還可以包括向?qū)?yīng)于導(dǎo)電層550的邊緣外部的基板510上形成與導(dǎo)電層550電連接的端子層(未示出)的步驟。形成這種端子層的步驟可包括向基板510上涂布導(dǎo)電性物質(zhì)的步驟；向?qū)щ娦晕镔|(zhì)上涂布感光性物質(zhì)的步驟；在感光性物質(zhì)上排列具有對(duì)應(yīng)于端子層的形狀的掩模并曝光使得感光性物質(zhì)上形成與掩模形狀對(duì)應(yīng)的形狀的步驟；以及根據(jù)感光性物質(zhì)的形狀在導(dǎo)電性物質(zhì)上形成端子層的圖案的步驟。

(實(shí)施例6)

本實(shí)施例例如如圖16所示，顯示透光性導(dǎo)電體的另一制造方法。本實(shí)施例的透光性導(dǎo)電體600的制造方法是在一個(gè)導(dǎo)電性物質(zhì)涂層上形成導(dǎo)電層620及端子層630。為此，首先向基板610上涂布導(dǎo)電性物質(zhì)。此處，使導(dǎo)電性物質(zhì)涵蓋導(dǎo)電層620形成區(qū)域與端子層630形成區(qū)域。然后，在涂布感光性物質(zhì)之前向?qū)щ娦晕镔|(zhì)上圖案化端子層630。端子層630形成于導(dǎo)電性物質(zhì)上待形成導(dǎo)電層620的部分以外的部分?？梢酝ㄟ^(guò)光刻法形成端子層630，但不限于此。形成的端子層630包括端子部631，并且，優(yōu)選的是還包括用于使與導(dǎo)電層620之間電流順暢流動(dòng)的接入部632。形成端子層630后向?qū)щ娦晕镔|(zhì)上涂布感光性物質(zhì)且涂布范圍涵蓋圖案化端子層630的部分。之后，在除對(duì)應(yīng)于端子層630的部分以外的感緣連續(xù)延伸至其他邊緣，因此本體部321a、321b、321c與交叉部322a、322b能夠形成不區(qū)分內(nèi)部與外部的連接狀態(tài)的開(kāi)放系326，但本體部321與交叉部322無(wú)法形成內(nèi)部包括開(kāi)口部323的連接狀態(tài)的閉合系。

因此，利用縱橫比不大的納米結(jié)構(gòu)體也形成能夠確保導(dǎo)電層的電連接可靠性的圖案。

本實(shí)施例的導(dǎo)電層320圖案采用縱橫比小于納米纖維的納米管或納米線作為納米結(jié)構(gòu)體，因此能夠非常容易形成。

(實(shí)施例4)

本實(shí)施例例如如圖7所示，其特征在于對(duì)應(yīng)于透光性導(dǎo)電體400的導(dǎo)電層420的邊緣外部的基板410上具有與導(dǎo)電層420電連接的端子層430。

因此，透光性導(dǎo)電體400通過(guò)端子層430連接于外部電路(未示出)，因此能夠起到觸摸板等系統(tǒng)的構(gòu)成部分的作用。

端子層430可以由與導(dǎo)電層420相同的物質(zhì)形成，因此，用戶在導(dǎo)電層420上的觸摸等電子作用能夠順利地傳輸?shù)蕉俗訉?30。

導(dǎo)電層420由相隔預(yù)定間隔的多個(gè)感測(cè)部427構(gòu)成，用于感測(cè)外部的觸摸并傳輸電子信號(hào)。端子層430由多個(gè)端子部431、與導(dǎo)電層420的各感測(cè)部427連接的接入部432構(gòu)成。感測(cè)部427感測(cè)的電子信號(hào)通過(guò)端子層430的接入部432與端子部431傳輸?shù)酵獠侩娐贰?/p>

可以使端子層430具有實(shí)質(zhì)上與導(dǎo)電層420相同的厚度，因此能夠一起形成端子層430與導(dǎo)電層420，從而能夠簡(jiǎn)化工序。

(實(shí)施例5)

