本實(shí)用新型涉及儀器組裝領(lǐng)域，具體而言，涉及一種團(tuán)簇的質(zhì)量選擇裝置及團(tuán)簇的處理裝置。

背景技術(shù)：

金屬、氧化物納米團(tuán)簇由于量子尺寸效應(yīng)，造成電子、能帶結(jié)構(gòu)的變化。通過控制納米團(tuán)簇尺寸的制備，可以實(shí)現(xiàn)不同用途的功能材料，如生物醫(yī)學(xué)、氣體傳感、光催化等。對于納米團(tuán)簇的制備，通常有水熱合成方法及氣相團(tuán)簇沉積方法。相比于水熱合成，氣相團(tuán)簇沉積方法制備的納米團(tuán)簇尺寸可控、無其它雜相，方法簡單，受到人們的青睞。

團(tuán)簇束流實(shí)驗(yàn)裝置中的質(zhì)量選擇器是對團(tuán)簇的粒徑進(jìn)行篩選，的實(shí)驗(yàn)設(shè)備。但是傳統(tǒng)的團(tuán)簇質(zhì)量選擇器的選擇精度并不高，不能夠?qū)⒉煌|(zhì)量的團(tuán)簇束流進(jìn)行精確的分離。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的在于提供一種團(tuán)簇的質(zhì)量選擇裝置，其設(shè)置有加速區(qū)、飛行區(qū)和減速區(qū)對團(tuán)簇粒子進(jìn)行分離，經(jīng)過多次篩選精確地分離出特定質(zhì)量的團(tuán)簇粒子，方便后續(xù)處理操作的運(yùn)行。

本實(shí)用新型的另一目的在于提供一種團(tuán)簇的處理裝置，其包括上述質(zhì)量選擇裝置，經(jīng)過質(zhì)量選擇裝置的多層篩選，精確地分離出特定質(zhì)量的團(tuán)簇粒子，使后續(xù)的團(tuán)簇處理工作更有效地進(jìn)行。

本實(shí)用新型的實(shí)施例是這樣實(shí)現(xiàn)的：

一種團(tuán)簇的質(zhì)量選擇裝置，包括質(zhì)量選擇器和電場施加裝置，電場施加裝置通過電源線與質(zhì)量選擇器相連接，質(zhì)量選擇器設(shè)置有粒子選擇腔，粒子選擇腔內(nèi)從上到下依次設(shè)置有第一電極板、第二電極板、第三電極板和第四電極板，第一電極板和第二電極板之間形成質(zhì)量選擇器的加速區(qū)，第二電極板和第三電極板之間形成質(zhì)量選擇器的飛行區(qū)，第三電極板和第四電極板之間形成質(zhì)量選擇器的減速區(qū)；

第二電極板設(shè)置有供團(tuán)簇粒子由加速區(qū)進(jìn)入飛行區(qū)的第一連通口，第三電極板上設(shè)置有供團(tuán)簇粒子由飛行區(qū)進(jìn)入減速區(qū)的第二連通口，質(zhì)量選擇器對應(yīng)減速區(qū)的側(cè)壁上設(shè)置有供篩選出的團(tuán)簇粒子射出的通道出口；

當(dāng)電場施加裝置對質(zhì)量選擇器施加高頻電場時(shí)，加速區(qū)內(nèi)形成使團(tuán)簇粒子加速的加速電場，減速區(qū)內(nèi)形成使團(tuán)簇粒子減速的減速電場。

在本實(shí)用新型較佳的實(shí)施例中，上述第一電極板和第二電極板的寬度值均大于1.5倍的第一電極板和第二電極板之間的距離值。

在本實(shí)用新型較佳的實(shí)施例中，上述第一連通口的寬度值大于第一電極板和第二電極板之間的距離值，上述第二連通口的寬度值大于第二電極板和第三電極板之間的距離值。

在本實(shí)用新型較佳的實(shí)施例中，上述團(tuán)簇的質(zhì)量選擇裝置還包括對團(tuán)簇束流進(jìn)行聚焦的離子光學(xué)透鏡，離子光學(xué)透鏡的出口與質(zhì)量選擇器的入口相連通。

