專利名稱：新型的硅片腐蝕裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型是一種用于腐蝕硅片的裝置，屬于半導體技術領域。
硅片腐蝕是研制各種傳感器、執(zhí)行器和加工SOI材料的關鍵工藝之一。在現(xiàn)有的腐蝕裝置中，硅片要通過粘合劑固定在樣品架上，因而硅片裝卸不便，且容易受粘合劑的沾污。另外，由于樣品架轉動與攪拌腐蝕液的攪拌子之間為同軸轉動，既容易產生渦流，且因硅片各處線速度不同而導致硅片各處的腐蝕速率不同。因此，現(xiàn)有裝置很難保證硅片大面積腐蝕的均勻性。
本實用新型的目的在于針對現(xiàn)有技術的不足，提供一種硅片裝卸方便，可獲得大面積均勻腐蝕的硅片腐蝕裝置。
本實用新型由腐蝕槽、樣品架和攪拌系統(tǒng)組成，其特點在于樣品架采用三爪式結構，攪拌系統(tǒng)采用偏心的雙向旋轉攪拌即偏心樣品架的轉動方向與攪拌子的轉動方向相反。為了便于控制腐蝕溫度，腐蝕槽中可設置溫度傳感器，并通過溫度控制器來控制腐蝕液溫度。三爪式樣品架由有機玻璃或具有彈性的塑料制成。樣品架除了做成三爪式結構以外，也可以做成兩爪、四爪或五爪等多爪式結構。
本實用新型具有結構簡單、使用方便等優(yōu)點，在使用過程中無粘合劑沾污，硅片無殘留不腐蝕部分。由于采用的攪拌系統(tǒng)消除了渦流，硅片各點平均線速度均勻，因此可使硅片獲得均勻腐蝕，提高腐蝕后的硅片質量。


圖1是本實用新型的結構示意圖；圖2是用于不同直徑硅片的樣品架示意圖；圖3是用于同一直徑硅片的多爪式樣品架示意圖。
本實用新型可采用如下方案實現(xiàn)采用如圖1所示的結構，腐蝕槽(1)用500～1000ml或容積更大的塑料容器或玻璃容器；將樣品架(2)相對腐蝕槽偏心放置，并用直流調速電機帶動，以適當?shù)霓D速按一定方向轉動；磁攪拌器使磁攪拌子(3)以一定的轉速按與樣品架轉動方向相反的方向轉動；溫度傳感器(4)可采用水銀接觸開關；溫度控制器(5)可采用普通的電子溫度控制器。為了使一個樣品架可以裝放不同直徑的硅片，可采取如圖2所示的錐形三爪式結構。若要使一個樣品架可以裝放多片同一直徑的硅片，可采用圖3所示的結構。轉軸(6)與直流調速電機相連接，彈性爪(7)上開有多個裝片槽(8)，同一層上的裝片槽應當保持在同一平面位置上。對于腐蝕厚度很薄的硅片，可采用將硅片粘附在其它材料的襯底片上進行腐蝕。
權利要求1.一種可獲得大面積均勻腐蝕的硅片腐蝕裝置，由腐蝕槽、樣品架和攪拌系統(tǒng)組成，其特征在于樣品架采用三爪式結構，攪拌系統(tǒng)采用偏心的雙向旋轉攪拌子，樣品架的轉動方向與攪拌子的轉動方向相反。
2.根據(jù)權利要求1所述的硅片腐蝕裝置，其特征在于樣品架可做成兩爪、四爪或五爪等多爪式結構。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的硅片腐蝕裝置，其特征在于樣品架由有機玻璃或具有彈性的塑料制成。
4.根據(jù)權利要求3所述的硅片腐蝕裝置，其特征在于樣品架由轉軸和彈性爪構成，彈性爪上開有多個裝片槽。
專利摘要新型的硅片腐蝕裝置是一種可獲得大面積均勻腐蝕的硅片腐蝕裝置，由腐蝕槽、樣品架和攪拌系統(tǒng)組成，其特點是樣品架采用三爪式結構，攪拌系統(tǒng)采用偏心的雙向旋轉攪拌子，樣品架的轉動方向與攪拌子的轉向相反，采用溫度控制器控制腐蝕液溫度，具有結構簡單、使用方便等優(yōu)點，可獲得大面積均勻腐蝕的硅片。
文檔編號H01L21/02GK2058786SQ89205180
公開日1990年6月27日 申請日期1989年6月23日 優(yōu)先權日1989年6月23日
發(fā)明者呂世驥 申請人:東南大學