本實(shí)施例例如如圖8至圖15所示，顯示透光性導(dǎo)電體的制造方法。

根據(jù)本實(shí)施例的透光性導(dǎo)電體的制造方法，首先向基板510上涂布導(dǎo)電性物質(zhì)520(圖8)。此處，導(dǎo)電性物質(zhì)520可以是金、銀、銅等導(dǎo)電性好的金屬或具有導(dǎo)電性的非金屬。向基板520上涂布導(dǎo)電性物質(zhì)520的方法可以采用旋轉(zhuǎn)涂布、鍍金等多種方法。然后，向?qū)щ娦晕镔|(zhì)520上涂布感光性物質(zhì)530(圖9)。感光性物質(zhì)530可采用包含感光性聚合物而具有感光性的多種物質(zhì)?？赏ㄟ^(guò)涂布裝置531將感光性物質(zhì)漿料印刷在導(dǎo)電性物質(zhì)520上等多種方法向?qū)щ娦晕镔|(zhì)520上涂布感光性物質(zhì)530。涂布感光性物質(zhì)530后在其上面排列納米結(jié)構(gòu)體，此處納米結(jié)構(gòu)體交叉排列形成網(wǎng)540(圖10)。納米結(jié)構(gòu)體可以采用納米管、納米線、納米纖維(nano-fiber)或其混合體。然后，利用納米結(jié)構(gòu)體網(wǎng)540在感光性物質(zhì)530上形成對(duì)應(yīng)于納米結(jié)構(gòu)體網(wǎng)540的形狀(圖11)。此處，可以通過(guò)納米結(jié)構(gòu)體網(wǎng)540將感光性物質(zhì)530曝光于光源550，在感光性物質(zhì)530上形成對(duì)應(yīng)于納米結(jié)構(gòu)體網(wǎng)540的形狀。之后，用噴嘴560之類的裝置噴射顯像液使感光性物質(zhì)530形成對(duì)應(yīng)于納米結(jié)構(gòu)體網(wǎng)540的形狀(圖12)。從顯像成具有對(duì)應(yīng)于納米結(jié)構(gòu)體網(wǎng)540的形狀的感光性物質(zhì)530上部用噴嘴570之類的裝置噴射蝕刻液蝕刻使得導(dǎo)電性物質(zhì)520具有對(duì)應(yīng)于納米結(jié)構(gòu)體網(wǎng)540的圖案(圖13)。此處，優(yōu)選的是使圖案為對(duì)應(yīng)于納米結(jié)構(gòu)體網(wǎng)540的非晶形圖案。然后，用噴嘴580之類的裝置剝離殘留于具有對(duì)應(yīng)于納米結(jié)構(gòu)體網(wǎng)540的圖案的導(dǎo)電性物質(zhì)520上面的感光性物質(zhì)530形成導(dǎo)電層550(圖14)。通過(guò)如上過(guò)程制成透光性導(dǎo)電體500。

進(jìn)一步地，還可以包括向?qū)?yīng)于導(dǎo)電層550的邊緣外部的基板510上形成與導(dǎo)電層550電連接的端子層(未示出)的步驟。形成這種端子層的步驟可包括向基板510上涂布導(dǎo)電性物質(zhì)的步驟；向?qū)щ娦晕镔|(zhì)上涂布感光性物質(zhì)的步驟；在感光性物質(zhì)上排列具有對(duì)應(yīng)于端子層的形狀的掩模并曝光使得感光性物質(zhì)上形成與掩模形狀對(duì)應(yīng)的形狀的步驟；以及根據(jù)感光性物質(zhì)的形狀向?qū)щ娦晕镔|(zhì)上形成端子層的圖案的步驟。

(本實(shí)光性物質(zhì)上排列納米結(jié)構(gòu)體，此處納米結(jié)構(gòu)體交叉排列形成網(wǎng)。為此，利用對(duì)應(yīng)于端子層630的部分遮蔽且對(duì)應(yīng)于導(dǎo)電層620的部分開(kāi)放的蔭罩之類的裝置向感光性物質(zhì)上涂布納米結(jié)構(gòu)體。然后，利用納米結(jié)構(gòu)體網(wǎng)通過(guò)曝光及顯像將感光性物質(zhì)形成為對(duì)應(yīng)于納米結(jié)構(gòu)體網(wǎng)的形狀。然后，根據(jù)如上形成的感光性物質(zhì)的形狀，在除端子層630以外的導(dǎo)電性物質(zhì)形成圖案以形成連接于端子層630的導(dǎo)電層620。

因此，在制造透光性導(dǎo)電體600時(shí)在一個(gè)導(dǎo)電性物質(zhì)上一起形成導(dǎo)電層620及端子層630，一起形成導(dǎo)電層620的感測(cè)部627與端子層630的端子部631，因此能夠簡(jiǎn)化工序且節(jié)省材料。并且，由于能夠縮小基板中用于形成端子層630的部分的區(qū)域，因此能夠?qū)崿F(xiàn)顯示器的緊湊化。

(實(shí)施例7)

本實(shí)施例例如如圖17所示，顯示透光性導(dǎo)電體的又一制造方法。本實(shí)施例的透光性制造方法的特征在于利用第一輥691與第二輥692通過(guò)連續(xù)工序制造透光性導(dǎo)電體。

卷繞于第一輥791的涂布有導(dǎo)電性物質(zhì)720的基板710通過(guò)第二輥792拉開(kāi)，通過(guò)相鄰第一輥791的涂布裝置731向?qū)щ娦晕镔|(zhì)720上連續(xù)涂布感光性物質(zhì)730。之后，按照工序流程設(shè)置于感光性物質(zhì)730涂布裝置731之后的噴射裝置741在感光性物質(zhì)730上形成納米結(jié)構(gòu)體交叉排列的網(wǎng)740。然后，按照工序流程順序設(shè)置的曝光裝置750、顯像裝置760、蝕刻裝置770及剝離裝置780依次進(jìn)行感光性物質(zhì)730的曝光及顯像、導(dǎo)電性物質(zhì)720的蝕刻及殘留感光性物質(zhì)730的剝離，在基板710上形成導(dǎo)電層790的圖案或?qū)щ妼?90與端子層(未示出)的圖案。透光性導(dǎo)電體700如上制成。之后透光性導(dǎo)電體700卷繞于第二輥792。

由于能夠如上連續(xù)制造透光性導(dǎo)電體，因此工序變得簡(jiǎn)化、迅速、容易。

本發(fā)明參考附圖所示實(shí)施例進(jìn)行了說(shuō)明，但這只是舉例說(shuō)明而已，本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)理解可以從這些實(shí)施例進(jìn)行多種變形及得到等同的其他實(shí)施例。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍為技術(shù)方案所記載的技術(shù)思想。

工業(yè)應(yīng)用性

本發(fā)明可用于適用透光性導(dǎo)電體及其制造方法的領(lǐng)域。