在本實(shí)用新型較佳的實(shí)施例中，上述離子光學(xué)透鏡包括一個(gè)位置固定的單透鏡。

在本實(shí)用新型較佳的實(shí)施例中，上述離子光學(xué)透鏡包括兩個(gè)同軸且相對設(shè)置的單透鏡。

在本實(shí)用新型較佳的實(shí)施例中，兩個(gè)上述單透鏡的內(nèi)壁均為圓筒形結(jié)構(gòu)。

在本實(shí)用新型較佳的實(shí)施例中，上述離子光學(xué)透鏡的入口與單透鏡之間設(shè)置有兩個(gè)偏轉(zhuǎn)板組，每個(gè)偏轉(zhuǎn)板組均包括兩個(gè)相互平行的偏轉(zhuǎn)板，兩個(gè)偏轉(zhuǎn)板對稱設(shè)置于兩個(gè)單透鏡軸線的兩側(cè)。

在本實(shí)用新型較佳的實(shí)施例中，上述團(tuán)簇的質(zhì)量選擇裝置還包括超真空傳樣系統(tǒng)，質(zhì)量選擇器的通道出口與超真空傳樣系統(tǒng)的入口相連通。

一種團(tuán)簇的處理裝置，其包括上述團(tuán)簇的質(zhì)量選擇裝置。

本實(shí)用新型實(shí)施例的有益效果是：團(tuán)簇粒子的質(zhì)量選擇采用了多層篩選的方式，從質(zhì)量選擇器入口進(jìn)入的團(tuán)簇粒子經(jīng)過加速區(qū)加速后，再經(jīng)過飛行區(qū)的篩選進(jìn)入減速區(qū)，經(jīng)過減速區(qū)篩選出的團(tuán)簇粒子從質(zhì)量選擇器的通道出口射出，經(jīng)過超高真空傳樣系統(tǒng)進(jìn)入后續(xù)處理設(shè)備。經(jīng)過多層篩選，精確分離出特定質(zhì)量的團(tuán)簇粒子，提高了質(zhì)量選擇的精確性，有利于后續(xù)處理操作的運(yùn)行。

附圖說明

為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例中所需要使用的附圖作簡單地介紹，應(yīng)當(dāng)理解，以下附圖僅示出了本實(shí)用新型的某些實(shí)施例，因此不應(yīng)被看作是對范圍的限定，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他相關(guān)的附圖。

圖1為本實(shí)用新型第一實(shí)施例提供的團(tuán)簇的質(zhì)量選擇裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本實(shí)用新型第一實(shí)施例提供的質(zhì)量選擇器的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本實(shí)用新型第一實(shí)施例中不同粒徑的Cu納米團(tuán)簇對應(yīng)的電流強(qiáng)度；

圖4為本實(shí)用新型第二實(shí)施例提供的團(tuán)簇的質(zhì)量選擇裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為本實(shí)用新型第二實(shí)施例提供的離子光學(xué)透鏡的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6為本實(shí)用新型第二實(shí)施例提供的偏振板組的離子束電位線的示意圖。

圖標(biāo)：100a-團(tuán)簇的質(zhì)量選擇裝置；100b-團(tuán)簇的質(zhì)量選擇裝置；110-電場施加裝置；120-離子光學(xué)透鏡；130-質(zhì)量選擇器；131-粒子選擇腔；140-超高真空傳樣系統(tǒng)；132-第一電極板；133a-加速區(qū)；133b-飛行區(qū)；133c-減速區(qū)；134-第二電極板；136-第三電極板；138-第四電極板；135-第一連通口；137-第二連通口；139-通道出口；122-第一單透鏡；124-第二單透鏡；126-偏轉(zhuǎn)板組；1262-第一偏轉(zhuǎn)板；1264-第二偏轉(zhuǎn)板。

具體實(shí)施方式

為使本實(shí)用新型實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。通常在此處附圖中描述和示出的本實(shí)用新型實(shí)施例的組件可以以各種不同的配置來布置和設(shè)計(jì)。

因此，以下對在附圖中提供的本實(shí)用新型的實(shí)施例的詳細(xì)描述并非旨在限制要求保護(hù)的本實(shí)用新型的范圍，而是僅僅表示本實(shí)用新型的選定實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。

