0及第一到第三平臺(tái)622、632及642的相應(yīng)下部部分上，且第一到第四光束切割器911、912、913及914連接到第一到第四熱屏蔽部件921、922、923及924。因此，第一到第四光束切割器911、912、913及914分別并未連接到基部610及第一到第三平臺(tái)622、632及642，且由此間隔開(kāi)。因此，盡管從圖像形成系統(tǒng)800反射的激光束入射到第一到第四光束切割器911、912,913及914，且對(duì)第一到第四光束切割器911、912、913及914加熱，但防止來(lái)自第一到第四光束切割器911、912、913及914的熱直接轉(zhuǎn)移到基部610及第一到第三平臺(tái)622、632及642。因此，使基部610及第一到第三平臺(tái)622、632及642因由從圖像形成系統(tǒng)800反射的激光束產(chǎn)生的高溫?zé)釋?dǎo)致的變形最小化。
[0044]下文中，現(xiàn)將參考圖1到3根據(jù)示范性實(shí)施例來(lái)描述使用激光熱處理設(shè)備的襯底處理方法。
[0045]首先，將覆蓋有用于覆蓋其上堆疊陽(yáng)極、空穴注入層及空穴傳輸層的襯底的薄膜的待處理物體置于腔室100中的襯底平臺(tái)300上。上部薄膜的下部表面涂布有由有機(jī)物質(zhì)形成的發(fā)光材料。下文中，覆蓋有用于覆蓋其上堆疊陽(yáng)極、空穴注入層及空穴傳輸層的襯底的薄膜的待處理物體在描述中為方便起見(jiàn)就被稱作“襯底S”。
[0046]在將襯底S置于腔室100中的襯底平臺(tái)300上時(shí)，襯底S水平地移動(dòng)，且同時(shí)以激光進(jìn)行輻射。為此目的，振蕩部分400進(jìn)行操作，且線產(chǎn)生器500將點(diǎn)狀激光改變成經(jīng)引導(dǎo)到掩模M的線狀激光。穿過(guò)掩模M的激光由圖像形成系統(tǒng)800聚焦，且接著經(jīng)由透射窗口110到達(dá)襯底S。此時(shí)，以激光來(lái)輻射形成于上部薄膜的下部表面上的發(fā)光材料以在空穴傳輸層上形成薄膜，從而形成發(fā)射層。
[0047]雖然入射到圖像形成系統(tǒng)800的大部分激光穿過(guò)圖像形成系統(tǒng)800且到達(dá)襯底S，但其一部分由圖像形成系統(tǒng)800散射且被向上引導(dǎo)到掩模支撐模塊600。然而,光束切割器910安裝于其中部分激光從圖像形成系統(tǒng)800反射且被散射到掩模支撐模塊600的區(qū)中。更特定來(lái)說(shuō)，第一到第四光束切割器911、912、913及914經(jīng)安裝以對(duì)應(yīng)于其中從圖像形成系統(tǒng)800反射及散射的激光束分別入射或擴(kuò)散到基部610及第一到第三平臺(tái)622、632及642的區(qū)。另外，第一到第四光束切割器911、912、913及914中的每一者由容易吸收激光的鋁(Al)形成。另外，因?yàn)榈谝坏降谒墓馐懈钇?11、912、913及914分別經(jīng)由第一到第四熱屏蔽部件921、922、923及924間接連接到基部610及第一到第三平臺(tái)622、632及642，所以第一到第四光束切割器911、912、913及914與基部610及第一到第三平臺(tái)622、632及642分離。因此，因?yàn)閺膱D像形成系統(tǒng)800反射及散射的激光束入射到第一到第四光束切割器911、912、913及914且吸收于其中，所以防止激光束直接入射到基部610及第一到第三平臺(tái)622,632及642。另外，第一到第四光束切割器911、912、913及914由入射的激光束加熱。此時(shí)，從第一到第四光束切割器911、912、913及914發(fā)射的高溫?zé)岱謩e由第一到第四熱屏蔽部件921、922、923及924吸收，且因此防止其轉(zhuǎn)移到基部610及第一到第三平臺(tái)622、632及642。因此，防止由從圖像形成系統(tǒng)800反射及散射的激光束產(chǎn)生的熱轉(zhuǎn)移到基部610及第一到第三平臺(tái)622、632及642，從而防止基部610及第一到第三平臺(tái)622、632及642的熱變形。另外，因?yàn)檠谀Ｖ文K600的至少基部610及第一到第三平臺(tái)622、632及642由具有極好的耐熱性的不脹鋼形成，所以其熱變形得以最小化。
[0048]前述描述中已例示了用于在空穴傳輸層上形成發(fā)射層的激光熱處理設(shè)備。然而，本發(fā)明并不限于此，且因此可應(yīng)用于使用激光的各種設(shè)備，其條件是掩模支撐模塊600安裝于圖像形成系統(tǒng)800上方。
[0049]因此，光束切割器910(911、912、913及914)經(jīng)安裝以對(duì)應(yīng)于掩模支撐模塊600的區(qū)，其中從圖像形成系統(tǒng)800反射的激光束被散射到掩模支撐模塊600。因此，由光束切割器910(911、912、913及914)來(lái)防止從圖像形成系統(tǒng)800反射及散射的激光束入射到掩模支撐模塊600。另外，熱屏蔽部件920(921、922、923及924)安裝于掩模支撐模塊600與光束切割器910 (911、912、913及914)之間以防止光束切割器910 (911、912、913及914)直接連接到掩模支撐模塊600，從而防止熱從光束切割器910 (911、912、913及914)轉(zhuǎn)移到掩模支撐模塊600。另外，因?yàn)檠谀Ｖ文K600由對(duì)熱變形具有抵抗性的不脹鋼形成，所以防止掩模支撐模塊600因從散射激光產(chǎn)生的熱而變形。因此，根據(jù)實(shí)施例，防止掩模熱變形，且因此防止其未對(duì)準(zhǔn)。因此，掩模的重新對(duì)準(zhǔn)為不必要的，從而減少處理時(shí)間。