應(yīng)注意到：相似的標(biāo)號和字母在下面的附圖中表示類似項(xiàng)，因此，一旦某一項(xiàng)在一個(gè)附圖中被定義，則在隨后的附圖中不需要對其進(jìn)行進(jìn)一步定義和解釋。

在本實(shí)用新型的描述中，需要說明的是，術(shù)語“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，或者是該實(shí)用新型產(chǎn)品使用時(shí)慣常擺放的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本實(shí)用新型和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對本實(shí)用新型的限制。此外，術(shù)語“第一”、“第二”、“第三”等僅用于區(qū)分描述，而不能理解為指示或暗示相對重要性。

此外，術(shù)語“水平”、“豎直”、“懸垂”等術(shù)語并不表示要求部件絕對水平或懸垂，而是可以稍微傾斜。如“水平”僅僅是指其方向相對“豎直”而言更加水平，并不是表示該結(jié)構(gòu)一定要完全水平，而是可以稍微傾斜。

在本實(shí)用新型的描述中，還需要說明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語“設(shè)置”、“安裝”、“相連”、“連接”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可以是機(jī)械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，可以是兩個(gè)元件內(nèi)部的連通。對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以具體情況理解上述術(shù)語在本實(shí)用新型中的具體含義。

第一實(shí)施例

請參照圖1，本實(shí)施例提供一種團(tuán)簇的質(zhì)量選擇裝置100a，其包括質(zhì)量選擇器130和超高真空傳樣系統(tǒng)140，由團(tuán)簇粒子發(fā)生裝置經(jīng)過處理后的團(tuán)簇粒子從質(zhì)量選擇器130的入口進(jìn)入，經(jīng)過質(zhì)量選擇器130篩選出的團(tuán)簇粒子經(jīng)超高真空傳樣系統(tǒng)140傳輸進(jìn)入后續(xù)處理設(shè)備。

請參照圖2，團(tuán)簇的質(zhì)量選擇裝置100a包括質(zhì)量選擇器130和電場施加裝置110，電場施加裝置110通過電源線與質(zhì)量選擇器130相連接，團(tuán)簇粒子由質(zhì)量選擇器130的側(cè)壁的下方射入，從對應(yīng)的另一側(cè)壁的上方射出。質(zhì)量選擇器130設(shè)置有粒子選擇腔131，粒子選擇腔131內(nèi)從上到下依次設(shè)置有第一電極板132、第二電極板134、第三電極板136和第四電極板138。第一電極板132與第二電極板134之間的空腔形成質(zhì)量選擇器130的加速區(qū)133a；第二電極板134和第三電極板136之間的空腔形成質(zhì)量選擇器130的飛行區(qū)133b；第三電極板136和第四電極板138之間的空腔形成質(zhì)量選擇器130的減速區(qū)133c。

進(jìn)一步地，在第二電極板134上設(shè)置有第一連通口135，團(tuán)簇粒子通過第一連通口135從加速區(qū)133a進(jìn)入飛行區(qū)133b。在第三電極板136上設(shè)置有第二連通口137，團(tuán)簇粒子通過第二連通口137從飛行區(qū)133b進(jìn)入減速區(qū)133c。在減速區(qū)133c設(shè)置有通道出口139，經(jīng)質(zhì)量選擇器130對應(yīng)減速區(qū)133c上設(shè)置有通道出口139，篩選出的團(tuán)簇粒子由通道出口139射出，進(jìn)入后續(xù)處理設(shè)備。

兩個(gè)相反的并帶有一定相位差的高頻電場分別加于加速區(qū)133a和減速區(qū)133c。優(yōu)選地，第一電極板132、第二電極板134、第三電極板136和第四電極板138均平行底面且間隔設(shè)置，這樣設(shè)置使團(tuán)簇粒子在加速區(qū)133a電場力的方向由第一電極板132指向第二電極板134，使團(tuán)簇粒子做運(yùn)動方向與電場方向相同的加速運(yùn)動；團(tuán)簇粒子在減速區(qū)133c電場力的方向由第四電極板138指向第三電極板136，使團(tuán)簇粒子做運(yùn)動方向與電場力方向相反的減速運(yùn)動。

具體地，團(tuán)簇粒子進(jìn)入加速區(qū)133a具有水平初速度，并在電場力的作用下沿與第一電極板132和第二電極板134垂直的方向加速運(yùn)動，因此團(tuán)簇粒子在加速區(qū)133a沿拋物線運(yùn)動，通過第一連通口135進(jìn)入飛行區(qū)133b。在飛行區(qū)133b團(tuán)簇粒子沿拋物線運(yùn)動，通過第二連通口137進(jìn)入減速區(qū)133c。在減速區(qū)133c團(tuán)簇粒子的速度逐漸減少，并沿拋物線運(yùn)動，由通道出口139射出。

優(yōu)選地，由通道出口139射出的團(tuán)簇粒子經(jīng)超高真空傳樣系統(tǒng)140傳輸進(jìn)入后續(xù)處理設(shè)備。在其他實(shí)施方式中，質(zhì)量選擇器130篩選出的團(tuán)簇粒子也可以不經(jīng)過超高真空傳樣系統(tǒng)140傳輸進(jìn)入后續(xù)處理設(shè)備。但是非真空或真空度不夠的傳樣系統(tǒng)存在明顯的阻力，影響團(tuán)簇粒子的飛行，而影響團(tuán)簇粒子的傳輸效果。

需要指出的是，在進(jìn)入質(zhì)量選擇器130后，部分團(tuán)簇粒子不能由第一連通口135進(jìn)入飛行區(qū)133b，或不能由第二連通口137進(jìn)入減速區(qū)133c，或不能沿通道出口139射出，這些團(tuán)簇粒子不能通過質(zhì)量選擇器130的篩選，只有特定質(zhì)量的團(tuán)簇粒子才能通過質(zhì)量選擇器130，而進(jìn)入后續(xù)處理設(shè)備，而產(chǎn)生了團(tuán)簇?fù)p失。

優(yōu)選地，第一電極板132和第二電極板134的寬度值均大于1.5倍的第一電極板132和第二電極板134之間的距離值，以更大程度上降低質(zhì)量選擇器130的團(tuán)簇?fù)p失。在其他實(shí)施方式中，第一電極板132與第二電極板134之間的距離、第二電極板134與第三電極板136之間的距離、第三電極板136與第四電極板138之間的距離相等，且第一電極板132、第二電極板134、第三電極板136和第四電極板138的寬度值均大于1.5倍的相鄰兩個(gè)電極板的距離值，使團(tuán)簇粒子經(jīng)過每一層通道均得到更好的分離，提高篩選的精確率。

優(yōu)選地，第一連通口135的寬度值L₁大于第一電極板132和第二電極板134之間的距離值，且第二連通口137的寬度值L₂大于第二電極板134和第三電極板136之間的距離值，以降低團(tuán)簇粒子的質(zhì)量損失。

優(yōu)選地，對加速區(qū)133a和減速區(qū)133c所施加的高頻電場可以根據(jù)所要篩選出的特定質(zhì)量的團(tuán)簇粒子進(jìn)行調(diào)節(jié)，以更好篩選出多種特定質(zhì)量的團(tuán)簇粒子。如圖3所示，不同粒徑的Cu納米團(tuán)簇對應(yīng)的電流強(qiáng)度不同，可根據(jù)要篩選出的粒徑來調(diào)節(jié)適當(dāng)?shù)碾娏鲝?qiáng)度。

本施例提供的團(tuán)簇的質(zhì)量選擇裝置100a，團(tuán)簇粒子進(jìn)入質(zhì)量選擇器130后的經(jīng)過加速區(qū)133a、飛行區(qū)133b和減速區(qū)133c后，篩選出的團(tuán)簇粒子由通道出口139射出，加速區(qū)133a加以加速電場且減速區(qū)133c加以減速電場，顯著提高了團(tuán)簇粒子篩選的精確度，使篩選出的特定質(zhì)量的團(tuán)簇粒子滿足生產(chǎn)的要求。對加速區(qū)133a和減速區(qū)133c所施加的高頻電場可以根據(jù)所要篩選出的特定質(zhì)量的團(tuán)簇粒子進(jìn)行調(diào)節(jié)，可以篩選多種特定質(zhì)量的團(tuán)簇粒子，拓寬了團(tuán)簇的質(zhì)量選擇裝置100a的應(yīng)用范圍。