[0050]盡管已參考具體示范性實(shí)施例描述了激光熱處理設(shè)備，但其并不限于此。因此，所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員將容易理解，在不脫離通過(guò)所附權(quán)利要求書(shū)定義的本發(fā)明的精神和范圍的情況下，可以對(duì)其進(jìn)行各種修改和變化。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種激光熱處理設(shè)備，其包括: 具有內(nèi)部空間且容納襯底的腔室； 安裝于所述腔室之外且使激光振蕩的振蕩器； 安置于所述腔室的上側(cè)之外的掩模； 經(jīng)配置以支撐所述掩模的掩模支撐模塊； 安置于所述掩模支撐模塊之下以聚焦穿過(guò)所述掩模的所述激光的圖像形成系統(tǒng)；以及光束切割器，其安裝于所述掩模支撐模塊與所述圖像形成系統(tǒng)之間以對(duì)應(yīng)于其中從所述圖像形成系統(tǒng)反射的激光束被散射到所述掩模支撐模塊的區(qū)，從而防止從所述圖像形成系統(tǒng)反射及散射的所述激光束入射到所述掩模支撐模塊。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光熱處理設(shè)備，其中所述掩模支撐模塊包括: 安置于所述圖像形成系統(tǒng)上方的基部； 在所述基部上方在X軸方向上延伸的第一滑軌； 安裝于所述第一滑軌上以沿著所述第一滑軌滑動(dòng)的第一平臺(tái)； 在所述第一平臺(tái)上方在Y軸方向上延伸的第二滑軌； 安裝于所述第二滑軌上以沿著所述第二滑軌滑動(dòng)的第二平臺(tái)； 安裝于所述第二滑軌上以沿著所述第二滑軌滑動(dòng)的第二平臺(tái)； 可旋轉(zhuǎn)地安裝于所述第二平臺(tái)上的第三平臺(tái)；以及 安裝于所述第三平臺(tái)上以支撐所述掩模的掩模支架， 其中所述基部、所述第一平臺(tái)、所述第二平臺(tái)、所述第三平臺(tái)及所述掩模支架是由不脹鋼形成。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的激光熱處理設(shè)備，其中所述光束切割器安裝于所述基部及所述第一平臺(tái)、所述第二平臺(tái)、所述第三平臺(tái)中的每一者的下部部分上，且 所述光束切割器對(duì)應(yīng)于其中從所述圖像形成系統(tǒng)反射的所述激光束被散射到所述掩模支撐模塊的區(qū)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的激光熱處理設(shè)備，其包括安裝于所述基部及所述第一平臺(tái)、所述第二平臺(tái)、所述第三平臺(tái)中的每一者的下部部分上的熱屏蔽部件， 其中所述光束切割器的至少一部分連接到所述熱屏蔽部件的下部部分，且因此與所述基部及所述第一平臺(tái)、所述第二平臺(tái)、所述第三平臺(tái)中的每一者的下部部分間隔開(kāi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的激光熱處理設(shè)備，其中所述熱屏蔽部件包括陶瓷。
6.根據(jù)權(quán)利要求1到4中任一權(quán)利要求所述的激光熱處理設(shè)備，其中所述光束切割器具有具安置于至少一個(gè)指向所述圖像形成系統(tǒng)的表面上的多個(gè)突起部的形狀。
7.根據(jù)權(quán)利要求1到4中任一權(quán)利要求所述的激光熱處理設(shè)備，其中所述光束切割器由鋁形成。
【專利摘要】本發(fā)明提供一種激光熱處理設(shè)備，其包含：經(jīng)配置以支撐掩模的掩模支撐模塊；及光束切割器，其安裝于所述掩模支撐模塊與所述圖像形成系統(tǒng)之間以對(duì)應(yīng)于其中從所述圖像形成系統(tǒng)反射的激光束被散射到所述掩模支撐模塊的區(qū)，從而防止從所述圖像形成系統(tǒng)反射及散射的所述激光束入射到所述掩模支撐模塊。因此，由光束切割器防止從所述圖像形成系統(tǒng)反射及散射的激光束入射到所述掩模支撐模塊。另外，熱屏蔽部件安裝于所述掩模支撐模塊與所述光束切割器之間以防止所述光束切割器直接連接到所述掩模支撐模塊，從而防止熱從所述光束切割器轉(zhuǎn)移到所述掩模支撐模塊。
【IPC分類(lèi)】H01L21-324, H01L21-67
【公開(kāi)號(hào)】CN104576449
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201410563445
【發(fā)明人】梁相熙, 沈亨基, 金鍾明
【申請(qǐng)人】Ap系統(tǒng)股份有限公司
【公開(kāi)日】2015年4月29日
【申請(qǐng)日】2014年10月21日