第二實(shí)施例

請參照圖4，本實(shí)施例提供一種團(tuán)簇的質(zhì)量選擇裝置100b，其與第一實(shí)施例的團(tuán)簇的質(zhì)量選擇裝置100a大致相同，二者的區(qū)別在于本實(shí)施例的團(tuán)簇的質(zhì)量選擇裝置100b還包括離子光學(xué)透鏡120。離子光學(xué)透鏡120用于對團(tuán)簇粒子進(jìn)行聚焦，使長時(shí)間飛行的團(tuán)簇粒子進(jìn)行匯聚后進(jìn)入質(zhì)量選擇器130，且離子光學(xué)透鏡120可以在不改變離子束焦點(diǎn)位置的情況下，實(shí)現(xiàn)團(tuán)簇束流的直徑連續(xù)可調(diào)。

請參照圖5，離子光學(xué)透鏡120包括兩個(gè)同軸且相對位置固定的單透鏡，即第一單透鏡122和第二單透鏡124。具體地，第一單透鏡122和第二單透鏡124可以設(shè)置為內(nèi)壁為圓筒的結(jié)構(gòu)，對于近軸飛行的離子只有圓筒的內(nèi)壁及端面起作用，而產(chǎn)生聚焦所需的電場。因此在聚焦過程中應(yīng)盡量保證內(nèi)壁和端面的加工精度及表面粗糙度，而對于圓筒的外壁形狀只要在不影響近軸區(qū)域電場分布的情況下并無特殊要求。

當(dāng)團(tuán)簇粒子沿離子光學(xué)透鏡120的軸線進(jìn)入第一單透鏡122和第二單透鏡124，可以通過調(diào)節(jié)第一單透鏡122和第二單透鏡124的電位，在不改變焦點(diǎn)的情況下改變團(tuán)簇粒子的放大倍數(shù)。團(tuán)簇粒子經(jīng)過第一單透鏡122初步聚焦后，第二單透鏡124將團(tuán)簇粒子再次聚焦。在其他實(shí)施方式中，也可以采用一個(gè)單透鏡進(jìn)行聚焦。但是，本實(shí)施例中采用兩個(gè)單透鏡對團(tuán)簇粒子進(jìn)行聚焦的效果更佳，實(shí)現(xiàn)了方法倍數(shù)的可調(diào)，且使單透鏡與前后級的結(jié)構(gòu)更好的配合。

需要說明的是，在其他實(shí)施例中單透鏡可以設(shè)置為三個(gè)，同樣也可以設(shè)置為其他形狀。單透鏡可以設(shè)置為三個(gè)同軸的圓盤結(jié)構(gòu)，圓盤中心設(shè)有圓孔，且圓孔位于同一軸線上。三個(gè)圓盤將空間分隔為兩個(gè)區(qū)域，并在這兩個(gè)區(qū)域內(nèi)產(chǎn)生的是均勻電場。這種結(jié)構(gòu)的單透鏡只有圓盤上的圓孔內(nèi)壁及盤面用于產(chǎn)生聚焦所需的電場，所以在加工過程中應(yīng)盡量保證圓孔內(nèi)壁和盤面的加工精度及表面粗糙度。

在工程應(yīng)用中，很難保證單透鏡與其前一級結(jié)構(gòu)同軸。例如，由于機(jī)械加工的精度，很難保證單透鏡兩端的法蘭與單透鏡軸線完全垂直；單透鏡內(nèi)部構(gòu)件的裝配固定，也很難保證該結(jié)構(gòu)與單透鏡的軸線完全平行；單透鏡兩端的法蘭是采用銅圈墊片和螺絲固定，難以保證單透鏡與前一級結(jié)構(gòu)完全同軸。優(yōu)選地，在團(tuán)簇粒子進(jìn)入單透鏡進(jìn)行聚焦之前，采用兩個(gè)偏轉(zhuǎn)板組126對團(tuán)簇粒子的飛行方向進(jìn)行修正，使團(tuán)簇粒子通過兩個(gè)偏轉(zhuǎn)板組126后沿單透鏡的軸線飛行，再進(jìn)入單透鏡進(jìn)行聚焦。

請參照圖6，每個(gè)偏轉(zhuǎn)板組126包括兩個(gè)相互平行設(shè)置的偏轉(zhuǎn)板，分別為第一偏轉(zhuǎn)板1262和第二偏轉(zhuǎn)板1264，第一偏轉(zhuǎn)板1262和第二偏轉(zhuǎn)板1264對稱設(shè)置于第一單透鏡122和第二單透鏡124軸線的兩側(cè)。第一偏轉(zhuǎn)板1262和第二偏轉(zhuǎn)板1264分別為矩形結(jié)構(gòu)，且第一偏轉(zhuǎn)板1262和第二偏轉(zhuǎn)板1264采用對稱供電的方式，即第一偏轉(zhuǎn)板1262的電位設(shè)置為V₀+1/2V_D時(shí)，第二偏轉(zhuǎn)板1264的電位設(shè)置為V₀-1/2V_D，這樣就保證了偏轉(zhuǎn)板組126間的電壓差始終為V_D，這樣就保證了等電位線是對稱的，使偏轉(zhuǎn)板組126產(chǎn)生的電場力相對均勻，可以減少團(tuán)簇粒子束發(fā)生畸變的可能。

需要說明的是，本實(shí)施例中質(zhì)量選擇器130的團(tuán)簇?fù)p失小于50％，進(jìn)入質(zhì)量選擇器130的團(tuán)簇粒子控制在小于等于1000000amu，質(zhì)量范圍在幾個(gè)原子至幾十個(gè)納米?？刂七M(jìn)入質(zhì)量選擇器130的團(tuán)簇粒子的質(zhì)量在保證分離出團(tuán)簇粒子的精確度的同時(shí)，降低團(tuán)簇粒子的損失率，一定程度上節(jié)約操作生產(chǎn)的成本。

本實(shí)用新型還提供了一種團(tuán)簇的處理裝置，其包括了第一實(shí)施例和第二實(shí)施例中的團(tuán)簇的質(zhì)量選擇裝置，由團(tuán)簇的發(fā)生裝置產(chǎn)生的團(tuán)簇粒子經(jīng)過處理后進(jìn)入團(tuán)簇的質(zhì)量選擇裝置；使團(tuán)簇粒子經(jīng)過加速區(qū)133a加速后進(jìn)入飛行區(qū)133b，由飛行區(qū)133b篩選出的團(tuán)簇粒子進(jìn)入減速區(qū)133c，由飛行區(qū)133b篩選出的團(tuán)簇粒子由通道出口139射出，經(jīng)過多層分離篩選，精確分離出特定質(zhì)量的團(tuán)簇粒子；篩選出的團(tuán)簇粒子經(jīng)過超高真空傳樣系統(tǒng)140進(jìn)入后續(xù)的處理裝置中。

綜上所述，本實(shí)用新型提供了一種團(tuán)簇的質(zhì)量選擇裝置及團(tuán)簇的處理裝置，團(tuán)簇粒子進(jìn)入質(zhì)量選擇器130的加速區(qū)133a，經(jīng)過加速飛行篩選后進(jìn)入飛行區(qū)133b，由飛行區(qū)133b篩選出的團(tuán)簇粒子進(jìn)入減速區(qū)133c，由減速區(qū)133c篩選出的團(tuán)簇粒子由通道出口139射出，經(jīng)過多層分離篩選，精確分離出特定質(zhì)量的團(tuán)簇粒子，提高了質(zhì)量選擇的精確性；對所施加的高頻電場可以根據(jù)所要篩選出的特定質(zhì)量的團(tuán)簇粒子進(jìn)行調(diào)節(jié)，篩選出多種特定質(zhì)量的團(tuán)簇粒子；離子光學(xué)透鏡120用于對團(tuán)簇粒子進(jìn)行聚焦，使團(tuán)簇粒子進(jìn)行匯聚后進(jìn)入質(zhì)量選擇器130；在團(tuán)簇粒子進(jìn)入單透鏡進(jìn)行聚焦之前，采用兩個(gè)偏轉(zhuǎn)板組126對團(tuán)簇粒子的飛行方向進(jìn)行修正，使團(tuán)簇粒子通過兩個(gè)偏轉(zhuǎn)板組126后沿單透鏡的軸線飛行。

以上所述僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例而已，并不用于限制本實(shí)用新型，對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，本實(shí)用新型可以有各種更改和變化。凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。